Depositionを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 17021件
The liquid crystal panel comprises a pair of substrates (10, 30) opposing to each other and laminated with a sealing material (40), wherein a vapor deposition film (16) is disposed on at least one substrate of the pair of substrates, and a projection (38) is laid in a part where the sealing material (40) is disposed on the one substrate.例文帳に追加
一対の基板(10,30)を対向してシール材(40)を介して貼り合わせた液晶パネルであって、前記一対の基板のうち、少なくとも一方の基板には蒸着膜(16)が配置されており、前記一方の基板上における前記シール材(40)が配置されている部位には突起(38)を設けた。 - 特許庁
A pixel section 111 is divided into a plurality of pixel rows by a bank 121, and a head section 115 of a thin film deposition device is scanned along a pixel row to simultaneously apply application liquid 114a for a red light-emitting layer, application liquid 114b for a green light-emitting layer, and application liquid 114c for a blue light-emitting layer in stripe shapes.例文帳に追加
画素部111をバンク121により複数の画素列に分割し、薄膜形成装置のヘッド部115を画素列に沿って走査することにより、赤色発光層用塗布液114a、緑色発光層用塗布液114b、青色発光層用塗布液114cを同時にストライプ状に塗布する。 - 特許庁
For example, the post-injection advance correcting amount guard means restricts the advance correcting amount in accordance with the ignition retard of the injected fuel relating to the post-injection, and the post-injection retard correcting amount guard means restricts the retard correcting amount in accordance with the deposition of the injected fuel relating to the post-injection to an in-cylinder wall face.例文帳に追加
例えば、後噴射進角補正量ガード手段は、後噴射に係る噴射燃料の着火遅れに基づいて進角補正量を制限し、後噴射遅角補正量ガード手段は、後噴射に係る噴射燃料の筒内壁面への付着に基づいて遅角補正量を制限する。 - 特許庁
In a method for manufacturing an organic EL display device, an organic compound layer is formed by vapor deposition after a layer used for patterning the organic compound layer has been formed, and thereby, the organic compound layer such as a luminous layer is formed at a uniform film thickness without being affected by the surface tension at a side face of the layer used for patterning the organic compound layer.例文帳に追加
有機化合物層をパターニングするための層を設けた後は、有機化合物層を蒸着法により形成することで、有機化合物層をパターニングするための層の側面部の表面張力の影響を受けずに、均一な膜厚で発光層などの有機化合物層を形成する。 - 特許庁
To provide a manufacturing process of a quartz glass crucible for silicon single crystal pulling, which enables prevention of localized concentration of electrode arc heating of raw material quartz glass in a frame mold, thereby preventing deposition of evaporated matter from the raw material quartz glass on the electrode, etc., and accordingly prevention of falling of the deposited matter afterward, to inhibit reduction in purity of a quartz glass crucible manufactured.例文帳に追加
この発明は、石英ガラスルツボの製造において、電極アークの加熱が型枠内の原料石英ガラスの局所に集中しないようにし、これによって石英ガラスからの蒸発物質が電極などに付着して、その後これらが落下して石英ガラスルツボの純度を低下しないようにしたものである。 - 特許庁
To provide a mold release film which has a very small quantity of oligomer deposition, and is suitable for producing various display constitution members, for example, for producing a liquid crystal constitution member such as an LCD polarizing plate and a wave plate, for producing a PDP constitution member, for producing an organic EL constitution member, and is suitable for various optical uses.例文帳に追加
オリゴマー析出量が極めて少なく、例えば、LCD用偏光板、位相差板等の液晶構成部材製造用、PDP構成部材製造用、有機EL構成部材製造用等、各種ディスプレイ構成部材製造用のほか、各種光学用途等に好適な離型フィルムを提供する。 - 特許庁
The packaging laminate is constituted by integrally stacking at least an inorganic vapor deposition thin film layer and an inorganic filler-containing resin thin film layer 5 between a plastic base material 2 for an inner layer and a plastic base material 1 for an outer layer so that the inorganic filler-containing resin thin film layer 5 is positioned on the side of the plastic base material for the outer layer.例文帳に追加
少なくとも無機蒸着薄膜層と無機フィラー含有の樹脂薄膜層とが内層用のプラスチック基材と外装用のプラスチック基材との間に前記無機フィラー含有の樹脂薄膜層が前記外装用のプラスチック基材側に位置するように積層、一体化されていることを特徴とする。 - 特許庁
Meanwhile, if the calculated developing bias is not equal to or is larger than the lower limit value, that is, below the lower limit value, this means that the toner consumption is out of the normal range, then the toner consumption is predicted based on the largest toner deposition amount (108); and the toner image is formed with the last developing bias, when the toner concentration adjusting operation is successful (109).例文帳に追加
一方、下限値以上でなければ、言い換えれば下限値未満であれば、正常範囲から外れているので、最大のトナー付着量によりトナー消費予測を行い(108)、前回、トナー濃度調整動作が成功したときの現像バイアスによりトナー画像を形成する(109)。 - 特許庁
To provide a thin film manufacturing method and a thin film manufacturing system by which the deposition of a film in which clusters, etc., of metal particles are formed into nano-sized dot-like state on the surface of a base material can be facilitated and, when this film is used for various optical devices, etc., the miniaturization and performance enhancement of the devices can be easily attained.例文帳に追加
金属粒子のクラスターなどが基材表面上にナノサイズのドット状に形成された皮膜を形成することが容易であり、この皮膜を各種光学素子等に使用した場合に素子の小型化や高性能化を容易に達成できる薄膜の製造方法および薄膜製造装置を提供する。 - 特許庁
Transparent electrodes 14 are formed in a stripe shape at the prescribed pitch with a transparent electrode material such as ITO on the surface of a transparent substrate 12 made of glass or a resin, and a luminescent layer made of an EL material is laminated on the transparent electrodes 14 by the vacuum thin film forming technique such as deposition.例文帳に追加
ガラスや樹脂等の透明な基板12の表面にITO等の透明な電極材料により所定のピッチでストライプ状となるように透明電極14を形成し、この透明電極14にEL材料からなる発光層を蒸着等の真空薄膜形成技術により積層する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a semiconductor element for lowering contact resistance, improving the leakage current characteristic of a junction part and manufacturing an ultrahigh integrated semiconductor element by increasing the thickness of Ti vapor deposition and making Si atom consumption in the junction part to be minimum.例文帳に追加
TiSi_2層の形成時、Ti蒸着厚さを厚くし且つ接合部内のSi原子消耗を最小化することにより、コンタクト抵抗を低め接合部の漏洩電流特性を向上させて超高集積半導体素子の製造を実現することができる半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁
A magnetic layer 2 having a ferromagnetic metal thin film having film thickness of 100 nm or less is formed at a main plane of a non-magnetic supporter of long-length, a protective layer 3 containing carbon formed by the chemical vapor deposition utilizing an ion source including the hollow cathode is formed on its upper layer.例文帳に追加
長尺状の非磁性支持体1の一主面に、100nm以下の膜厚を有する強磁性金属薄膜を有する磁性層2が形成され、その上層に、ホローカソードを含むイオン源を利用する化学気相成長法により形成された炭素を含有する保護層3が形成された構成の磁気記録媒体とする。 - 特許庁
To stably incorporate a water-insoluble compound having a mercapto or thione group into a neutralizing solution (stabilizing solution) or an etching solution as a plate surface treating solution for a planographic printing plate utilizing image silver as ink receptivity without substantially using an organic solvent and to prevent the deposition of the compound in storage at a low temperature.例文帳に追加
画像銀をインキ受理性として利用する平版印刷版の版面処理液である中和液(安定液)やエッチ液に於いて、実質的に有機溶剤を使用せずに、メルカプト基またはチオン基を有する水不溶性の化合物を安定に含有させ、かつ、低温保管中における前記化合物の析出を防止する。 - 特許庁
The cathode electrode is a cathode electrode for the plasma source of a vacuum deposition system for depositing a coating film particularly on a optical substrate, and this cathode electrode is composed of a material which has at least 3 eV energy band gap (wide band gap), preferably the maximal one, between the energy bands.例文帳に追加
特に光学的基板上にコーティング膜をつけるための真空蒸着装置のプラズマ発生源用のカソード電極において、カソード電極は、少なくとも部分的にエネルギーバンドの間に少なくとも3eVの好ましくは最大可能なエネルギーバンドギャップ(ワイドバンドギャップ)を有する材料から成ることを特徴とするカソード電極。 - 特許庁
When a distance between a vapor deposition source for forming the organic layer and a surface of the luminescent layer is defined as L(cm), the vapor deposition of the organic layer is performed under a condition satisfying 2.0≤Tb/L^2≤80.例文帳に追加
陽極、発光層、発光層に隣接する有機層、陰極をこの順に含む有機電界発光素子の作製方法であって、 前記発光層上への前記有機層の蒸着による形成に際し、 前記有機層を構成する成分のうち、1×10^−2Paにおける昇華開始温度が最も高い成分について、その昇華開始温度Tb(℃)が、前記発光層に最も多く含まれる成分のガラス転移温度をTem(℃)とした時に、0.60≧Tem/Tb≧0.30を満足し、 前記有機層を製膜する際の蒸着源と前記発光層の表面との距離をL(cm)とした時、2.0≦Tb/L^2≦80を満足する条件にて、前記有機層の蒸着を行うことを特徴とする有機電界発光素子の作製方法。 - 特許庁
An amorphous oxychalcogenide system thin film 102 is grown on a substrate 101 comprising a YSZ substrate, a MgO substrate, or the like, by the pulse laser deposition method and the sputtering method, and a single-crystal oxychalcogenide system thin film 103 is formed by crystallizing the amorphous oxychalcogenide system thin film 102 by the reactive solid-phase epitaxial growth method.例文帳に追加
YSZ基板やMgO基板などからなる基板101上にパルス・レーザ・デポジション法やスパッタリング法などによりアモルファスオキシカルコゲナイド系薄膜102を成長させ、このアモルファスオキシカルコゲナイド系薄膜102を反応性固相エピタキシャル成長法により結晶化させることにより単結晶オキシカルコゲナイド系薄膜103を形成する。 - 特許庁
To provide a selective electroless plating method which does not use any precious metal catalyst such as palladium and silver, and accepts the loose limit of combination of an electroless plating system with metal for deposition, and to provide a method which allows metal more basic than base metal to be selectively deposited by the electroless plating without using any precious metal catalyst such as palladium and silver.例文帳に追加
パラジウムや銀などの貴金属触媒を使用せず、無電解めっきシステムと積層する金属の組み合わせの制限が緩い選択的な無電解めっき方法、パラジウムや銀などの貴金属触媒を使用することなく、下地の金属より卑な金属を無電解めっき方法により選択的に積層する方法を提供する。 - 特許庁
The method for forming the deposition film is characterized by using an apparatus having several toroidal raw-gas introduction pipes for introducing a raw gas for forming the film into the above cylindrical reaction vessel, installed in the circumferential direction of the coaxial cylindrical support and in the longitudinal direction of the above cylindrical support.例文帳に追加
成膜用原料ガスを前記円筒状反応容器内に導入する原料ガス導入管がリング状であり、同軸上の該円筒状支持体の周方向に沿って設けられており、かつ前記円筒状支持体の長手方向に複数設置されている事を特徴とする堆積膜形成方法、ならびにそれに用いられる装置。 - 特許庁
In a manufacturing method for a semiconductor device having a device isolating embedded oxide film, after an isolating trench is formed in a silicon semiconductor substrate, the embedded oxide film is embedded using the same plasma CVD apparatus in the isolating trench, by executing successive film formation processings altering processing conditions (deposition/ sputtering ratio) plurality of times.例文帳に追加
素子分離埋め込み酸化膜を有する半導体装置の製造方法において、シリコン半導体基板に分離溝を形成した後に、同一のプラズマCVD装置を用いて、処理条件(デポジション/スパッタリング比)を変更した複数回の連続した成膜処理を実行することにより、前記分離溝に埋め込み酸化膜を埋設する。 - 特許庁
The method comprises the step of forming an SiO_2 film of a substrate having a photocatalytic film on the surface by chemical vapor deposition with a raw material gas containing a monosilane and an alcohol to obtain a substrate fitted with a hydrophilic film and having the TiO_2 film and the SiO_2 film on the substrate in the given order.例文帳に追加
表面に光触媒性のTiO_2膜を有する基板の前記TiO_2膜上に、モノシランおよびアルコールを含有する原料ガスを用いて、化学蒸着法によりSiO_2膜を形成させて、基板上にTiO_2膜およびSiO_2膜をこの順に有する親水膜付き基板を得る工程を具備する、親水膜付き基板の製造方法。 - 特許庁
To provide a method for reducing, minimizing or avoiding deposition of metal or metal oxide particles on various constituents in high temperature/high flow rate water by plating one or more noble metals on the surface so as to avoid or minimize corruption on the constituents surface due to interaction between floating particles and the constituent surface.例文帳に追加
浮遊粒子と構成部品表面とが相互作用して該構成部品表面の汚損を排除又は最少化するように該表面に対して1つ又はそれ以上の貴金属を施工することによって、高温/高流量水内の様々な構成部品上への金属又は金属酸化粒子の堆積を軽減、最少化又は排除する方法に関する。 - 特許庁
The metal film forming method comprises a first step of depositing a first metal film 2 formed of a substance forming a catalyst for the electroless plating on a base material 1 by using a vacuum thin film deposition apparatus, and a second step of depositing a second metal film 4 by depositing a metal while applying the electroless plating with the first metal film 2 as the catalyst.例文帳に追加
基材1上に、真空系薄膜形成装置を用いて、無電解めっきの触媒となる物質からなる第1の金属膜2を形成する、第1の工程と、第1の金属膜2を触媒として、無電解めっきを適用しながら金属を成膜することによって、第2の金属膜4を形成する、第2の工程とを実施する。 - 特許庁
The organic EL element sealing film 11 has a vapor deposition membrane 13 of silicon oxide or aluminum on the surface of a gas barrier resin film 12 and is laminated with a moisture absorption resin film 14 having dispersed moisture absorbent on its rear surface, and an adhesive layer 15 is provided on the surface of this moisture absorption resin film.例文帳に追加
本発明による有機EL素子用封止用フィルム11は、ガスバリヤ性樹脂フィルム12の表面にケイ素酸化物又はアルミニウムの蒸着膜13を有せしめると共に、裏面に吸湿剤を分散させた吸湿性樹脂フィルム14を積層し、この吸湿性樹脂フィルムの表面に接着剤層15を有せしめてなることを特徴とする。 - 特許庁
The electro-chemical deposition system comprises a mainframe 214 having a mainframe wafer transfer robot, a loading station 210 disposed connecting with the mainframe 214, a rapid thermal anneal chamber 211 disposed adjacent to the station 210, one or more processing cells 240 disposed relating to the mainframe 214, and an electrolyte supply fluidly coupled to the cells 240.例文帳に追加
電気化学堆積システムは、メインフレームウェハ移送ロボットを有するメインフレームと、メインフレームと接続して配置されたローディングステーションと、ローディングステーションに隣接して配置された急速熱アニールチャンバと、メインフレームと関連付けて配置された1つ又はそれ以上の処理セルと、1つ又はそれ以上の処理セルと流体接続した電解質供給源とを備える。 - 特許庁
The magnetic recording medium wherein the underlayer made of at least metal or an alloy and the granular magnetic layer made of ferromagnetic metal particles and a non-magnetic oxide are formed by a vacuum-deposition method on at least one surface of a supporting body has 1 to 100 Ω/square surface resistivity.例文帳に追加
支持体の少なくとも一方の面に、真空成膜法により少なくとも金属または合金からなる下地層、強磁性金属粒子と非磁性酸化物からなるグラニュラ磁性層を形成した磁気記録媒体であって、該媒体の表面抵抗率が1Ω/□以上100Ω/□以下の範囲であることを特徴とする磁気記録媒体。 - 特許庁
The advanced encryption standard (AES) analyzing apparatus comprises an electron gun 4 for emitting a specific electron beam against the insulating material sample 10, an electron energy analyzer 5 for analyzing the energy of an Auger electron emitted from the sample 10 and a vapor deposition source 6 for forming a lithium conductive film on the sample 10.例文帳に追加
本発明のAES分析装置は、真空槽2内に、絶縁性試料10に対して所定の電子ビームを照射するための電子銃4と、絶縁性試料10から放出されたオージェ電子のエネルギーを分析する電子エネルギー分析器5と、絶縁性試料10に対してリチウム導電膜を形成するための蒸着源6とを有する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a cylindrical seamless nickel belt by which good resistance to metal fatigue, a large deposition amount of an electrodeposited film and high productivity are ensured, and to provide a functionally separated organic photoreceptor using the nickel belt as a substrate, free of cracking even near the durability limit of printing and not causing problems such as image defects.例文帳に追加
金属疲労に対する耐久性が良好で、かつ電析膜の析出量が大きく生産性の高い円筒状継ぎ目無しニッケルベルトの製造方法と、当該ニッケルベルトを基体とした耐久枚数付近でも亀裂を発生することがなく画像欠陥などの問題を生じることのない機能分離型有機系感光体を提供する。 - 特許庁
By this method for depositing a thin film on a supporting body 20 by performing vacuum vapor deposition, a reactive gas is introduced using a nozzle 40 composed of an assembly of a plurality of thin tubes, the heated reactive gas is introduced to the part for depositing the thin film as an assembly of divided gas flux.例文帳に追加
反応性ガスを導入しながら真空蒸着を行なうことにより支持体20上に薄膜を製造する方法であって、複数の細管の集合体からなるノズル40を用い、加熱された前記反応性ガスを分割されたガス流束の集合体として前記反応性ガスを前記薄膜の形成部分へ導入する。 - 特許庁
To reduce wear of a high-sensitivity magnetoresistance effect type magnetic head capable of obtaining high sliding durability without generating magnetic spacing loss and increasing the capacity, in a magnetic tape in which a carbon protective film 3 is formed on a metal magnetic film 2 on a nonmagnetic support body, by a chemical vapor deposition method.例文帳に追加
非磁性支持体上の金属磁性膜2に、化学的気相成長法によってカーボン保護膜3を形成した磁気テープにおいて、磁気的スペーシング損失を発生させることなく高耐摺動性が得られるとともに、高容量化が実現できる感度の高い磁気抵抗効果型の磁気ヘッドの摩耗を軽減することができるようにする。 - 特許庁
To provide an oriented piezoelectric layer with a simpler configuration having piezoelectric properties optimum as a liquid discharge head using a direct deposition method, and a liquid discharge head having a layer structure of a piezoelectric actuator capable of utilizing to the maximum the electric field applied to the oriented piezoelectric layer even when using a transfer method and exhibiting a superior piezoelectric performance.例文帳に追加
直接成膜法を用いて液体吐出ヘッドとして最適な圧電特性を持つ配向した圧電体層をより簡略な構成で提供すること、更に転写法を利用した場合でも、配向した圧電体層に加わる電界を最大限利用できる圧電アクチュエータの層構成を持ち、優れた圧電性能をもつ液体吐出ヘッドを提供する。 - 特許庁
The thin ferroelectric films having uniaxial preferential orientability are manufactured by forming ≥2 kinds of the thin ferroelectric films having a plurality of kinds of the preferential orientability on a polycrystalline Pt film formed on a substrate of any among a single crystal, polycrystals, or amorphous material by using an a chemical solution deposition process and an arc discharge reactive ion plating process.例文帳に追加
化学溶液堆積法とアーク放電反応性イオンプレーティング法を用いて、単結晶、多結晶、非晶質の何れかの基体上に形成された多結晶のPt膜上に、2種類以上の複数種の優先的な結晶配向性の強誘電体酸化物薄膜を形成し、1軸優先配向性の強誘電体薄膜を作製する。 - 特許庁
The optical element 10 has the structure obtained by successively laminating the ruthenium lower electrode 14 which is formed by a pulse laser deposition process, a thin lithium niobate film 16 which is the electro-optic effect material heteroepitaxially grown thereon and an upper electrode 20 which consists of a metallic material on the hexagonal sapphire substrate 12 having a composition of Al_2O_3.例文帳に追加
光学素子10は、Al_2O_3の組成を有する六方晶のサファイア基板12上に、パルスレーザデポジション法によって形成したルテニウム下部電極14,その上にヘテロエピタキシャル形成した電気光学効果物質であるニオブ酸リチウム薄膜16,金属材料による上部電極20,を順に積層した構造をとっている。 - 特許庁
The polymiide multilayer endless belt that is useful as the intermediate transfer member for the image forming apparatus includes: (A) a substrate layer made from polyimide, whose surface is activated by a physical activating means; and a surface layer made of a polyimide thin film formed on the surface of the substrate layer by a vapor deposition polymerization of pyromellitic anhydride and diamine.例文帳に追加
(イ)表面が物理的活性化手段によって活性化されたポリイミドで構成される基体層と、(ロ)該基体層の表面に無水ピロメリット酸及びジアミンの蒸着重合によって形成されたポリイミド薄膜で構成される表面層と、を有する画像形成装置用の中間転写体として有用なポリイミド多層無端ベルトとする。 - 特許庁
This method includes: (i) a process of determining at least one beam quality index representing the radiation beam being used; and (ii) a process of calculating the radiation dose distribution in the specific beam field using parameterized dose deposition kernels based on at least one beam quality index.例文帳に追加
本発明による方法は、i)使用中の前記放射線ビームを表現する少なくとも1つのビーム品質指数を決定する工程と、ii)前記少なくとも1つのビーム品質指数に基づいてパラメータ化した線量沈着カーネルを用いて前記特定ビームフィールドに於ける前記放射線量分布を計算する工程とを特徴とする。 - 特許庁
The method for forming the thin film of diamond-like carbon on the substrate by a pulsed laser deposition method using the polymer as a target, is characterized by employing a linear structured polymer having a benzene ring in the molecule as a target, and irradiating the target with an ultraviolet-light pulsed laser having a pulse width of 50 ns or less.例文帳に追加
ポリマーをターゲットとして使用するパルスレーザーデポジション法によって基板上にダイヤモンド様炭素薄膜を形成する方法において、分子内にベンゼン環を有する線状構造ポリマーをターゲットとして使用し、これにパルス幅が50ns以下の紫外光パルスレーザーを照射することを特徴とするダイヤモンド様炭素皮膜の形成方法。 - 特許庁
To provide a substrate transfer method of a vacuum processing apparatus performing heating treatment and surface treatment such as deposition process to substrates while manufacturing various kinds of electronic apparatuses, which constantly and securely holds each substrate in a tray even when a substrate transfer mechanism transfers the substrate to the tray with low accuracy.例文帳に追加
各種電子装置の製造で、基板に対して加熱処理や成膜処理等の表面処理を施す真空処理装置の基板の搬送方法であって、基板移載時におけるトレイへの基板移載機構の精度が低い場合においても、トレイに対して基板を常に安定して保持させることが可能な基板の搬送方法を提供する。 - 特許庁
A particulate detector includes a collection member which is exposed to exhaust gas, is formed into a shape for branching exhaust gas in a contact part with exhaust gas, and collects particulates included in exhaust gas, and detection means which detects the occurrence of leakage of particulates or the occurrence of deposition of particulates based on particulates collected by the collection member.例文帳に追加
微粒子検出装置は、排気ガスに晒され、排気ガスとの接触部分において排気ガスを分岐させる形状に形成され、排気ガス中に含まれる微粒子を捕集する捕集部材と、捕集部材に捕集される微粒子に基づいて、微粒子の漏れが生じたこと又は微粒子の堆積が生じたことを検知する検知手段と、を備える。 - 特許庁
To provide a space-saving mechanism preventing toner clogging arising from adhesion or deposition of toner to alleviate deterioration of the mechanism with the lapse of time and troubles such as toner scattering, in the toner conveyance mechanism including a toner conveyance route surface with downward inclination toward a toner conveyance means 52, for receiving the dropping toner to deliver it to the toner conveyance means 52.例文帳に追加
落下するトナーを受けてトナー搬送手段52へ受け渡す、トナー搬送手段52に向って下り傾斜のトナー搬送経路面を有するトナー搬送機構において、トナーの付着、堆積から生じるトナー詰まりを防止し、機構の経時的な劣化やトナーの飛散等のトラブルを緩和するとともに省スペースな機構を提供する。 - 特許庁
To provide an autocatalytic electroless gold-plating bath that is an electroless gold-plating liquid usable for the purpose of further forming a gold plating film autocatalytically on a displacement-plated gold film formed on an electroless-plated nickel film, hardly causes deposition outside a pattern, hardly causes decomposition and sedimentation of the plating bath, and has superior stability.例文帳に追加
無電解ニッケルめっき皮膜上に形成された置換型の金めっき皮膜上に更に自己触媒的に金めっき皮膜を形成する目的等に使用できる無電解金めっき液であって、パターン外析出が発生し難く、めっき浴の分解、沈殿なども生じにくい、安定性に優れた新規な自己触媒型無電解金めっき浴を提供する。 - 特許庁
The production method for the carbon composition material for the reducing atmosphere furnace is carried out by using metal Ta as a target material and the reactive gas containing C and forming the tantalum carbide coating film on the graphite substrate having the above thermal expansion coefficient as the characteristic value by an arc ion plating (AIP) type reactive vapor deposition method.例文帳に追加
また、本発明の還元性雰囲気炉用炭素複合材料の製造方法は、ターゲット材としての金属Ta及びCを含む反応ガスを使用してアークイオンプレーティング(AIP)式反応性蒸着法により上記の熱膨張係数を特性値として有する黒鉛基材の表面に炭化タンタルの皮膜を形成する。 - 特許庁
To provide a composition for oral cavity, having more effective dental plaque-inhibitory effect than dextranase which has high plaque-inhibitory efficiency and high safety and is practically used among provided effective ingredients suppressing formation and deposition of the plaque causing periodontal diseases such as dental caries, gingivitis and pyrorrhea alveolaris.例文帳に追加
歯垢はう蝕、歯肉炎や歯槽膿漏等の歯周病を惹起させることから、歯垢の形成、付着を抑制する有効成分の探索が種々行われており、中でもデキストラナーゼは歯垢抑制効率が高く、安全性も高いことから、実用に供されているが、更に有効に歯垢抑制効果を有する口腔用組成物の提供。 - 特許庁
Of radiological image conversion panels having a photostimulable phosphor layer containing alkali metal halide based phosphors prepared by the vapor-phase deposition method on a supporting medium, the radiological image conversion panel is characterized by indicating 1.0 to 1.5 of alkali/halaide ratio in surface elementary composition of the alkali metal halide based phosphors concerned.例文帳に追加
支持体上に気相堆積法により設けられたアルカリ金属ハロゲン化物系蛍光体を含有する輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルにおいて、該アルカリ金属ハロゲン化物系蛍光体の表面元素組成におけるアルカリ/ハライド比率が1.0〜1.5であることを特徴とする放射線画像変換パネル。 - 特許庁
The tin alloy elctroplating method comprises adding at least one dissolution current suppressing agent selected from the group consisting of glutamic acid-N, N-diacetic acid, methyl glycine-N, N-diacetic acid, aspartic acid and their salts to the tin electroplating bath to suppress the dissolution current of the anode and to attain the prevention of the substitution deposition of the noble metals to the anode during the electrodeposition.例文帳に追加
スズ合金電気メッキ浴に、グルタミン酸−N,N−二酢酸、メチルグリシン−N,N−二酢酸、アスパラギン酸及びこれらの塩よりなる群から選ばれた溶解電流抑制剤の少なくとも一種を添加して、陽極の溶解電流を抑制し、電析中に貴な金属の陽極への置換析出を防止可能にしたスズ合金電気メッキ方法である。 - 特許庁
To provide electrode structure for a piezoelectric vibration element and a frequency adjusting method which never uses a precise and expensive mask and unnecessitates the element value adjustment of each circuit element after incorporating it in an oscillation circuit in the case of adjusting a resonance frequency by a method of adding mass to one exciting electrode by a vapor deposition device.例文帳に追加
蒸着装置により一方の励振電極に質量を付加する手法によって共振周波数を調整する際に、高精度で高価なマスクを使用することなく、また発振回路に組み込んだ後での各回路素子の素子値調整も不要な圧電振動素子の電極構造及び周波周調整方法を提供する。 - 特許庁
In particular, a skin of biocompatible metal is formed on a polymer foam by low temperature arc vapor deposition, the polymer foam and the metal skin are heated above the decomposition temperature of the polymer foam in an inert gas atmosphere, and the polymer foam is decomposed to obtain an unsintered metal foam.例文帳に追加
具体的に、ポリマー発泡体に生物学的適合性を有する金属の薄膜を低温アーク蒸着法によって形成し、ポリマー発泡体と金属薄膜を不活性雰囲気内においてポリマー発泡体の分解温度よりも高い温度に加熱することによってポリマー発泡体を分解し、未焼結金属発泡体を作製する。 - 特許庁
To correctly measure the chromium deposition on a coating type chromate- treated metal sheet by using a color difference meter which is capable of receiving the specular reflecting light from the chromate-treated metal sheet and whose light reception part is an integrating sphere.例文帳に追加
クロメート塗布前の金属板色彩と、ウエット状態であるクロメート塗布後の金属板色彩とを色差計で個々に測定して、予め作成しておいた両色彩の色差とクロム付着量との相関関係とからクロメート皮膜のクロム付着量を測定する方法において、クロム付着量を正確に測定することのできる方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for continuously conveying slurry through suppressing crystallization and other solids deposition or the cloggings of slurry conveyance pipings associated with these phenomena as the most problematic points in the case of handling aqueous terephthalic acid slurry at high temperatures and pressures, thus keeping devices including the slurry conveyance pipings and valves in continuously operable conditions.例文帳に追加
テレフタル酸の水スラリーを高温高圧で取り扱う場合において、最大の問題点である結晶析出その他の固形物の堆積、又はこれに伴うスラリー輸送配管の閉塞を抑制し、スラリー輸送配管、弁などの装置を連続運転可能な状態に保つ連続的なスラリー送液方法を提供するものである。 - 特許庁
To provide a bright film and a reflective bright film capable of obtaining a variety of clear and beautiful metallic luster rich in metallic feeling and design and aesthetic properties by selectively reflecting light as compared with a conventional metal deposition film, and to provide a tinsel obtained by micro-slitting the film.例文帳に追加
従来の金属蒸着フィルムに比べ、より選択的に光を反射させることにより、多様で明確であり、かつメタリック感にあふれる、意匠性や審美性に富んだ、美麗な金属光沢を容易に得られることを可能とする光輝性フィルム及び反射光輝性フィルムと、これらのフィルムをマイクロスリットすることにより得られる金銀糸を提供することである。 - 特許庁
The deposit height measuring instrument includes current applying electrodes 11, 12 for applying a current within a plating bath and voltage measuring electrodes 21, 22 for measuring the voltage generated by the applied current; and estimates the deposition height of the deposits precipitated within the plating bath based on the voltage value measured between the voltage measuring electrodes 21, 22.例文帳に追加
堆積物高さ測定装置は、めっき浴内に電流を印加する電流印加用電極11,12と、その印加された電流によって発生する電圧を測定する電圧測定用電極21,22とを備え、電圧測定用電極21,22間で測定される電圧値に基づいて、めっき浴内に沈殿する堆積物の堆積高さを推定する。 - 特許庁
To provide a first agent for permanent wave containing cysteine as a main component preventing flaking, i.e., deposition of crystalline cystine and presenting beautiful ridges, i.e., beautiful curves and uniform waves when getting a perm, and a method for getting a permanent wave using the same.例文帳に追加
本発明は、システインを主剤とするパーマネントウエーブ用第1剤の欠点である施術時や保存時におけるシスチンの結晶の析出防止、所謂フレーキングを防止し、かつ、美しいリッジ(パーマをかけたときに、カーブがきれいになり、均一にパーマがかかることを言う)が得られる第1剤、および該第1剤を使用したパーマネントウエーブの施術法の提供を、目的とする - 特許庁
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