Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(327ページ目) - Weblio英語例文検索
[go: Go Back, main page]

1153万例文収録!

「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(327ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Depositionの意味・解説 > Depositionに関連した英語例文

セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

Depositionを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 17021



例文

In the pre-treatment for a lowermost-layer electroless Ni plating step, Pd catalyst is deposited on a tungsten sintered wiring body, and the PD catalyst sintered in a micro crack of a ceramic insulating body is removed, so that electroless Ni plating process with superior selectivity and no surplus deposition can be provided, even when the Ni plating is carried out again after heat treatment.例文帳に追加

最下層の無電解Niめっきの前処理でPd触媒をW焼結配線体に析出した後、セラミック絶縁体のマイクロクラックに浸透したPd触媒を除去することにより、熱処理後再度、Niめっきを施した場合に於いても、余分析出の発生しない選択性の優れた無電解Niめっきプロセスが提供される。 - 特許庁

An optical low-pass filter 1 being the optical element includes a contamination deposition prevention film 55 which is a thin film made of a fluorine-containing silane type compound and laminated on the low-pass filter substrate 10 as an optical substrate which is composed by laminating an infrared cutting filter film 12 as an optical thin film on a double refraction plate 11 as an optical substrate.例文帳に追加

光学素子としての光学ローパスフィルタ1は、光学基材としての複屈折板11上に、光学薄膜としての赤外カットフィルタ膜12が積層されてなる光学基板としてのローパスフィルタ基板10上に、フッ素含有シラン系化合物からなる薄膜である異物付着防止膜55が積層されて構成されている。 - 特許庁

The highest density region P1 and the lowest density region P2 in the test pattern TP are formed longer than the diameter of the detection window W, while the medium density pattern P3 is formed in such a manner that density regions with two different densities are inevitably included in the detection window W of the sensor 11 for detecting the deposition amount.例文帳に追加

そして、かかるテストパターンTPにおいて、最高濃度領域P1と最低濃度領域P2とを付着量検出センサ11の検出窓Wの直径よりも長く作成し、付着量検出センサ11の検出窓Wに必ず2つの異なる濃度の濃度領域が含まれるように中間濃度パターンP3を作成する。 - 特許庁

In the silicon oxide coating film formed on a plastic base material, the silicon oxide coating film is characterized by being formed by chemical vapor deposition of an organic silicone compound and an IR characteristic absorption of SiCH_3 at a wavenumber of 845-833 cm-1 being substantially zero and an IR absorbance ratio (A) of SiOH/SiO being at most 0.25.例文帳に追加

プラスチック基材上に形成されたケイ素酸化物被膜において、有機ケイ素化合物の化学蒸着により形成され、波数845〜833cm−1におけるSiCH_3の赤外特性吸収が実質上ゼロであり、且つSiOH/SiOの赤外吸光度比(A)が0.25以下であることを特徴とするケイ素酸化物被膜。 - 特許庁

例文

A mixture composed of carbon like chaff charcoal and silica is continuously made to give rise to the formation of SiC and the growth of crystals by using a metal compound forming a metal silicide having a melting point below 1,850°C as a reaction catalyst to SiC and using the dissolution to deposition process of SiC by metal silicide, by which the porous SiC ceramics is formed.例文帳に追加

もみがら炭のような炭素とシリカの混合物を1850℃以下の融点を持つ金属シリサイドを生成する金属化合物をSiCへの反応触媒とし、金属シリサイドによるSiCの溶解−析出プロセスを利用して,SiCの生成と粒成長を継続的におこさせ、多孔質SiCセラミックスを生成する。 - 特許庁


例文

The plasma processing method includes: product etching (step S1: processing of a sample including Ti material); thereafter carbon system deposition discharge for depositing a carbon system film on a Ti reaction product deposited on the surface of the processing chamber (step S2); and thereafter chlorine electric discharge for removing the carbon system film abd the Ti deposited on the surface of the processing chamber (step S3).例文帳に追加

製品エッチング(工程S1:Ti材料を含む試料の処理)後に、処理室表面に堆積するTi反応生成物に対してカーボン系膜を堆積させるカーボン系堆積放電(工程S2)と、その後に処理室表面に堆積するカーボン系膜とTiを除去する塩素系放電(工程S3)とを含むプラズマの処理方法とする。 - 特許庁

The filter 12a is formed by performing multilayer formation of films whose reflectance is different by a deposition method, and when an incident angle of light to the lens 12 is 0°, the wavelength where the transmittance of a long-wavelength side shows 50% is set at 630 to 680 nm, and the wavelength where the transmittance of a short-wavelength side shows 50% is set at 350 to 400 m.例文帳に追加

多層膜干渉フィルタ12aは、異なる反射率の膜を蒸着法により多層形成することにより形成されており、結像レンズ12への光線の入射角度が0°の時、長波長側の透過率が50%を示す波長を630〜680nmとし、短波長側の透過率が50%を示す波長を350〜400mとする。 - 特許庁

Also, near an excimer beam extracting window member close to a lamp, the illuminance of excimer beam is high, and the radical oxygen or ozone (O3) tends to accur, so that selectively suppressing the deposition of the oxide film of the window member, effectively suppressing the attenuation of light output with time, and hence preventing the formation of the oxide film on the wafer from being impaired.例文帳に追加

またランプに近いエキシマ光取出窓部材近傍では、エキシマ光の照度が高く、ラジカル酸素またはオゾン(O_3)がより発生し易いため、窓部材の酸化膜の堆積を選択的に抑制し、光出力の経時的減衰を効果的に抑制するので、これによりウエハ上の酸化膜形成が損なわれることもない。 - 特許庁

The method for producing the oxide superconducting film, which forms a thick oxide superconducting film by repeating: a thin film forming step of forming an oxide superconducting thin film on a substrate by using a physical vapor deposition method, and repeating the process to form a film having a predetermined thickness; and a smoothing step of smoothing a surface of the formed oxide superconducting thin film.例文帳に追加

基板上に物理蒸着法を用いて酸化物超電導薄膜を形成することを繰り返して所定の厚みの成膜を行う薄膜成膜工程と、成膜された酸化物超電導薄膜の表面を平滑化する平滑化工程とを繰り返して厚膜の酸化物超電導膜を形成する酸化物超電導膜の製造方法。 - 特許庁

例文

To obtain a method of image forming and an image forming device which can reliably reduce the amount of developer deposition from each developing device to the non-imaging part of an image carrier in the method of image forming and the image forming device which form images by moving a plurality of developing devices to a developing position being a counter position to the image carrier.例文帳に追加

複数の現像器を像担持体との対向位置である現像位置に移動させながら画像を形成する画像形成方法及び画像形成装置において、各現像器から像担持体の非画像部への現像剤付着量を確実に低減することができる画像形成方法及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a decoration sheet which can be colored and form a pattern-like or a semitransparent hologram layer and is resultantly excellent in design effect and useful for forming cards or the like, wherein the decoration sheet may be insufficient in the heat-resistance of a base material to be transferred and further has a hologram layer which does not use a vapor deposition method, and its manufacturing method.例文帳に追加

被転写基材の耐熱性が不十分であってもよく、さらに蒸着方法を使用しないホログラム層を有する装飾シートであって、しかも、着色あるいはパターン状若しくは半透明のホログラム層も形成でき、従って意匠性に優れ、カードなどの形成に有用な装飾シートおよびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The deposition of the stain is determined with the provision that a measuring time from emission up to the reception of reflected beam out of the plurality of emitted laser beams is shorter than a prescribed measuring time, and that the number of the laser beams having intensity of exceeding an upper threshold V1 is the first prescribed number or more in photoreceived pulses of the reflected beam.例文帳に追加

そこで、複数照射されるレーザ光の中で、照射からその反射光が受光されるまでの計測時間が所定計測時間より短く、かつ反射光の受光パルスが上閾値V1を超えるほど強度が強いレーザ光が第1の所定数以上であることを条件として、汚れが付着していると判定する。 - 特許庁

To provide a method for cleaning deposition film forming device, by which a high-quality deposited film of, particularly, high quality electrophotographic sensitive material can be obtained stably, by efficiently removing by-products in a reaction vessel, a dry etching method, and to provide a method of manufacturing article including a step of executing either of the methods.例文帳に追加

反応容器内の副生成物を効率的に除去することができ、高品質の堆積膜、特に高品質の電子写真感光体を安定して得ることが可能な堆積膜形成装置のクリーニング処理方法、ドライエッチング方法、およびこれらの方法のいずれか一方を行う工程を含む物品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a high-voltage electrode part structure of an electric dust collector, capable of preventing insulation deterioration due to adhesion and deposition of moisture condensate or conductive substances onto high-voltage electrodes on the side of the enclosure installed on an insulating plate of the electric dust collector or high-voltage electric wires, ensuring a sufficient air clearance and creeping distance, and realizing miniaturization.例文帳に追加

電気集塵機の絶縁板に取り付けられている筐体側高電圧電極や高電圧電線の結露水や導電性物質の付着堆積に起因する絶縁劣化を防止すると共に十分な空間距離及び沿面距離を確保しかつ小型化を可能とする電気集塵機の高電圧電極部構造を提供する。 - 特許庁

A low heat capacity surface portion A and a surface portion B inferior in nature of joint or deposition with frost or ice are dispersed on the heat exchange face, and a plate movable member is provided for creating cut lines in the frost or ice deposited on a plate fin when the temperature of the heat exchange face of the plate fin lowers to a preset temperature.例文帳に追加

熱交換面に低熱容量の表面部分Aと霜又は氷との結合性又は付着性が低い表面部分Bとを分散配置するとともに、プレートフィンの熱交換面の温度が所定温度に低下したときにプレートフィンに付着している霜又は氷に切れ目を発生させる板状可動部材を設ける。 - 特許庁

The impurities are made by electroplating copper after copper seed is deposited on inside the holding place and ion is implanted, or by electrodepositing the copper composition including the impurities and diffusing the impurities inside the copper seed layer after the copper layer is deposited, or by implanting dopant ion after the deposition of a barrier layer and then depositing the copper seed layer.例文帳に追加

不純物は、銅シード層を収容箇所内に付着してイオン注入してから銅を電気メッキすること、銅シード層の付着後に、不純物を含む銅組成を電着し不純物を銅シード層内に拡散すること、又はバリア層の付着後にドーパント・イオンを注入し、次いで銅シード層を付着することにより行われる。 - 特許庁

The CVD apparatus for forming a deposition film on the surface of a substrate arranged in a reaction chamber by supplying a reactant gas into the reaction chamber, has a route for refluxing exhaust gas flowing to the reaction chamber from the downstream of a pump, arranged in an exhaust route for discharging the exhaust gas from the inside of the reaction chamber through the pump.例文帳に追加

反応チャンバー内に、反応ガスを供給して、反応チャンバー内に配置した基材表面上に堆積膜を形成するCVD装置であって、反応チャンバー内からポンプを介して排気ガスを排気する排気経路に、ポンプの下流側から反応チャンバーに至る排気ガスを還流する排気ガス還流経路が配設されている。 - 特許庁

To provide a method for sealing water in a pump capable of efficiently performing water sealing of the pump pumping up liquid containing organic acid salt after solid/liquid separation by preventing wear of a sliding ring of a shaft sealing device due to excessive deposition of organic acid salt dissolved in liquid and leak of liquid from the pump due to creation of a gap on a sliding surface.例文帳に追加

固液分離後の有機酸塩を含む液体を揚液するポンプの封水を、液体に溶解している有機酸塩が過剰に析出することによる軸封装置の摺動環の摩耗や、摺動面に隙間が生じることによる液体のポンプからの漏洩を防止して、効率的に行うことができるポンプの封水方法の提供。 - 特許庁

This method for manufacturing a titanium dioxide photocatalyst powder by utilizing chemical vapor deposition comprises the steps of injecting a titanium salt into a reaction vessel utilizing a carrier gas by a continuous method to react the titanium salt with oxygen, and collecting the resultant photocatalyst powder through a cooler/collector connected to the outlet of the reaction vessel, whereby the photocatalyst powder is produced in a continuous and effective manner.例文帳に追加

化学蒸着法を利用して二酸化チタン光触媒粉体を製造する方法であって、キャリヤガスによりチタニウム塩類を連続方式で反応槽内に注入して酸素と反応させ、反応槽の出口に接続される冷却収集器を介して収集して光触媒粉体を連続的かつ効果的に生成する。 - 特許庁

To provide a copper electroplating method for a semiconductor wafer which prevents the deposition of particles to the semiconductor wafer by suppressing the generation of the particles of the sludge, etc., produced on an anode side in a plating solution in performing copper electroplating, a pure copper anode for copper electroplating and a semiconductor wafer which is plated by using these and is less deposited with the particles.例文帳に追加

電気銅めっきを行う際に、めっき液中のアノード側で発生するスラッジ等のパーティクルの発生を抑え、半導体ウエハへのパーティクルの付着を防止する半導体ウエハの電気銅めっき方法、電気銅めっき用純銅アノード及びこれらを用いてめっきされたパーティクル付着の少ない半導体ウエハを提供することを課題とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the optical fiber preform comprises determining the distribution of the design magnification in the longitudinal direction of the glass rod in the multiburner multilayer deposition method and making the porous preform by regulating the amount of the glass particulates synthesized by respective burners in accordance with the distribution of the design magnification in the longitudinal direction of the glass rod, then making the porous preform transparent.例文帳に追加

多バーナ多層付け方法において、ガラスロッドの長さ方向の設計倍率の分布を求め、前記ガラスロッドの長さ方向の設計倍率分布に基づいて各バーナで合成されるガラス微粒子の量を調整して多孔質母材を作製し、該多孔質母材を透明化することを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。 - 特許庁

The gas supply unit for supplying a reactive gas for a chemical vapor deposition can include a hot wire part configured to pyrolyze the reactive gas, an ejection part configured to eject the reactive gas towards the hot wire part, and a suction part disposed adjacent to the hot wire part and configured to suck in and exhaust a by-product of the reactive gas.例文帳に追加

本発明に係るガス供給ユニットは、化学気相蒸着工程時に反応ガスを供給するユニットであって、反応ガスを熱分解する熱線部と、熱線部を向かって反応ガスを噴射する噴射部と、熱線部に隣接して配置され、反応ガスの反応副産物を吸入し排出する吸入部とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The vapor guide tube 10 comprises a crucible 12 which houses a material for vapor deposition, and heats the material to generate the vapor of the material, a glass tube 11 in which the crucible 12 is installed therein, and the vapor generated from the crucible 12 is allowed to flow forwardly in the longitudinal direction, and a metal tube 13 for covering an outer circumferential surface of the glass tube 11.例文帳に追加

蒸気案内管10は、蒸着材料を収容し、その材料を加熱して材料の蒸気を発生させる坩堝12と、坩堝12をその内部に設置し、坩堝12から発生した蒸気を長手方向前方へ流動させるガラス管11と、ガラス管11の外周面を包被する金属管13とを有する。 - 特許庁

To provide a water-based pigment ink for ink-jet recording excellent enough in preservation stability not to suffer from aggregation and sedimentation of pigment particles and deposition of the solid content during a long-term storage, exhibiting excellent redissolvability of the ink at a printer head and good jetting stability at a nozzle while giving a printed matter excellent in quality, water resistance and fixing properties.例文帳に追加

印刷物の品位、耐水性、定着性に優れながら、長期間の保存中に顔料粒子の凝集、沈降および固形分の析出がなく、保存安定性に優れ、プリンターヘッドでのインクの再溶解性に優れ、ノズルでの吐出安定性が良好なインクジェット記録用水性顔料インクを提供することを課題とする。 - 特許庁

The silicon nitride film 23 is deposited by supplying a processing gas containing a silane gas, a nitrogen gas and a hydrogen gas to a processing vessel of a plasma deposition apparatus, exciting the processing gas to generate plasma while maintaining the temperature of the substrate inside the processing vessel at 100°C or lower and the pressure inside the processing vessel at 20-60 Pa, and applying plasma processing using the plasma.例文帳に追加

シリコン窒化膜23は、プラズマ成膜装置の処理容器内にシランガス、窒素ガス及び水素ガスを含む処理ガスを供給し、処理容器内の基板の温度を100℃以下に維持し、且つ処理容器内の圧力を20Pa〜60Paに維持した状態で、処理ガスを励起させてプラズマを生成し、当該プラズマによるプラズマ処理を行って成膜される。 - 特許庁

This method of manufacturing the conductive catalyst particles comprises arranging the conductive powder 1 and balls 3, etc., as vibration amplifying means on a vibration surface 20 and simultaneously vibrating both in depositing a catalyst material 18, such as Pt, by a physical vapor deposition method, such as sputtering, to the surface of the conductive powder while vibrating the conductive powder 1, such as carbon.例文帳に追加

カーボン等の導電性粉体1を振動させながら、この導電性粉体1の表面に、スパッタ等の物理蒸着法によりPt等の触媒物質18を付着させる際、導電性粉体1と、振動増幅手段としてのボール3等とを振動面20上に配置し、これらを同時に振動させる、導電性触媒粒子の製造方法。 - 特許庁

To provide an excellent electrophotographic photoreceptor which is excellent in wear resistance and flaw resistance and deposition resistance, exhibits stable and excellent potential characteristics without depending upon repetitive use and environmental fluctuation and makes it possible to obtain excellent images free of image defects, such as fogging, and extremely little in transfer memory and photomemory, a process cartridge using the same and an electrophotographic device.例文帳に追加

耐摩耗性、耐傷性及び耐析出性が優れ、繰り返し使用や環境の変動によらず安定して優れた電位特性を示し、カブリ等の画像欠陥がなく、更に転写メモリーやフォトメモリーが極めて小さく、優れた画像が得られる電子写真感光体、及びそれを用いたプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供する。 - 特許庁

To provide a light oil composition which does not cause filter clogging at low temperature and satisfying practical performance and exhaust gas cleaning performance even when the light oil composition has a comparatively large deposition amount of wax at low temperature in areas and months where JIS No.2 light oil is desirably used with respect to a low sulfur light oil having10 mass ppm sulfur content.例文帳に追加

硫黄分10質量ppm以下の低硫黄軽油において、JIS2号軽油を使用するのが望ましい地域、月において、低温におけるワックス析出量が比較的多い軽油組成物であっても、低温でのフィルター閉塞を起こさないとともに、実用性能や排出ガス浄化性能を満足する軽油組成物を提供すること。 - 特許庁

In the arc welding control device with a heat radiation unit to discharge air heated by a heat-generating electric element outside, the heat radiation unit has a tunnel shape having an outer circumferential part to form a cavity to circulate air therein, and deposition or adhesion of dust, welding fume, etc. on a conductive part inside the equipment can be prevented thereby.例文帳に追加

発熱性の電気素子により熱せられた空気を外部へ排出する放熱ユニットを筐体内に内蔵したアーク溶接制御装置であって、放熱ユニットは、空気を流通させる空洞部を形成する外周部を備えたトンネル型形状であり、機器内部の導電部に粉塵、溶接ヒューム等の堆積,付着を防止することが可能となる。 - 特許庁

To suppress sweeping, fogging, toner scattering, faulty cleaning and an image defect called vertical streaks of a deep color in an image forming method and an image forming unit by a nonmagnetic one-component jumping development system, and to provide an image forming method and an image forming unit in which neither density lowering under a shielding member nor toner deposition on the shielding member is caused.例文帳に追加

非磁性一成分ジャンピング現像方式における画像形成方法や画像形成ユニットにおいて、掃き寄せ、カブリ、トナー飛散、クリーニング不良、濃色縦スジと呼ばれる画像欠陥を改善し、遮蔽部材による濃度薄や遮蔽部材へのトナー付着を起こさない画像形成方法や画像形成ユニットを提供することにある。 - 特許庁

In the film deposition method by the magnetron sputtering method, the soiling due to the organic materials stuck on the surface of the substrate is removed by producing a plasma gas of gaseous oxygen which is composed of 30-100 vol.% gaseous oxygen and 0-70 vol.% one or more kinds of gases selected from gaseous helium, gaseous neon, gaseous argon, gaseous xenon and gaseous krypton and using the gaseous oxygen plasma.例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング法による成膜方法において、30〜100容積%の酸素ガスと、0〜70容積%の窒素ガス、ヘリウムガス、ネオンガス、アルゴンガス、キセノンガス、クリプトンガスの中から選ばれる1種以上のガスとからなり、酸素ガスのプラズマ気体を発生させ、該酸素プラズマを用いて基板の表面に付着した有機系物質の汚れを除去する。 - 特許庁

The gas barrier laminate has a transparent primer layer 2, a 5 to 300 nm thick inorganic-vapor deposition layer 3, a composite coat layer 4, and a stress relaxation layer 5 containing 5 to 60 wt.% of an inorganic filler, these layers orderly overlying at least one surface of a plastic base material 1 containing 5 to 60 wt.% of an inorganic filler.例文帳に追加

本発明のガスバリア積層体は、無機フィラーを5〜60重量%含むプラスチック基材1の少なくとも一方の面に、透明プライマー層2、厚さ5〜300nmである無機蒸着層3と、複合皮膜層4.無機フィラーを5〜60重量%含む応力緩和層5とを順次積層してなることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a magnetic recording medium which has smooth surface properties and an undercoat film by which deterioration of surface properties and a crack are not generated and which has no fear to cause blocking, even when a ferromagnetic metal thin film is formed by a sputtering method, a deposition method and the like obliged to heat a substrate, and can be easily manufactured at low cost.例文帳に追加

非常に平滑な表面性を有し、さらに支持体加熱を伴うスパッタ法や蒸着法等で強磁性金属薄膜を作製した場合でも、表面性の劣化やクラックの発生がなく、ブロッキングを引き起こす虞れもない下塗り膜を有し、低コストで容易に製造することのできる磁気記録媒体を提供すること。 - 特許庁

This method for producing a spinel ferrite thin film with (100) the preferred orientation on a substrate includes: a sputter deposition step of forming a spinel ferrite thin film or a thin film serving as a precursor thereof on the substrate by means of a sputtering method; and a vacuum heating step of heating the substrate in a vacuum.例文帳に追加

基板上に(100)優先配向のスピネルフェライト薄膜を製造する方法であって、前記製造方法は、スパッタリング法でスピネルフェライト薄膜もしくはその前駆体となる薄膜を基板上に形成するスパッタ成膜ステップと、その基板を真空中で加熱する真空加熱ステップとを有することを特徴とするスピネルフェライト薄膜の製造方法。 - 特許庁

The thin film depositing method for depositing a thin film on one main surfaces of a substrate 5 comprises a step of holding the substrate 5 with a predetermined space from a susceptor 1, and a film deposition step of depositing a thin film on one main surfaces of the substrate 5 with the substrate 5 heated via the susceptor 1.例文帳に追加

本発明の薄膜形成方法は、基板5の一方の主表面上に薄膜を形成する薄膜の形成方法であって、サセプタ1と一定の間隔をおいて基板5を保持する工程と、サセプタ1を介して基板5を加熱した状態で、基板5の一方の主表面上に薄膜を形成する成膜工程とを備えている。 - 特許庁

In a method of forming storage electrodes of a semiconductor device and also a method of forming a semiconductor, the composition and vapor-deposition conditions of each of a bit line hard mask nitride film and a bit line nitride film spacer are varied so that the two nitride films are formed to have different compositions and also to have different etching ratios.例文帳に追加

本発明は半導体素子の格納電極形成方法に関し、ビットラインハードマスク窒化膜と窒化膜スペーサそれぞれの成分と蒸着条件を変化させることにより、前記2つの窒化膜の組成が異なるよう形成され互いに異なる食刻比率を有するようにする半導体素子の形成方法に関するものである。 - 特許庁

To provide a processing solution which has fixability for photosensitive materials capable of preventing the deposition matter from slicking onto drive gears and conveyance rollers of an automatic developing machine even in processing with low replenishing and thereby capable of lowering the concentration of ammonium cation in the processing solution without the occurrence of an abrasion and adhesion of a foreign matter of the sensitive material and a processing method using the same.例文帳に追加

低補充化処理においても自動現像機における駆動ギアや搬送ローラー上での固着物の付着を防止でき、さらにこれにより感材のスリ傷及び異物付着の発生を起こさず、処理液中のアンモニウムカチオン濃度を低減できる感光材料用の定着能を有する処理液及びこれを用いた処理方法を提供する。 - 特許庁

The solid oxide fuel cell comprises an electrolyte layer, a fuel electrode layer formed on one side of the electrolyte layer, and an air electrode layer formed on the other side of the electrolyte layer; wherein at least one of the insides of the fuel electrode layer and air electrode layer is formed by an aerosol deposition method by jetting the powder of a material to a lower layer.例文帳に追加

電解質層と、該電解質層の一方の側に形成されている燃料極層と、電解質層の他方の側に形成されている空気極層とを具備し、燃料極層と空気極層との内の少なくとも一方が、原料の粉体を下層に噴射して堆積させるエアロゾルデポジション法を用いて形成されている。 - 特許庁

With the well-balanced bending and deformation of the dish spring 142, an annular portion located on the periphery of the protrusion 146 of the central portion of the dish spring 142 with contacts a contact member 130 to provide a wide contact area, assuring a good condition of continuity even when there is, for example, deposition of minute dust particles.例文帳に追加

また、皿バネ部142のバランスのよい屈曲変形により、皿バネ部142の中央部の突起部146の周辺部分に位置する円環状の部分が、接点部材130に接触することから、広い接触面積を得ることができるため、例えば微小な埃等の付着があった場合でも、良好な導通状態を確実に得ることができる。 - 特許庁

To suppress generation of plasma in a gap space (1) without preparing any external electrode for each container having different shape and (2) without providing any pressure difference control mechanism between an inner space and an outer space of the container even by any system of the induction-coupling type plasma or the microwave plasma when performing the film deposition on an inner wall surface of a plastic container.例文帳に追加

プラスチック容器の内壁面に成膜をする場合において、(1)形状の異なる容器ごとに外部電極を準備する必要をなくし、(2)誘導結合型プラズマ又はマイクロ波プラズマのいずれの方式によっても、容器の内部空間と外部空間との圧力差制御機構を設けることなく、前記隙間空間でのプラズマ発生を抑制すること。 - 特許庁

To provide a glass substrate for magnetic disk, a magnetic disk in which deposition of alkali metal salt on a surface of the substrate is reduced and deterioration of a medium characteristic is reduced even under environment of high temperature and high humidity holding easiness for vitrifying and a good forming characteristic, its manufacturing method, and a magnetic disk in which head floating quantity is good and errors are reduced.例文帳に追加

易ガラス化性および良好な成形性を保ちつつ、高温高湿の環境下においても基板表面へのアルカリ金属塩の析出を低減し媒体特性の劣化を低減した磁気ディスク用ガラス基板およびその製造方法、並びにヘッド浮上量が良好で、エラーを低減された磁気ディスクを提供すること。 - 特許庁

To provide a rain cover device for a car for preventing deposition of rain drops and snow on a windshield for the car in a rainy and snowy condition by fixing a plurality of plates to a supporting bar so that the plurality of plates are vertically arranged with a spacing in the horizontal direction, and installing a magnet in front of the windshield for the car outside the car.例文帳に追加

この発明は、複数の板がそれぞれ水平方向で間隔をあけて上下に配置されるようにして前記複数の板を支持棒に固定し、マグネットで自動車外側の自動車用フロントガラス前に設置し、雨天時及び降雪時に、自動車用フロントガラスに雨粒や雪が付着するのを防ぐ自動車用雨よけ装置である。 - 特許庁

To provide a heat insulating mold not generating release caused by the removal of a masking material in a heat-resistant polymeric film when the insulating mold for molding a synthetic resin characterized by that the inner surface thereof comprises an area coated with a heat-resistant polymeric film and an area free from the heat-resistant polymeric film is produced by vapor deposition polymn.例文帳に追加

金型内面が耐熱性高分子膜で被覆された領域と耐熱性高分子膜を欠落させた領域とからなる合成樹脂成形用の断熱性金型を蒸着重合によって製造する場合に、耐熱性高分子膜にマスキング材の除去に伴う剥離を生じない断熱性金型およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

In a state where plasma of raw material gas is irradiated in a plasma irradiation region in which the width in a first direction is longer than the diameter of a circular substrate of a film deposition object and the length in a second direction orthogonal to the first direction is shorter than the diameter of the circular substrate, the circular substrate is relatively moved to the plasma irradiation region in the second direction.例文帳に追加

第1方向の幅が成膜対象の円形基板の直径より長く、第1方向に直交する第2方向の長さが円形基板の直径より短いプラズマ照射領域で原料ガスのプラズマを照射している状態で、プラズマ照射領域に対して相対的に第2方向に円形基板を移動させる。 - 特許庁

An opening of a regulation part for regulating a vapor deposition region is biased toward an exit side of substrate carrying part to increase an oblique incident component of evaporated material incident on a substrate at the closing period of a thin film-forming process, by the above, crystallinity of the MgO thin film and electron emitting property is improved, and gas discharge responsiveness of a plasma display panel is heightened.例文帳に追加

蒸着領域を規制する規制部の開口を基板搬送の出口側に偏在させて、薄膜形成過程の終期において蒸発材料の基板への斜め入射成分を多くすることにより、保護膜としてMgO薄膜の結晶性を高めて電子放出性能を向上させ、プラズマディスプレイパネルのガス放電応答性を高める。 - 特許庁

In formation of the gate insulation film formed of high dielectric metal silicate, ALD deposition is carried out by using a time for saturating a film formation rate owing to a surface adsorption reaction for an exposure time of a precursor containing a metal and the like, and using a time for setting the composition of the metal oxide film 97% or more of a stoichiometric value for an exposure time of an oxidizer.例文帳に追加

高誘電体金属シリケートからなるゲート絶縁膜の形成において、金属等を含む前駆体の暴露時間には、表面吸着反応により成膜レートが飽和する時間を用い、酸化剤の暴露時間には、金属酸化膜の組成が化学量論値の97%以上となる時間を用いてALD堆積を行う。 - 特許庁

A sample stand (rotative stand) 1 is mounted on a precision rotation axis 32 continuously rotating the sample stand in high precision, and an optional rotation-symmetric three-dimensional fine structure is manufactured by applying an FIB deposition in an FIB chamber while making the sample stand 1 rotate continuously, or applying cutting work on upper surface or side surface like a general lathe through an FIB etching.例文帳に追加

試料台(回転台)1を高精度で連続回転する精密回転軸32に取りつけ、FIBチャンバー内で、試料台1を連続回転させながらFIBデポジションさせたり、あるいはFIBエッチングで一般的な旋盤のように側面あるいは上面から切削加工を行ったりすることで任意の回転対称である構造物を作製する。 - 特許庁

This refining method is characterized by controlling the passing current from just before raising the cathode to be replaced until electrodeposited copper will cover the surface of the replaced new cathode, so that current density imposed on cathodes left in the electrolytic bath, when replacing a part of cathodes while passing an electric current to the electrolytic bath, can be equal to or less than the current density corresponding to an impurities deposition potential.例文帳に追加

電解槽に通電したまま一部のカソードを入れ替える際に、電解槽内に残すカソードに加わる電流密度が、不純物析出電位に対応する電流密度以下になるように、入れ替えるカソードを引き揚げる直前から、入れ替えたカソードの表面を電着が覆うまでの間、通電電流を制御する。 - 特許庁

This optical recording medium which is made by laminating at least, a recording layer and a reflecting layer in this order from the side near to a substrate on the surface of opposite side to the laser beam incident surface of the substrate is produced by a producing method containing a process of forming the recording layer by vacuum deposition of organic dyestuff on the substrate surface of which the contact angle of water is75°.例文帳に追加

基板のレーザー光入射面とは反対側の面に、少なくとも記録層および反射層が基板に近い側からこの順に積層されて成る光記録媒体を、水の接触角が75°以下である基板表面に有機系色素の真空蒸着により記録層を形成する工程を含む製造方法によって製造する。 - 特許庁

例文

Such parts for to film deposition equipment can be manufactured, e.g. by forming an undercoat layer by metal spraying, applying metal spraying, by the use of a screen having a reticulate opening, through this reticulate opening to form a rugged rough surface on the surface of the above undercoat layer, and then removing the recessed part of the rugged rough surface by bead blasting treatment.例文帳に追加

斯かる成膜装置用部品は、例えば、金属溶射によって下地層を形成した後、網目状開口を有するスクリーンを使用し当該網目状開口を通じて金属を溶射することにより上記の下地層の表面に凹凸粗面を形成し、次いで、ビーズブラスト処理によって凹凸粗面の凹部を除去することにより製作される。 - 特許庁




  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2025 GRAS Group, Inc.RSS