「correction of defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing a reflective mask having a light-shielding region where an absorbing layer is laminated in a periphery of a pattern region, by which a defect can be corrected without leaving a correction mark while preventing decrease in the throughput of the mask manufacture and damages in a normal pattern or a reflection layer, and thereby, a high-quality mask is manufactured, and also to provide a mask blank suitable for the method.例文帳に追加

パターン領域の周辺に吸収層を積層した遮光領域を設けた反射型マスクの製造において、マスク製造のスループットを低下させず、正常パターンや反射層に損傷を与えることなく、修正痕を残さずに欠陥修正を行い、高品質のマスクを製造することができる反射型マスクの製造方法およびそれに適したマスクブランクを提供する。 - 特許庁

To provide a microscope objective lens with a socket type frame for position correction which is applicable by being combined with various cover glasses and/or various liquid immersion liquid and/or at various working temperature, which can be moved in an axial direction, which can be used instead of a compression spring used for the microscope objective lens and other objective lens and further which can remove a defect of the spring.例文帳に追加

様々なカバーガラスおよび/または様々な液浸液と組み合わせて、および/または様々な作業温度において適用可能な軸方向に移動でき、顕微鏡対物レンズおよびその他の対物レンズに使用される圧縮バネの代わりになり、しかもバネの欠点を取り除くことができる位置修正用ソケット型フレームの付いた顕微鏡対物レンズ。 - 特許庁

To provide an imaging device (a device according to an aberration correction device) for a charge particle beam device as an electron microscope or the like used for the inspection and measurement of a semiconductor, in which a small deviation beam with a high probe current is formed to improve the resolution and throughput in EDX analysis, WDX analysis, or defect inspection.例文帳に追加

半導体の検査および計測に使用される電子顕微鏡等の荷電粒子ビーム装置用の「撮像装置」（収差補正装置に準ずる装置）であって、ＥＤＸ分析、ＷＤＸ分析、欠陥検査等の分解能およびスループットを向上させるために高プローブ電流で分散の小さいビームを形成できるようにする。 - 特許庁