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Post-Bakeとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 ポストベーク
「Post-Bake」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 45件
The post-treatment module performs a wafer cleaning step and a post-exposure bake step after the exposure step.例文帳に追加
後処理モジュールは、露光後にウエハを洗浄する工程、及び露光後ベーキング工程を行う。 - 特許庁
The number of the transfer routes of the wafer is limited to the number of post-exposure bake units which perform line width compensation so that a different post-exposure bake unit is used for each of the transfer routes.例文帳に追加
ウェハの搬送順路は、線幅補正を行う露光後ベークユニットの台数と同数に限定され、当該各搬送順路毎に、使用される露光後ベークユニットが異なるようにする。 - 特許庁
The second module performs a step for cleaning the wafer and a post-exposure bake step after the exposure step.例文帳に追加
第２モジュールは、露光後にウエハを洗浄する工程及び露光後ベーキング工程を行う。 - 特許庁
An exemplary combined post-exposure bake and chill unit includes an enclosure having an opening in its side, and a bake unit and a chill unit in the enclosure.例文帳に追加
例示的組合せ露光後ベーク及び冷却ユニットは、側面に開口を有するエンクロージャ、及びエンクロージャ内のベークユニット及び冷却ユニットを含む。 - 特許庁
Before the original disk is taken out from the device after the exposure, the surface temperature of the original disk is increased to another temperature, e.g. the temperature of Post Exposure Bake(PEB), and the original disk is taken out from the device after its holding for a certain period.例文帳に追加
また、露光後に原盤を装置から取り出す前に別の温度、例えば露光後ベーク（ＰＥＢ(Post Exposure Bake)）の温度、まで原盤表面温度を上げ、一定時間保持した後、装置から原盤を取り出す。 - 特許庁
The line width is controlled by compensating a heating temperature of the post-exposure bake unit for each of the transfer routes of the wafer.例文帳に追加
ウェハの搬送順路毎に、露光後ベークユニットの加熱温度を補正して、線幅を制御する。 - 特許庁
To provide an application/development apparatus capable of making the post exposure delay time of respective wafers constant without increasing the number of set of post exposure bake unit.例文帳に追加
露光後ベークユニットの台数を増加させずに、露光後遅延時間を各ウエハで一定とすることができる塗布・現像装置を提供すること。 - 特許庁
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「Post-Bake」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 45件
To disclose system and method for processing wafers, a combined post-exposure bake and chill unit, and an interface.例文帳に追加
ウェーハを処理するシステム及び方法、組合せ露光後ベーク及び冷却ユニット、及びインターフェイスを開示する。 - 特許庁
The heat treatment apparatus 16 is provided with a post-exposure bake plate PEB, a cooling plate CP3, and a local transfer robot LHU.例文帳に追加
熱処理部１６には、露光後ベークプレートＰＥＢと、クールプレートＣＰ３と、ローカル搬送ロボットＬＨＵとが設けられている。 - 特許庁
The method for manufacturing a semiconductor device includes: forming a resist film on a film to be processed; baking the resist film; performing immersion exposure on the resist film; performing post exposure bake on the resist film; developing the resist film; and removing an edge of the resist film after the post exposure bake.例文帳に追加
半導体装置の製造方法は、被加工膜上にレジスト膜を形成し、レジスト膜をベークし、レジスト膜を液侵露光し、レジスト膜をポストエクスポージャベークし、レジスト膜を現像し、ポストエクスポージャベークした後にレジスト膜の縁を除去することを特徴とする。 - 特許庁
The substrate is conveyed in a post-exposure bake plate part PEB by way of an edge exposing part EE1, and heating is performed after being exposed.例文帳に追加
そして、その基板はエッジ露光処理部ＥＥ１を経由して露光後ベークプレート部ＰＥＢに搬入され、露光後加熱処理が施される。 - 特許庁
To provide a positive resist composition having sufficiently excellent performance from the viewpoint of dependence on the PEB (Post Exposure Bake) time.例文帳に追加
ＰＥＢ（Ｐｏｓｔ Ｅｘｐｏｓｕｒｅ Ｂａｋｅ）時間依存性の点で十分に優れた性能を有するポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide a positive resist composition having sufficiently excellent performance with respect to the temperature dependency of PEB (post exposure bake).例文帳に追加
ＰＥＢ（Ｐｏｓｔ Ｅｘｐｏｓｕｒｅ Ｂａｋｅ）温度依存性の点で十分に優れた性能を有するポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
The pit shape is tailored to a prescribed shape in the PEB (post-exposure bake) conditions for improving the pit edge geometry by carrying out exposure registration with a multi-pulse signal.例文帳に追加
マルチパルス信号で露光記録することによって、ピットエッジ形状を改善するＰＥＢ条件で、かつピット形状を所定の形状に調整する。 - 特許庁
To provide a method for evaluating a lithography apparatus which can evaluate effective exposure dose variation separately for exposure dose variation and Post Exposure Bake (PEB) temperature variation.例文帳に追加
実効露光量ばらつきを露光量変動とＰＥＢ温度変動とに分離して評価できるリソグラフィ装置の評価方法を提供すること - 特許庁
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