S-stageとは 意味・読み方・使い方

The sample support device has a mounting stage 8 superimposed on a base stage 7, and supports a sample S with the mounting stage 8.例文帳に追加

ベースステージ７に重ねて配置される搭載ステージ８を有し、この搭載ステージ８によって試料Ｓを支持する試料支持装置である。 - 特許庁

(4) The substrate S is supported by a stage 7 formed of material transmitting the electromagnetic wave, and the electromagnetic wave is applied to the substrate S from the stage 7 side.例文帳に追加

（４）電磁波を透過する材料で形成されたステージ７により、基板Ｓを支持し、このステージ７側から基板Ｓに電磁波を照射する。 - 特許庁

The stage is provided with a pair of holding parts 1L, 1R to hold the both ends of the test piece S and a drive mechanism which drives each holding part 1L, 1R to the mutually separating direction and gives a tension to the test piece S.例文帳に追加

このステージは、試料Sの両端部を保持する一対の保持部1L、1Rと、各保持部1L、1Rを互いに離反する方向に駆動して試料Sに引張力を付与する駆動機構とを備える。 - 特許庁

The treatment time of the second stage is 1.0 to 15 cycles (1.0 cycle is (1/60) s or (1/50) s).例文帳に追加

第２工程の処理時間は１．０サイクル以上１５サイクル以下（１．０サイクルは、（１／６０）秒または（１／５０）秒）である。 - 特許庁

An ion milling device comprises; a sampling stage 1 where a sample S is placed; an ion source 2 for generating an ion beam with which the sample S is irradiated; a sample chamber 3 maintaining a storage space of the sampling stage 1 as a predetermined vacuum; and refrigerant supplying means 5 for supplying a gaseous refrigerant to cool the sample S inside the sample chamber 3.例文帳に追加

試料Sが設置される試料台1と、試料Sに照射するイオンビームを発生させるイオン源2と、試料台1の収納空間を所定の真空に保持する試料チャンバ3と、試料Sを冷却するための気体冷媒を試料チャンバ3内に供給する冷媒供給手段5とを備えるイオンミリング装置である。 - 特許庁

Scales S (1) to S (N) are provided on a sample stage 1, the scale is observed by an exclusive optical system provided with a visual field 3, and the actual moving distance of the stage 1 is monitored.例文帳に追加

試料台１にスケールＳ（１）…Ｓ（Ｎ）を設け、このスケールを視野３を備える専用の光学系で観察して、試料台１の実際の移動距離をモニタする。 - 特許庁

The seat unit 1 capable of being moved on the stage S by air bearings, having a proper number of seats is housed to the interior of the stage S and the upper section of a wing S1 by a lifter 2 disposed to an interior wall W1 or a wing wall W2 partitioning the stage S.例文帳に追加

舞台Ｓを画成する奥壁Ｗ１あるいは袖壁Ｗ２に配設のリフト装置２によって適宜数の客席を有しながらエアベアリングで舞台Ｓ上を移動可能とされる客席ユニット１を舞台Ｓの奥や袖Ｓ１の上方に収納する。 - 特許庁

In the washing stage for a deoxidized reactive mixture obtained by a deoxidization stage, washing is performed while forming an upward solvent flow in which the average flow rate of the solvent is ≥3.5 mm/s and a shear flow of the solvent in which the shear rate gradient lies in the range of 3.5 to 11 (1/s).例文帳に追加

脱酸工程で得られた脱酸反応混合物の洗浄工程において、溶媒の平均流速3.5mm/s 以上の上向きの溶媒流れと、せん断速度勾配が3.5 〜11 (１/s) の範囲の溶媒のせん断流れとをともに形成させながら、洗浄を行う。 - 特許庁