SOD processとは 意味・読み方・使い方

To provide a semiconductor manufacturing method of enabling rework by causing no damage on the lower layer in the SOD film formation process of a semiconductor manufacturing apparatus, and to provide the semiconductor manufacturing device.例文帳に追加

半導体装置のＳＯＤ膜形成工程において、下層にダメージを生じることなくリワークを可能とする半導体製造方法および半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for substrate treatment which obtains successful connection between lower layer Cu wiring and upper layer Cu wiring in a damascene method by simultaneously carrying out reduction treatment to an oxidized Cu exposure surface and degassing an SOD film by the same process in spite of reducing wiring resistance by using the SOD film.例文帳に追加

本実施形態の基板処理方法によれば、ＳＯＤ膜を用いて配線抵抗の低減化を図るも、酸化したＣｕ露出表面の還元処理及び当該ＳＯＤ膜の脱ガスを同一工程で同時に実行し、ダマシン法における下層Ｃｕ配線と上層Ｃｕ配線との間の良好な接続を実現する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which has an SOD (Spin On Dielectric) single-layer film of good quality free of an influence of fixed charge etc., and having excellent electric characteristics and also has a device isolation region for a micro-LSI process.例文帳に追加

固定電荷等の影響がなく電気的特性の優れた良質なＳＯＤ単層膜を備えた、微細ＬＳＩプロセス用の素子分離領域を備えた半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a new superoxide dismutase(SOD) polypeptide, an antibody against the polypeptide, a polynucleotide encoding the polypeptide, a recombination technique for forming these, and a process for utilizing these for therapy.例文帳に追加

新規なＳＯＤポリペプチド、このポリペプチドに対する抗体、このポリペプチドをコードするポリヌクレオチド、これらを生成する組換え技術、これらを治療目的に利用するためのプロセスを提供すること。 - 特許庁