SPIN-3とは 意味・読み方・使い方

The substrate processing apparatus 1 includes a spin chuck 3, a processing liquid nozzle, and a cup 5.例文帳に追加

基板処理装置１は、スピンチャック３、処理液ノズルおよびカップ５を備えている。 - 特許庁

In SC1 processing or spin-dry processing, the wafer W is held in a substrate upper portion holding section 3.例文帳に追加

ＳＣ１処理時およびスピンドライ時には、基板上保持部３にウエハＷが保持される。 - 特許庁

A spin coating apparatus includes a wafer chuck 2, a rotation device 3, a nozzle 8, and a rear surface protection disc 21.例文帳に追加

ウェハチャック２と回転装置３とノズル８と裏面保護円盤２１とを備えている。 - 特許庁

A wafer W held by a spin chuck 3 is contained inside the airtight chamber 2.例文帳に追加

密閉チャンバ２内には、スピンチャック３により保持されたウエハＷが収容される。 - 特許庁

An arrangement jig 3 is arranged on the spin base 11 of a spin chuck 1, and the coordinates of a central position A of a protrusion 32 to be detected formed on the arrangement jig 3 are obtained.例文帳に追加

スピンチャック１のスピンベース１１上に配置治具３が配置されて、その配置治具３に形成されている被検出突起３２の中心位置Ａの座標が求められる。 - 特許庁

A semiconductor thin film of good crystallinity is formed by performing solid phase growth for a non-single crystalline semiconductor thin film whose hydrogen content is 7×10^19 to 3×10^20 cm^-3 and spin density is 2×10^19 to 5×10^19 cm^-3.例文帳に追加

含有水素量が7×10^19〜3×10^20cm^−3、スピン密度が2×10^19〜5×10^19cm^−3である非単結晶半導体薄膜を固相成長して、結晶性の優れた半導体薄膜を形成する。 - 特許庁

A substrate processing apparatus is equipped with a spin chuck 2, that holds a substrate 1 for rotation, a motor 3 which rotates with the spin chuck 2, a processing liquid feed nozzle 7 which feeds a processing liquid onto the surface of the substrate 1 which rotates as hold by the spin chuck 2, and a speed change gear 4 which links the spin chuck 2 to the motor 3.例文帳に追加

基板処理装置は、基板１を保持した状態で回転するスピンチャック２と、このスピンチャック２を回転駆動するためのモータ３と、スピンチャック２に保持されて回転する基板１の表面に処理液を供給するための処理液供給ノズル７と、スピンチャック２とモータ３を連結する変速機４とを備える。 - 特許庁

The granulated and flocculated sludge of the second reaction chamber 2 is subjected to gravity dehydration in a gravity spin drying machine 3.例文帳に追加

第２反応槽２の造粒凝集汚泥は重力脱水機３で重力脱水する。 - 特許庁