SICNとは 意味・読み方・使い方

A SiCN film is formed on the Low-k film so as to cover the wiring.例文帳に追加

配線を覆うようにＬｏｗ−ｋ膜上に、ＳｉＣＮ膜が形成される。 - 特許庁

An SiCN layer 102 as an etching stopper layer is formed on a lower layer, and the SiCN layer 102 is subjected to plasma etching, using plasma of an etching gas containing CF_4 and NF_3.例文帳に追加

下層には、エッチストッパー層としてＳｉＣＮ層１０２が形成されており、このＳｉＣＮ層１０２を、ＣＦ_4と、ＮＦ_3とを含むエッチングガスのプラズマを用いてプラズマエッチングする。 - 特許庁

A barrier insulator film consists of an SiCN film SCN1 (4MS_) formed by lowering the flow rate of tetramethyl silane gas below normal conditions, an SiCN film SCN2 formed on the SiCN film SCN1 (4MS_) at a normal flow rate of tetramethyl silane gas, and an SiCO film SCO formed on the SiCN film SCN2.例文帳に追加

テトラメチルシランガスの流量を通常条件よりも下げて形成したＳｉＣＮ膜ＳＣＮ１（４ＭＳ↓）と、このＳｉＣＮ膜ＳＣＮ１（４ＭＳ↓）上に形成され、通常のテトラメチルシランガスの流量で形成したＳｉＣＮ膜ＳＣＮ２と、このＳｉＣＮ膜ＳＣＮ２上に形成されたＳｉＣＯ膜ＳＣＯからバリア絶縁膜を構成する。 - 特許庁

An SiCN film 15 and an SiON film 17 are formed on the low-k film 9.例文帳に追加

Ｌｏｗ−ｋ膜９上にＳｉＣＮ膜１５およびＳｉＯＮ膜１７が形成される。 - 特許庁

The semiconductor device 1 uses the SiCN film 12a as the insulation film.例文帳に追加

また、本発明は、絶縁膜としてＳｉＣＮ膜１２ａを用いる半導体装置１でもある。 - 特許庁

An SiCN based film of prescribed thickness is formed by repeating the thin-film forming process and the annealing process.例文帳に追加

この薄膜形成処理と、アニール処理と、を繰り返し、所定厚さのＳｉＣＮ系膜を成膜する。 - 特許庁

The formation of the thin film and the annealing treatment are repeated so as to form an SiCN film with a predetermined thickness.例文帳に追加

この薄膜形成処理と、アニール処理と、を繰り返し、所定厚さのＳｉＣＮ系膜を成膜する。 - 特許庁

A passivation layer 28, which is formed of a material containing SiCN is formed on the second electrode layer 26.例文帳に追加

第２の電極層２６上にはＳｉＣＮを含む材料で構成されたパッシベーション層２８が形成される。 - 特許庁