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Stress relaxation treatmentとは 意味・読み方・使い方
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「Stress relaxation treatment」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 12件
The stress remaining in the film 3 is relaxed through the relaxation treatment.例文帳に追加
緩和処理では、フィルム3に残留する応力を緩和する。 - 特許庁
To provide a color cathode-ray tube of which a stress relaxation pattern for avoiding deformations in the main face of a shadow mask is formed at one etching treatment.例文帳に追加
シャドウマスクの主面の変形を回避する応力緩和パターンを1段エッチングで形成する。 - 特許庁
After forming a semiconductor substrate having wiring 2b and a pad electrode 2a, a stress relaxation layer 4 on the semiconductor substrate, and an alloy seed film 5 on the stress relaxation layer 4, a reactive barrier insulating film 6 is formed between the stress relaxation layer 4 and the alloy seed film 5 by reacting the stress relaxation layer 4 and the alloy seed film 5 using heat treatment.例文帳に追加
配線2bおよびパッド電極2aが形成された半導体基板と、半導体基板上に形成された応力緩和層4と、応力緩和層4上に合金シード膜5を形成した後、応力緩和層4と合金シード膜5とを熱処理にて反応させることで、応力緩和層4と合金シード膜5との間に反応性バリア絶縁膜6を形成する。 - 特許庁
To provide a method for easily manufacturing a polymer film optical waveguide with small light loss in high yield without performing a post heat treatment for stress relaxation.例文帳に追加
応力緩和のための後熱処理を行わずに光損失が小さい高分子フィルム光導波路を簡便に歩留まり良く製造する方法。 - 特許庁
In addition, a structure relaxation treatment is applied on the mother glass which has not be damaged even when the soaking was applied to lower the stress to the surface residual compression stress value of the reinforced glass being the end-product.例文帳に追加
さらにソーク処理を施しても破損しなかった母材ガラスに構造緩和処理を施し、最終製品としての強化ガラスの表面残留圧縮応力の値にまで低下させる。 - 特許庁
To provide a Cu-Ni-Sn-P based copper alloy which is producible by annealing heat treatment in a short time, and has excellent stress relaxation resistance without requiring high casting or heat treatment technology.例文帳に追加
Cu−Ni−Sn−P系合金について、高度な鋳造あるいは熱処理技術を必要とせず、短時間の焼鈍熱処理で製造可能な耐応力緩和特性に優れた銅合金。 - 特許庁
To obtain an electronic element having a plurality of films, wherein the electronic element can cope with stress relaxation to a film which causes expansion or contraction even a change in material during high-temperature heat treatment in a manufacture process of a semiconductor or the like.例文帳に追加
複数の膜を有する電子素子において、膨張又は収縮を起こす膜に対する応力緩和を、半導体等の製造プロセスにおける高温熱処理時の物性変化においても対応可能とすること。 - 特許庁
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「Stress relaxation treatment」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 12件
To stably transport an unprocessed rolled-up cloth to which a stress relieving treatment and an unrolling treatment are applied, to improve dimensional stabilities for the cloth in successive processes including cutting, and to improve productivity with defectiveness in products arising from relaxation shrinkage cleared away.例文帳に追加
ストレス開放処理および放反処理が施された原反生地を安定的に輸送し得るようにして、以後の裁断工程等における生地の寸法安定性を向上し、緩和収縮現象に基づく製品不良を一掃して生産性の向上を図る。 - 特許庁
A device shown in Fig. 1 is used, the curvature of the direction opposite to the film molding time is provided in the electrode in the temperature atmosphere of 100°C or more and 400°C or less after film molding, and a stress relaxation treatment is applied to the electrode.例文帳に追加
図1に示されるような装置を用い、成膜後に100℃以上400℃以下の温度雰囲気下で当該電極に成膜時と逆方向の曲率を持たせ、当該電極に応力緩和処理を施すことを特徴とする。 - 特許庁
In this color cathode-ray tube, a stress relaxation pattern 59 formed on the skirt portion 51 of a shadow mask is etched together with electron beam passing holes in the main face at one etching treatment so as to have the same aperture opening that electron beam passing holes have.例文帳に追加
シャドウマスクのスカート部51に形成する応力緩和パターン59を当該シャドウマスクの主面50の電子ビーム通過孔と同様の開口として1段エッチング処理で電子ビーム通過孔と同時に応力緩和パターン59を形成する。 - 特許庁
To provide a copper alloy material which can obtain desired strength, electric conductivity, stress relaxation properties or the like in accordance with the components which have been added such as Ni and Si by subjecting an ingot in which the size of crystallized products and dendrite secondary arm spacing is prescribed to rolling and heat treatment, thus evading the remaining of coarse crystallized products in the final strip product.例文帳に追加
鋳塊中の晶出物サイズ、デンドライト2次アームスペーシングを規定した鋳塊に圧延、熱処理を施すことによって、最終の条製品においての粗大な晶出物の残存を回避し、Ni、Siなど添加された成分に応じて所望の強度、導電性、応力緩和性等を得ることができる銅合金材を提供する。 - 特許庁
To provide a GaAs single crystal wafer reduced in the influence of the warp of the wafer itself and the nonuniformity of wafer in-plane temperature for the thermal treatment in a device manufacturing process using the wafer, and generating no slip defects, which needs no relaxation of the residual stress by incorporation of dislocation, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加
本発明は、GaAs単結晶ウエハを用いたデバイス製造プロセス中の熱処理に対して、そのウエハ自身の反りや、熱処理時のウエハ面内温度均一性といった影響を低減し、転位の導入による残留応力の緩和を必要としないスリップ不良の発生が無いGaAs単結晶ウエハ及びその製造方法を提供することにある。 - 特許庁
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