Tebとは 意味・読み方・使い方

When the gear shift operation is being executed from t1 to t2, Tetvo and Teign are set to Teb+Tep and Teb+Tep+Tet, respectively.例文帳に追加

t1〜t2の変速中は、Tetvo＝Teb＋Tepとし、Teign＝Teb＋Tep＋Tetとする。 - 特許庁

Tetvo and Teign coincide with t1 and t2; when the gear shift operation is being executed from t1 to t2, Tet is achieved by highly-responsive ignition time control, and Teb and Tep are achieved by throttle opening control excelling in steady stability.例文帳に追加

TetvoおよびTeignはt1およびt2に一致し、t1〜t2の変速中、Tetが高応答な点火時期制御により達成され、TebおよびTepが定常安定性に優れたスロットル開度制御により達成される。 - 特許庁

The other end terminal TEb of the bus-bar 20 is connected with the housing 1, at a connection point FG1 near the connection point FG2.例文帳に追加

バスバー２０の他方端の端子ＴＥａを、接続点ＦＧ２の近傍の接続点ＦＧ１で筐体１に接続する。 - 特許庁

The manufacturing method includes a first supplying step of supplying a TEB gas to a substrate 11 heated by a heater 12 by a nitrogen gas serving as a carrier gas for a first predetermined period of time, and a second supplying step of supplying an NH_3 gas to the substrate 11 with the TEB gas supplied by the nitrogen gas serving as the carrier gas for a second predetermined period of time.例文帳に追加

ヒータ１２により加熱された基板１１に対して、ＴＥＢガスを、キャリアガスとしての窒素ガスにより第１の所定時間だけ供給する第１の供給工程と、ＴＥＢガスが供給された基板１１に対して、ＮＨ_３ガスを、キャリアガスとしての窒素ガスにより第２の所定時間だけ供給する第２の供給工程とを有する。 - 特許庁

At this time the dispersion head 152 is filled with the TEB gas so that the change of a etching ratio of a membrane interface is suppressed and the shape of the membrane interface is improved when forming of the film is started.例文帳に追加

成膜開始時点において、ディスパージョンヘッド１５２内にＴＥＢガスが充満しているので、成膜開始時における界面のエッチング比率の変化が抑制され、界面形状が良好となる。 - 特許庁

Among these, tracking error signals TEa, TEb generated respectively from output of the optical detector 12 by the reflection light beams 63a, 63b of the ± primary light beams 53a, 53b are calculated and a signal SE corresponding to the thickness error of the transparent substrate 8a of the optical disk 8 is obtained.例文帳に追加

このうち、±１次光５３ａ，５３ｂの反射光６３ａ，６３ｂによる光検出器１２の出力からそれぞれ生成されたトラッキング誤差信号ＴＥａ，ＴＥｂを演算して、光ディスク８の透明基板８ａの厚み誤差に対応した信号ＳＥを得る。 - 特許庁

At the time of forming a BPSG film in an atmospheric pressure CVD system 100, a settling process is performed at first such that TES gas, TMOP gas and TEB gas, among film deposition gases, are supplied at a high concentration to a dispersion head 152 and O_3 gas is not supplied to the dispersion head 152.例文帳に追加

常圧ＣＶＤ装置１００において、ＢＰＳＧ膜を形成する際、まず、安定化工程として、ディスパージョンヘッド１５２に対して、成膜ガスのうち、ＴＥＯＳガス、ＴＭＯＰガス、ＴＥＢガスを高濃度で供給し、Ｏ_3ガスについてはディスパージョンヘッド１５２に供給しない。 - 特許庁