WFsとは 意味・読み方・使い方

Further, the fine movement stage WFS is driven in directions of six degrees of freedom and then the wafer W is precisely positioned.例文帳に追加

また、微動ステージＷＦＳを６自由度方向に駆動することができるので、ウエハＷの位置決めを精度よく行うことができる。 - 特許庁

During exposure of the wafer W, the rough movement stage WRS and fine movement stage WFS are relatively moved to move the wafer W and then output from an XY driving system or XYM driving the rough movement stage is suppressed.例文帳に追加

そして、ウエハＷの露光動作中においては、粗動ステージＷＲＳと微動ステージＷＦＳとを相対移動することによりウエハＷの移動を行うことで、粗動ステージを駆動するＸＹ駆動系かＸＹＭらの出力を抑制する。 - 特許庁

In measurement of positional information in the XY plane of a fine movement stage WFS held by a coarse movement stage WCS, an encoder system is used including a head which is placed facing a grating RG placed on a surface substantially parallel to the XY plane of the fine movement stage and irradiates the grating with a measurement beam.例文帳に追加

粗動ステージＷＣＳに保持された微動ステージＷＦＳのＸＹ平面内での位置情報の計測には、微動ステージのＸＹ平面に実質的に平行な一面に配置されたグレーティングＲＧに対向して配置され、該グレーティングに計測ビームを照射するヘッドを含むエンコーダシステムが用いられる。 - 特許庁

A wafer stage WST which holds a wafer W and moves on an XY plane includes a rough movement stage WRS which moves on the XY plane and a fine movement stage WFS which moves relatively to the rough movement stage WRS in directions parallel to a Y axis and an X axis and rotates on the axes.例文帳に追加

ウエハＷを保持してＸＹ平面上を移動するウエハステージＷＳＴを、ＸＹ平面上を移動可能な粗動ステージＷＲＳと、該粗動ステージＷＲＳに対してＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸それぞれに平行な方向に相対移動可能で、かつ各軸回りの回転方向に回動することが可能な微動ステージＷＦＳとで構成する。 - 特許庁

In the equalizer 5, tap coefficients Wfs are generated by every symbol and the waveform equalization is performed by them, in addition, the tap coefficients Wf are supplied to a vector length output part 8, pieces of vector length R of the tap coefficients R are calculated and the gains G are obtained by averaging pieces of the vector length R sequentially obtained by every symbol by an averaging part 9.例文帳に追加

等化器５では、シンボル毎にタップ係数Ｗｆが生成され、これで波形等化が行なわれるが、このタップ係数Ｗｆは、また、ベクトル長出力部８に供給されてタップ係数Ｗｆのベクトル長Ｒが算出され、平均化部９でシンボル毎に順次得られたベクトル長Ｒを平均化することにより、上記のゲインＧが得られる。 - 特許庁

A drive system drives the movable body based on measurement results of a first measurement system for measuring the position of the movable body in an XY plane and measurement results of a second measurement system for measuring variations in an arm member 71 via a laser interferometer by irradiating a grating RG disposed on one surface in parallel with the XY plane of the movable body WFS with measurement beams from the arm member 71.例文帳に追加

駆動系により、アーム部材７１から移動体ＷＦＳのＸＹ平面に平行な一面に配置されたグレーティングＲＧに対して計測ビームを照射して移動体のＸＹ平面内の位置を計測する第１計測系の計測結果と、レーザ干渉計を用いてアーム部材７１の変動を計測する第２計測系の計測結果と、に基づいて移動体が駆動される。 - 特許庁