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XeCl Laserとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 excimer laserやエキシマの同義語(異表記)
Weblio英和対訳辞書での「XeCl Laser」の意味 |
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XeCl Laser
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なお、excimer laserやエキシマ以外のXeCl Laserの同義語としては、下記のような項目があります。
「XeCl Laser」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 10件
The SiC wafer 1 is irradiated with an XeCl excimer laser beam simultaneously with hydrogen ion implantation.例文帳に追加
このように水素イオンを注入すると同時に、ＳｉＣウエハ１にＸｅＣｌエキシマレーザ光を照射する。 - 特許庁
To provide a colored radiation-sensitive composition for exposure by a XeCl excimer laser, the composition being suitable for manufacturing a color filter.例文帳に追加
カラーフィルタの製造に適するＸｅＣｌエキシマレーザー露光用着色感放射線性組成物の提供。 - 特許庁
A noncrystalline film 14 is irradiated with pulses (energy beam E_1) uniformly 150 times by using an XeCl excimer laser.例文帳に追加
ＸｅＣｌエキシマレーザを用いて非晶質膜１４に対して一様に１５０回のパルス（エネルギービームＥ_1）照射を行う。 - 特許庁
A noncrystalline film 14 is irradiated with pulses (energy beam E1) uniformly 150 times by using an XeCl excimer laser.例文帳に追加
ＸｅＣｌエキシマレーザを用いて非晶質膜１４に対して一様に１５０回のパルス（エネルギービームＥ１）照射を行う。 - 特許庁
Amorphous silicon 2 is formed on the flexible substrate 1 of metal or resin and its surface is polysiliconized by laser anneal using an XeCl excimer laser, or the like.例文帳に追加
金属や樹脂性のフレキシブル基板１上にアモルファスシリコン２を形成し、その表面をＸｅＣｌエキシマレーザー等を用いたレーザーアニールによりポリシリコン化する。 - 特許庁
An XeCl excimer laser beam 11 is emitted in the air on the removal object region (3 by 3 mm square) of an ITO film 2 formed on a glass substrate 1 (b).例文帳に追加
ガラス基板１上に形成したＩＴＯ膜２の除去対象領域（３ｍｍ角）にＸｅＣｌエキシマレーザ光１１を、空気中で照射する（（ｂ））。 - 特許庁
After that, an Xecl excimer laser is applied in the film thickness direction of the semiconductor film at an energy density for fusing the semiconductor film at 85% or higher to about 97% or lower and the semiconductor film is recyrstallized.例文帳に追加
その後、Ｘｅｃｌエキシマレーザを、該半導体膜の膜厚方向に対して８５％以上９７％程度以下溶融させるエネルギー密度で照射し、該半導体膜を再結晶化させる。 - 特許庁
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「XeCl Laser」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 10件
On the contrary, for an XeCl excimer laser beam, e.g., with a wavelength of 308nm, its transmission for a glass substrate is less than 40% with most of the energy absorbed by glass, thus being unable to obtain sufficient energy for the activation.例文帳に追加
これに対し、例えば、波長３０８ｎｍのＸｅＣｌエキシマレーザビームの場合には、ガラス基板に対する透過率は４０％未満であり、ガラス基板にほとんど吸収され、活性化に必要なエネルギーを十分に得ることができない。 - 特許庁
The colored composition comprises a pigment, a transparent resin, a polyfunctional monomer having four or more ethylenically unsaturated double bonds, a photopolymerization initiator and polyfunctional thiol, and is curable upon irradiation with an excimer laser having a wavelength of 308 nm (XeCL).例文帳に追加
顔料、透明樹脂、４つ以上のエチレン性不飽和二重結合を有する多官能モノマー、光重合開始剤および多官能チオールを含有し、かつ、波長３０８ｎｍ(ＸｅＣＬ)のエキシマレーザ照射で硬化可能な着色組成物。 - 特許庁
The prescribed position of the catalyst layer 15 is irradiated with an XeCl pulse laser beam of a wavelength 308 nm, pulse width 14 nsec, and energy density 600 mJ/cm^2 as an energy beam EB in a reactive gaseous atmosphere and thereby the irradiated positions are heated.例文帳に追加
次いで、反応ガス雰囲気中で、エネルギービームＥＢとして、波長３０８ｎｍ、パルス幅１４ｎｓｅｃ、エネルギー密度６００ｍＪ／ｃｍ^2 のＸｅＣｌパルスレーザビームを、触媒層１５の所定の位置に照射することにより、照射された位置を加熱する。 - 特許庁
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