XeF2とは 意味・読み方・使い方

To improve etching uniformity and prevent delay of etching reaction due to natural oxide film generated on a polysilicon surface in etching of polysilicon using XeF2 gas.例文帳に追加

ＸｅＦ_2 ガスを用いたポリシリコンのエッチングにおいて発生する、ポリシリコン表面の自然酸化膜によるエッチング反応の遅れを解決するとともに、エッチング均一性の向上を図る。 - 特許庁

When etching a first inter-layer dielectric film 9, a XeF2 gas is used; when patterning a bit line 10 composed of a silicide film, a BrF3 is used; and when forming a storage node 12 composed of a polysilicon film, a BrCl gas is used.例文帳に追加

シリコン酸化膜からなる第１層間絶縁膜９をエッチングする際にはＸｅＦ2 ガスを、シリサイド膜からなるビット線１０をパターニングする際にはＢｒＦ3 ガスを、ポリシリコン膜からなるストレージノード１２を形成する際には、ＢｒＣｌガスを用いる。 - 特許庁