Zinc residuesとは 意味・読み方・使い方

To provide an etching method of a zinc oxide-based material, which can evenly etch the zinc oxide-based material without generating etching residues.例文帳に追加

エッチング残渣を発生させず平坦にエッチングできる酸化亜鉛系材料のエッチング方法を提供すること。 - 特許庁

The etching method presents an effect capable of evenly etching the zinc oxide-based material, especially a zinc oxide-based material having a (000-1) crystal surface, without generating etching residues.例文帳に追加

酸化亜鉛系材料、とりわけ（０００−１）の結晶面を有する酸化亜鉛系材料を、エッチング残渣を発生させず平坦にエッチングできるという効果を奏する。 - 特許庁

In the zinc concentrate leaching stage, residues in the neutral leaching and iron precipitates repeatedly produced from the iron oxidizing stage are repulped by returned acid, zinc concentrate is added thereto, and zinc is leached under the atmospheric pressure at a temperature between 90°C and the boiling point.例文帳に追加

亜鉛精鉱浸出工程では、中性浸出残滓と鉄酸化工程から繰り返される鉄殿物とを戻り酸でリパルプし、これに亜鉛精鉱を添加し、大気圧下、９０℃以上沸点以下の温度で亜鉛を浸出する。 - 特許庁

A polymer which contains zinc ion, calcium ion, or magnesium ion and polymerized residues of 0.5 to 7 wt.% itaconic acid and 4 to 15 wt.% (meth)acrylic acid is prepared by forming a polymerization mixture having from 0.5 to 8 wt.% of a di-(meth)acrylate salt of zinc, calcium, or magnesium ion.例文帳に追加

０．５〜８重量％の亜鉛、カルシウムもしくはマグネシウムイオンのジ（メタ）アクリラート塩を有する重合混合物を形成し、亜鉛イオン、カルシウムイオンもしくはマグネシウムイオン；０．５〜７重量％のイタコン酸および４〜１５重量％の（メタ）アクリル酸の重合残基を含むポリマーを製造する。 - 特許庁

The etching method includes a first process (S1) for etching the zinc oxide-based material by a solution containing oxalic acid and a second process (S2) for removing etching residues generated in the first process by using an alkaline solution.例文帳に追加

蓚酸を含有する溶液で酸化亜鉛系材料をエッチングする第１の工程（Ｓ１）と、アルカリ性溶液を用いて、前記第１の工程におけるエッチング残渣を除去する第２の工程（Ｓ２）を有している。 - 特許庁

To provide an etching method for a thin film composed of zinc-oxide based crystal, wherein the method suppresses side etching and anisotropic etching, and suppresses occurrence of etching residues, not depending on coarseness or fineness of wiring patterns and on pattern geometry, while the method performs etching treatment with the optimum etching rate.例文帳に追加

酸化亜鉛系結晶からなる薄膜のエッチングにおいて、最適なエッチング速度でエッチング処理を施すことができ、配線パターンの粗密やパターン形状に依存せず、サイドエッチングや異方性エッチングを抑制し、且つエッチング残渣の発生を抑制するエッチング方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a suitable etching liquid composition capable of flattening an etched surface when etching a metal oxide material, especially a divalent metal oxide or a trivalent metal oxide and zinc oxide-based material, capable of suppressing the generation of etching residues and capable of preventing an electrode material from being corroded.例文帳に追加

金属酸化物材料、とりわけ、二価金属の酸化物または三価金属の酸化物、更には酸化亜鉛系材料のエッチング時にエッチングされた面を平坦にでき、エッチング残渣を抑制し、かつ、電極材料の腐食がない好適なエッチング液組成物を提供する。 - 特許庁