BMDsとは 意味・読み方・使い方

To form BMDs inside a silicon wafer in a shorter time and by a lower temperature heat treatment than conventional.例文帳に追加

従来よりも短時間かつ低温の熱処理でシリコンウェーハ内部でのＢＭＤ形成を行う。 - 特許庁

To accurately count and evaluate BMDs in a surface layer part of a silicon wafer, irrespective of kinds of etching liquids.例文帳に追加

本発明は、エッチング液の種類によらず、シリコンウェハ表層部のＢＭＤを確度高く計数し、評価することができる検査方法を実現することを目的とする。 - 特許庁

The present invention provides a technique for protecting the surface layer part in selective etching and for evaluating the BMDs in the surface layer part, by forming nitride film (film having high resistance against hydrofluoric acid etching) in the silicon wafer with a surface coated with an oxide film.例文帳に追加

本発明は、酸化膜が表面を覆っているシリコンウェハに窒化膜（フッ酸エッチングに対する高い耐性を有する膜）を形成することで、選択エッチングを行った際に表層部を保護し、表層部のＢＭＤ評価が可能となる技術を提供する。 - 特許庁

To stabilize the quality of an annealed wafer by reliably decreasing SSDs (surface shallow defects which are recessed defects of an extremely wide and shallow shape on the surface), while ensuring generation of void defects other than the SSDs and generation of BMDs (bulk micro defects) indispensable as a gettering source in the bulk.例文帳に追加

アニールウェーハにとって必要不可欠なウェーハ表面におけるＳＳＤ（表面の非常に幅広く、浅い形状の凹状欠陥；Surface Shallow Defect）以外のボイド欠陥の低減や、バルク内のゲッタリング源としてのＢＭＤ（バルク微細欠陥；Bulk micro defect）の生成を保証しつつ、ＳＳＤを確実に低減させるようにして、アニールウェーハの品質を安定させる。 - 特許庁