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C nmとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 先天性非進行性ミオパチー
「C nm」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 796件
The rubber composition is prepared by compounding sulfur (B), a cobalt salt of an organic aid (C), and particulate zinc white (D) having a particle diameter of from 10 nm to 250 nm into a rubber component (A).例文帳に追加
ゴム成分(A)に対して、硫黄(B)と、有機酸コバルト塩(C)と、粒子径が10 nm〜250 nmの微粒亜鉛華(D)とを配合してなることを特徴とするゴム組成物である。 - 特許庁
The luminous layer structure has a luminous layer having at least one thin film layer composed of an oxide semiconductor ultrafine particles having 1 nm to 10 nm average particle diameter and the luminous layer enables light emission by light excitation having 250 nm to 800 nm region without annealing the layer at ≥100°C.例文帳に追加
平均粒径が1nm〜10 nmの酸化物半導体超微粒子からなる少なくとも1層の薄膜層を有する発光層を有し、前記発光層が100℃以上の温度でアニールすることなく250 nm〜800 nm領域の光励起による発光可能な発光層構造物。 - 特許庁
An AlN buffer layer 12 is formed with the film thickness of about 20 nm at a temperature 500°C on a 6H-SiC substrate 11, then the temperature is turned to 1050°C and a GaN layer 13 is grown for about 3 μm.例文帳に追加
6H-SiC基板11上に温度500℃でAlNバッファ層12を20nm程度の膜厚で形成する。 - 特許庁
The unknown quantity of the expanded series is defined as expanded unknown quantity C nm and a simultaneous (primary) equation is numerically generated for the unknown quantity to be formed by ϕ nm and the expanded unknown quantity C nm.例文帳に追加
級数展開された級数の未知数を級数化未知数Cnmとして、φnmと級数化未知数Cnmとから形成される未知数に関して数値的に連立(一次)方程式を作成する。 - 特許庁
At t2 when the fastening capacity Tc of E/C becomes sufficient and MG 1 torque Tm1 becomes 0 Nm, the transition to the parallel hybrid mode is completed.例文帳に追加
E/Cの締結容量Tcが十分になり、MG1トルクTm1が0Nmになるt2に、パラレルハイブリッドモードへの遷移が完了する。 - 特許庁
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遺伝子名称シソーラスでの「C nm」の意味 |
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CNM
human | 遺伝子名 | CNM |
同義語(エイリアス) | XLMTM; CG2; MTMX; myotubular myopathy 1; MTM1; myotubularin 1; Myotubularin | |
SWISS-PROTのID | SWISS-PROT:Q13496 | |
EntrezGeneのID | EntrezGene:4534 | |
その他のDBのID | HGNC:7448 |
本文中に表示されているデータベースの説明
「C nm」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 796件
A TiSi seed layer (25 nm), CrMo base layer (25 nm), CoNiCrTa magnetic layer (20 nm) and C protective layer (10 nm) are successively formed by sputtering on the surface of a glass substrate where minute recesses and projections are formed.例文帳に追加
微小凹凸が形成されたガラス基板の表面に、スパッタリングによって順次、TiSiシード層(25nm)、CrMo下地層(25nm)、CoNiCrTa磁性層(20nm)、C保護層(10nm)を形成した。 - 特許庁
The curable composition with a negative color contains a polymerization initiator C-1 having absorption at 365 nm wavelength and a polymerization initiator C-2 having an absorption maximum at 250-300 nm wavelength and exhibiting a smaller absorption value at 365 nm wavelength than the polymerization initiator C-1 when the polymerization initiators C-2 is equimolar to the polymerization initiators C-1.例文帳に追加
重合開始剤として、波長365nmに吸収を有する重合開始剤C−1と、波長250〜300nmに吸収極大を有し、前記重合開始剤C−1と等モルでは波長365nmでの吸収値が前記重合開始剤C−1よりも小さい重合開始剤C−2とを含んでいる。 - 特許庁
The oscillation wavelength of the semiconductor laser element 220 is 868 nm (≥857 nm and ≤871 nm) at 25°C while it is still a chip before resin molding.例文帳に追加
また、半導体レーザ素子220は、樹脂モールドする前のチップ状態で25℃における発振波長を868nm(857nm以上かつ871nm以下の範囲内)とする。 - 特許庁
The back coat layer contains (a) carbon black having 15-25 nm average particle diameter, (b) carbon black having 60-80 nm average particle diameter and (c) CaCO3 and/or BaSO4 having 30-75 nm average particle diameter as the nonmagnetic powder.例文帳に追加
該バックコート層は、非磁性粉末として、(a) 平均粒径が15〜25nmのカーボンブラックと、(b) 平均粒径が60〜80nmのカーボンブラックと、(c) 平均粒径が30〜75nmのCaCO_3 及び/又はBaSO_4 とを含有する。 - 特許庁
The optical glass has ≤650°C glass transition point and refractive index of ≥1.70 at 633 nm wavelength.例文帳に追加
ガラス転移点≦650℃、633nmでの屈折率≧1.70である前記光学ガラス。 - 特許庁
The cellulose acetate film in which the retardation value in the thickness direction is -12 nm to 25 nm, the density of the film is adjusted at most 1.280 at 25°C.例文帳に追加
厚み方向のレターデーション値を−12nm乃至25nmとする場合に、25℃におけるフイルム密度を1.280以下に調整する。 - 特許庁
Preferably, the antireflection coating composition further contains (C) a water-soluble resin, and (D) metal oxide particles having a number average particle size of 1 nm to 400 nm.例文帳に追加
さらに(C)水溶性樹脂を含むことが好ましく、(D)数平均粒子径1nm〜400nmの金属酸化物粒子を含む。 - 特許庁
However, Re[450], Re[550] and Re[650] are in-plane phase difference values measured with light of wavelengths of 450 nm, 550 nm and 650 nm at 23°C, and Rth[550] is a phase difference value in a thickness direction measured with light of wavelength of 550 nm at 23°C.例文帳に追加
(ただし、Re[450]、Re[550]およびRe[650]は、それぞれ、23℃における波長450nm、550nmおよび650nmの光で測定した面内の位相差値であり、Rth[550]は、23℃における波長550nmの光で測定した厚み方向の位相差値である。) - 特許庁
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