C-Brとは 意味・読み方・使い方

The BR preferably contains at least one of (A) a butadiene coordination polymer using a transition metal compound or a transition metal compound metallocene type complex as a catalyst, (B) an anionic butadiene polymer using a lithium compound as a catalyst, and (C) BR containing syn-1, 2-PB crystals.例文帳に追加

前記ＢＲは、（Ａ）遷移金属化合物または遷移金属化合物のメタロセン型錯体を触媒としたブタジエンの配位重合体、（Ｂ）リチウム化合物を触媒としたブタジエンのアニオン重合体、（Ｃ）ｓｙｎ−１，２−ＰＢ結晶を含むＢＲの群から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましい。 - 特許庁

Stimulable phosphor BaFX:Eu^2+(X:I(iodine), Br(bromine), Cl(chlorine)) powder and lead glass powder are mixed and applied to a substrate, then is sintered within the temperature range of 450°C to 650°C, and is vitrified to form the imaging plate highly sensitive to X-rays and γ-rays.例文帳に追加

輝尽性蛍光体ＢａＦＸ：Ｅｕ^2+（Ｘ：Ｉ（ヨウ素），Ｂｒ（臭素），Ｃｌ（塩素））粉末と鉛ガラス粉末とを混合し、基板に塗布した後、４５０℃以上６５０℃以下の温度範囲内で焼結し、ガラス状化し、Ｘ線及びγ線に高感度なイメージングプレートとする。 - 特許庁

The compatibility of a combination of BR having -100°C or lower relatively low glass transition temperature (Tg) with HVS-SBR having at least 30°C or higher relatively high Tg (thereby, the difference of Tg is at least 70°C) is promoted by a high HVS-SBR vinyl content of about 40 to 50 percent on the basis of the polybutadiene component.例文帳に追加

−１００℃またはそれより低い比較的低いガラス転移温度（Ｔｇ）を有するＢＲと、少なくとも３０℃またはそれより高い比較的高いＴｇを有するＨＶＳ−ＳＢＲ（従って、Ｔｇの差が少なくとも７０℃である）との組み合わせの相溶性は、そのポリブタジエン成分に基づいて約４０〜約５０パーセントのＨＶＳ−ＳＢＲの高いビニル含量によって促進される。 - 特許庁

This thermoplastic resin composition is provided by including a thermoplastic resin (A), a graft polymer (B) obtained by polymerizing a monomer component (b) containing phenyl (meth)acrylate (b1) which may have a substituent, in the presence of a rubber like polymer (br) containing a polyorganosiloxane-based rubber (bs), a flowability-improver (C) and a dripping inhibitor (D).例文帳に追加

熱可塑性樹脂（Ａ）、ポリオルガノシロキサン系ゴム（ｂｓ）を含むゴム質重合体（ｂｒ）の存在下で、置換基を有していてもよいフェニル（メタ）アクリレート（ｂ１）を含む単量体成分（ｂ）を重合して得られるグラフト重合体（Ｂ）、流動性向上剤（Ｃ）及び滴下防止剤（Ｄ）を含む熱可塑性樹脂組成物。 - 特許庁

(wherein R^1 represents a hydrogen atom, 1-5C alkyl or phenyl, X represents a Br atom, an I atom, p-toluenesulfonyl or methane sulfonyl, and the position of a substituent represented by -CH_2-X may be an ortho-position, meta-position or para-position to the position of a substituent represented by CH_2=C(R^1)-).例文帳に追加

（Ｒ^１は水素原子または炭素数１〜５のアルキル基、フェニル基。Ｘは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子または、p−トルエンスルホニル基、メタンスルホニル基。−ＣＨ_２−Ｘで表される置換基の位置としては、ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ^１）−で表される置換基に対してオルト位、メタ位またはパラ位のいずれでもよい） - 特許庁

The lithographic projection apparatus is characterized by the mirror 300 having a mirroring surface formed with a blazed grating comprising one or more protrusions 100 comprising a material selected from among at least one of Be, B, C, P, S, K, Ca, Sc, Br, Rb, Sr, Y, Zr, Nb, Mo, Ba, La, Ce, Pr, Pa and U.例文帳に追加

Ｂｅ、Ｂ、Ｃ、Ｐ、Ｓ、Ｋ、Ｃａ、Ｓｃ、Ｂｒ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｂａ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｐａ及びＵのうちの少なくとも１つから選択された材料からなる１つ又は複数の突起１００によるブレーズド格子を形成した鏡映表面を有するミラー３００を特徴とするリソグラフィック投影装置。 - 特許庁

The new compounds of formula (I): CF_3-CXCl-CH(OH)CH_2-C(CH_3)_2-CH_2-CO_2R (wherein, X is Cl or Br; and R is H or a ≤4C alkyl), a method for producing the compound and use as intermediates for producing insecticidal cyclopropane derivatives are provided.例文帳に追加

本発明は、式（Ｉ）：ＣＦ_３−ＣＸＣｌ−ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２−Ｃ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ_２−ＣＯ_２Ｒ（式中、Ｘはクロロまたはブロモを表し、Ｒは水素または炭素原子数４以下のアルキル基を表す）の新規化合物、それらの化合物の製造方法、並びに、殺虫性シクロプロパン誘導体の製造における中間体としての用途を提供する。 - 特許庁

The objective photosensitive material containing the tribromomethylsulfonyl compound satisfies one of the following conditions; ≤294 kJ/mol C-Br bond excitation energy obtained from quantum chemical calculation using the molecular orbital method in consideration of the Franck- Condon principle, ≤210 kJ/mol energy in the singlet state to the ground state and ≤168 kJ/mol energy in the triplet state to the ground state.例文帳に追加

本発明に係るトリブロモメチルスルホニル化合物を含有する感光材料は、分子軌道法を用いる量子化学計算から求められた、フランク−コンドンの原理を考慮した炭素−臭素結合の励起エネルギが２９４ｋＪ／ｍｏｌ以下、基底状態に対する一重項状態のエネルギが２１０ｋＪ／ｍｏｌ以下、または基底状態に対する三重項状態のエネルギが１６８ｋＪ／ｍｏｌ以下のいずれかの条件を満たしている。 - 特許庁