C3F8とは 意味・読み方・使い方

After that, the mixture of a Cl2 gas and C3F8 gas with an Ar gas (Cl2/C3F8/Ar gases) is used by a two-frequency RIE method or ICP type RIE method, the film 3 is dry-etched using the resist 4 as a mask and an Au wiring 3a is formed.例文帳に追加

その後、２周波ＲＩＥ又はＩＣＰ方式のＲＩＥにより、Ｃｌ_２ガス、Ｃ_３Ｆ_８ガス及びＡｒガス（Ｃｌ_２／Ｃ_３Ｆ_８／Ａｒ）の混合ガスを使用し、レジスト４をマスクとして、Ａｕ膜３をドライエッチングし、Ａｕ配線３ａを形成する。 - 特許庁

To provide a gas insulated switchgear for attaining size reduction, after suppressing the use of fleon gas of SF6, c-C4F8, CF3SF5, C3F8, CF3OSF3, etc.例文帳に追加

ＳＦ６、ｃ-Ｃ４Ｆ８、ＣＦ３ＳＦ５、Ｃ３Ｆ８、ＣＦ３ＯＳＦ３などのフロンガスの使用を抑制した上で、小型化を図ったガス絶縁開閉装置を提供する。 - 特許庁

At least one kind of gas selected from the gases of fluorine- carbon compounds CR4, CHF3, C2F6, C3F8 and C4F8 is mixed into methane or ethylene as a film deposition gaseous starting material and is used, further, while light with any wavelength in the region from far infrared radiation to ultraviolet radiation is applied on a substrate face, film deposition is performed by plasma CVD.例文帳に追加

成膜原料ガスであるメタン、またはエチレン中に、フッ素炭素化合物ＣＦ_4、ＣＨＦ_3、Ｃ_2Ｆ_6、Ｃ_3Ｆ_8、及びＣ_4Ｆ_8のガスから選ばれた少なくとも一種のガスを混合して用いるとともに、基板面に遠赤外線から紫外線域までのいずれかの波長の光を照射しながら、プラズマＣＶＤにより成膜する。 - 特許庁