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Cu‐concentrationの意味・使い方・読み方 | Weblio英和辞書
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JST科学技術用語日英対訳辞書での「Cu‐concentration」の英訳

Cu‐concentration


「Cu‐concentration」を含む例文一覧

該当件数 : 14



例文

METHOD FOR EVALUATING Cu CONCENTRATION OF SILICON WAFER例文帳に追加

シリコンウェーハ中のCu濃度評価方法 - 特許庁

The ratio between the Cu concentration (X) in the surface and the Cu concentration (Y) in the central part, (X/Y) is ≤5.0.例文帳に追加

Feを0.1〜0.5重量%、Siを0.01〜0.2重量%及びCuを0.001〜0.05重量%含む組成を有し、かつ表面のCu濃度(X)と中心部のCu濃度(Y)との比(X/Y)が5.0以下であるアルミニウム合金板とした。 - 特許庁

To provide a technique for controlling Cu concentration in solder without lowering the operating ratio of a solder dipping apparatus.例文帳に追加

半田ディップ装置の稼働率を低下させることなく半田中のCu濃度を制御できる技術を提供する。 - 特許庁

The Al-Fe-Si-based alloy layer satisfies the condition (1) that the mean thickness of the Al-Fe-Si-based alloy layer is15 μm, and preferably satisfies the condition (2) two layers of a phase A with high Cu concentration and a phase B with low Cu concentration coexist in the Al-Fe-Si-based alloy layer.例文帳に追加

(1)Al−Fe−Si系合金層の平均厚さが15μm以下であること (2)Al−Fe−Si系合金層は、Cu濃度が高いA相とCu濃度が低いB相の2相が混在したものであること - 特許庁

To provide a method for evaluating the total amount of Cu that is solid-solved in a silicon wafer, and moreover the Cu concentration of a bulk region even though in the use of a total X-ray reflection fluorescence (TXRF) method for measuring the Cu concentration of a surface of the silicon wafer.例文帳に追加

シリコンウェーハの表面におけるCuの濃度を測定するTXRF法を用いるにもかかわらず、シリコンウェーハ中に固溶しているCuの全量、ひいてはバルク領域中のCu濃度を評価する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a Cu evaluating method in a silicon wafer, with which Cu concentration in the silicon wafer can precisely be detected with high sensitivity without a complicated process.例文帳に追加

煩雑な工程を経ることなく、シリコンウェーハ中のCu濃度を正確、かつ高感度に検出可能なシリコンウェーハ中のCu評価方法を提供する。 - 特許庁

例文

Metal materials used for the connector made of Cu-Sn alloy of which Cu concentration of the outermost surface of Cu-Sn alloy is reduced gradually toward the surface.例文帳に追加

およびこのコネクタに使用される金属材料であって、最表面が表面に向けて徐々にCu濃度を減少させたCu−Sn合金層からなるコネクタ用金属材料。 - 特許庁

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「Cu‐concentration」を含む例文一覧

該当件数 : 14



例文

Between the low-permittivity insulating layer 17 and the Cu wires 18 and 20, an ionization reduction layer 22 is disposed and includes elements each of which has a work function smaller than 3 eV, and has a Cu concentration lower than 10 atom%.例文帳に追加

低誘電率絶縁層17とCu配線18、20との間には、単体の仕事関数が3eV未満の元素を含み、Cu濃度が10原子%未満であるイオン化抑制層22が配置されている。 - 特許庁

Thereby, the Cu-diffused ZAS alloy is obtained, in which Cu diffuses to a distance of 0.5 mm or deeper inside from the surface of the ZAS alloy, and the Cu concentration decreases toward the inside of the ZAS alloy from the surface.例文帳に追加

これにより、ZAS合金の表面からの深さが0.5mm以上の内部にまでCuが拡散し、かつCuの濃度がZAS合金の表面から内部に指向して減少したCu拡散ZAS合金が得られる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a silicon epitaxial wafer, in which the yield is improved in a post-process by preventing an SF from occurring in an epitaxial layer and effectively reducing the Cu concentration in a substrate.例文帳に追加

エピタキシャル層に発生するSFを防止するとともに、基板内部のCu濃度を効果的に低減することによって、後工程での歩留まりを向上することができるシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Silver oxide is added into the second mixing tank 3 so as to make Cu concentration in the supernatant liquid in the second sedimentation tank 4 ≤0.05 g/l and silver oxide is added into the first mixing tank 1 so as to make pH of the first mixing vessel 1 in a range 4-6.例文帳に追加

第2沈降槽4の上澄液のCu濃度が0.05g/l以下となるように第2混合槽3に酸化銀を添加し、第1混合槽1のpHが4〜6の範囲となるように第1混合槽1に酸化銀を添加する。 - 特許庁

The quartz glass has Cu concentration of ≤0.01 ppm at the depth of 5 mm from the exposed surface when exposed to Cu oxide vapor at 1,050°C for four hours under the atmosphere, contains ≤0.2 ppm in total of Li and Na and <0.1 ppm each of Li, Na, K, Mg, Ca and Cu.例文帳に追加

1050℃、大気圧下で4時間、酸化銅蒸気に曝露させた時に、曝露表面から5mmの深さにおけるCuの濃度が0.01ppm以下であり、LiとNaの含有量を総量で0.2ppm以下、K,Mg,Ca,Cuの含有量を各々0.1ppm未満の石英ガラス。 - 特許庁

The pickled steel plate is that of plain steel containing ≥0.03% Cu by mass in the steel, and the area ratio of the part in which Cu concentration obtained by measuring the surface of the steel plate after pickling using EPMA is5% is made to10%.例文帳に追加

鋼材中にCuを0.03質量%以上含有する普通鋼酸洗鋼板であって、酸洗後の鋼板表面をEPMAにより測定したCu濃度が5%以上である部分の面積率が10%以下であることを特徴とする色調性に優れたCu含有普通鋼酸洗鋼板。 - 特許庁

例文

In the nano crystal soft magnetic alloy which contains Cu element and in which crystal particles having an average particle size of 50 nm or less is partially present, a Cu segregation part where Cu element is segregated on a position deeper than 2 nm or more from the surface of the alloy and the maximum value of Cu concentration on the Cu segregation part is 6 atom.% or less.例文帳に追加

Cu元素を含み平均粒径が50nm以下の結晶粒が少なくとも一部に存在するナノ結晶軟磁性合金において、前記合金の表面から2nmよりも深い位置にCu元素が偏析するCu偏析部が存在し、前記Cu偏析部のCu濃度の最大値が6原子%以下であることを特徴とする。 - 特許庁

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「Cu‐concentration」の意味に関連した用語

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