Caro's acidとは 意味・読み方・使い方

Therefore, sulfuric acid and hydrogen peroxide solution can be efficiently mixed and thus, Caro's acid can be produced in a large amount and homogeneously in the inside of a treating vessel 10.例文帳に追加

このため、硫酸と過酸化水素水とを効率よく混合させることができ、それにより、処理槽１０の内部においてＣａｒｏ酸を多量かつ均一に生成することができる。 - 特許庁

To provide a chemical blending method and device for forming a Caro's acid, which is effective in removing resist from a substrate sufficiently when a sulphuric acid and a hydrogen peroxide solution are mixed together.例文帳に追加

硫酸と過酸化水素水とを混合させた際に、基板からのレジストの剥離等に有効なカロ酸を十分に生成させることができる薬液混合方法および薬液混合装置を提供する。 - 特許庁

To provide a technique for improving removal characteristics of a photo resist film (photosensitive masking layer) while reducing consumption of H_2O_2, in a wafer (substrate) cleaning process using a Caro's acid.例文帳に追加

カロー酸を用いたウエハ（基板）洗浄工程において、Ｈ_２Ｏ_２の使用量を低減しつつ、フォトレジスト膜（感光性マスキング層）の除去性を向上できる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate treating apparatus and substrate treating method capable of advantageously removing an organic film from the surface of the substrate by efficiently mixing sulfuric acid and hydrogen peroxide in the inside of a treating vessel to produce Caro's acid in a large amount and homogeneously in the inside of the treating vessel.例文帳に追加

処理槽の内部において硫酸と過酸化水素とを効率よく混合させ、処理槽の内部にＣａｒｏ酸を多量かつ均一に生成することにより、基板の表面から有機膜を良好に除去することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

Then, hydrogen peroxide solution is supplied onto the surface of the wafer W from which the resist is removed from the nozzle 2, after the resist is removed from the surface of the wafer W by the strong oxidizing power of Caro's acid contained in the SPM liquid.例文帳に追加

そして、ＳＰＭ液に含まれるカロ酸の強酸化力により、ウエハＷの表面からレジストが除去された後、そのレジストが除去されたウエハＷの表面に対して、ノズル２から過酸化水素水が供給される。 - 特許庁