Cericとは 意味・読み方・使い方

The etching solution contains anmonium ceric nitrate of 16 to 30 wt.% and nitric acid of 2 to <5 wt.%.例文帳に追加

硝酸第２セリウムアンモニウムの１６重量％〜３０重量％と、硝酸の２重量％以上５重量％未満を含有することを特徴とするエッチング液。 - 特許庁

A cerium oxide abrasive is provided that contains slurry, wherein ceric oxide having 2.5 or more of an integrated intensity ratio a/b, when the diffraction intensity by the face (111) obtained by X-ray diffraction is (a), the diffraction intensity by the face (200) is b is dispersed in a medium, and a method of grinding a predetermined substrate with this ceric oxide abrasive is provided.例文帳に追加

Ｘ線回折法で得られる（１１１）面による回折強度ａと（２００）面による回折強度ｂがａ／ｂの積分強度比で２．５以上である酸化セリウムを媒体に分散させたスラリーを含む酸化セリウム研磨剤及びこの酸化セリウム研磨剤で、所定の基板を研磨することを特徴とする基板の研磨法。 - 特許庁

The etching solution for the Ni-based thin film formed on a lath substrate comprises ceric ammonium nitrate of 8-12 wt.% and perchloric acid of 5-10 wt.% added to an aqueous medium.例文帳に追加

硝酸第２セリウムアンモニウム８〜１２重量％と、過塩素酸５〜１０重量％とを水性媒体中に含有することを特徴とする、ガラス基板上に形成されたニッケル系薄膜用エッチング液。 - 特許庁

To provide a cerium oxide abrasive that can grind at high speed and planarize the surface of a silicon oxide insulating film, etc., and a method of grinding a semiconductor element substrate by using the ceric oxide abrasive.例文帳に追加

酸化珪素絶縁膜等の被研磨面を、高速に、平坦に高速に研磨することが可能な酸化セリウム研磨剤、及びこの酸化セリウム研磨剤を使用した半導体素子基板の研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ultraviolet light absorber which comprises crystalline ceric oxide and can effectively exhibit excellent transparency and an ultraviolet light absorbing effect, when used as an additive for beat-resistant films, plastics, coatings, cosmetics, and so on.例文帳に追加

耐熱性フィルム、プラスチック、塗料、化粧品等への内添剤として使用することに透明性に優れ、より効果的に紫外線吸収効果を発現させる結晶質酸化第二セリウムからなる紫外線吸収剤を提供する。 - 特許庁

The smut removal composition for removing smut on the surface of aluminum or an aluminum alloy consists of: ceric sulfate of a concentration of 0.1 to 2.0% (A component); and a sulfuric acid aqueous solution of concentration of 1 to 5% (B component).例文帳に追加

アルミニウムまたはアルミニウム合金の表面におけるスマットを除去するためのスマット除去組成物であり、（Ａ成分）濃度０．１〜２．０％の硫酸第二セリウム、及び（Ｂ成分）濃度１〜５％の硫酸水溶液からなることを特徴とするスマット除去組成物。 - 特許庁

This crystalline ceric oxide has been surface-treated with 2-20 wt.%, based on the amount of CeO2, surface active agent and substantially does not contain particles having a particle diameter of ≥200 nm, and has an average particle diameter of 30-100 nm and a specific surface area of ≤70 m2/g.例文帳に追加

この結晶質酸化第二セリウムは、ＣｅＯ_２量に対し２〜２０重量％の界面活性剤で表面処理された、粒子径２００ｎｍ以上の粒子を実質的に含まない、平均粒子径３０〜１００ｎｍ、比表面積７０ｍ^２／ｇ以下のものである。 - 特許庁

The etchant for conductive films is characterized in that it contains at least ceric ammonium nitrate; an etching agent (a) for conductive film having at least one selected from the group consisting of perchloric acid, nitric acid and acetic acid; and a compound (b) represented by general formula (1): (Rf1SO_2)(Rf2SO_2)NX.例文帳に追加

少なくとも硝酸第二セリウムアンモニウムと、過塩素酸、硝酸および酢酸から選ばれる少なくとも１種とを有する導電膜用エッチング剤（ａ）と、下記の一般式（１）で表される化合物（ｂ）とを含有することを特徴とする導電膜用エッチング液、および該エッチング液を使用した導電膜のエッチング方法。 - 特許庁