FZ-8とは 意味・読み方・使い方

A β-Ga_2O_3-based single crystal 8 is produced by the FZ method (floating-zone method).例文帳に追加

β−Ｇａ_２Ｏ_３系単結晶８は、ＦＺ法（フローティングゾーン法）により製造される。 - 特許庁

At this time, the second reflecting mirror 30 provided in the vicinity of the FZ and the transparent quartz glass 3 are accommodated in a bore surrounded with a superconducting magnet 8, and thereby it is possible to grow a single crystal in the strong magnetic field.例文帳に追加

ここで、ＦＺ付近に設置された第２の反射ミラー３０と透明石英管３は、超伝導マグネット８に囲まれたボアの中に収納されていて、強磁場下で単結晶の育成をすることができる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which can suppress a frequency of the generation of a crack or chipping in a wafer to an approximately conventional level even if the thickness of a loaded wafer is reduced in comparison with a conventional wafer in a manufacturing line using a 8-inch diameter FZ wafer.例文帳に追加

８インチ径のＦＺウエハを用いる製造ラインで、投入ウエハの厚さを従来のものより薄くしても、ウエハの割れ欠けの頻度を従来と同様の程度に抑えることのできる半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

When the single crystal is grown by the FZ method, the periphery of the single crystal 8 neighbored to a melting zone 7 is surrounded with an induction coil 14 for slow cooling and the induction coil 14 for slow cooling is electrified with a current in the inverse phase to an induction coil 4 for heating.例文帳に追加

ＦＺ法による単結晶の育成方法において、溶融帯７近傍の単結晶８の周囲を徐冷用誘導コイル14で囲い、この徐冷用誘導コイル14に加熱用誘導コイル４と逆位相の電流を流す。 - 特許庁

To provide a method for producing an N-type silicon single crystal, in which generation of OSF (oxidation-induced stacking fault) is prevented even when a silicon single crystal is produced by an FZ (floating zone) method, particularly, a silicon single crystal having a diameter of 8 inches (200 mm) or more is produced, and the N-type silicon single crystal.例文帳に追加

ＦＺ法によりシリコン単結晶、特には直径８インチ（２００ｍｍ）以上のシリコン単結晶を製造する場合であっても、ＯＳＦの発生を防止することができるＮ型シリコン単結晶製造方法及びＮ型シリコン単結晶を提供することを目的とする。 - 特許庁

The scanner 1 includes a light emitting section 2 for irradiation with a laser light, a light receiving section 3 for receiving the laser light which is not blocked, and a signal conversion element 4 for outputting a numerical signal corresponding to the quantity of the received light Fz, and is configured so as to move relative to the film roll 8 in the width direction parallel to its axial line.例文帳に追加

走査装置１は、レーザー光を照射する発光部２と、遮られなかったレーザー光を受光する受光部３と、受光した光量Ｆｚに応じて数値化信号を出力する信号変換素子４とを含み、かつ、フィルムロール８に対してその軸線と平行に且つ幅方向に沿って相対的に移動可能に構成される。 - 特許庁