Gesiとは 意味・読み方・使い方

CRUCIBLE FOR MANUFACTURING GeSi SINGLE CRYSTAL例文帳に追加

ＧｅＳｉ単結晶製造用のるつぼ - 特許庁

The sticking of a silicon oxide film to the seed crystal 9 is avoided by using the crucible C for manufacturing the GeSi single crystal.例文帳に追加

このＧｅＳｉ単結晶製造用のるつぼＣを用いることにより、種結晶９へのＳｉの酸化物膜の付着が無くなる。 - 特許庁

A content y shown in the composition formula is ≥23 atomic% and ≤26 atomic%, and an Si ratio Z occupying in GeSi is ≥0.1 and ≤0.6.例文帳に追加

前記組成式に示す含有量ｙは、２３原子％以上２６原子％以下であり、ＧｅＳｉ中に占めるＳｉ比Ｚは、０．１以上０．６以下である。 - 特許庁

Further, a good quality GeSi single crystal can be obtained by using the crucible C because the formation of cracks or peeling in the silicon nitride film is suppressed while cracks or peeling are formed in the case of the silicon nitride film applied on a quartz crucible.例文帳に追加

また石英るつぼにコーティングされた窒化珪素膜のように亀裂や剥離が生じないので、良質なＧｅＳｉ単結晶が得られる。 - 特許庁

A base layer constituted of a GeSi layer having a profile in which the composition rate of Ge changes logarithmically on the depth is formed by paraxial growth on a silicon semiconductor layer functioning as a collector.例文帳に追加

コレクタとして機能するシリコン半導体層上に、Ｇｅの組成比が、深さに対して対数関数的に変化するプロファイルを有するＧｅＳｉ層からなるベース層をエピタキシャル成長により形成する。 - 特許庁