HPMとは 意味・読み方・使い方

Since a surface of the semiconductor wafer is subjected to HPM treatment with being neutralized or having no charge, the surface of the semiconductor wafer is cleaned at an extremely high level without adhesion of the metal impurities.例文帳に追加

半導体ウエハの表面が中和され、電荷を持たない状態でＨＰＭ処理するために金属不純物が付着することなく、半導体ウエハの表面を極めて高度に清浄化することができる。 - 特許庁

A rinsing process with a chelate aqueous solution is prepared after an HPM treating process is carried out, so that the speed of removing heavy metal particles from the surface of the substrate is accelerated by the metal sealing mechanism of a chelating agent contained in the chelate aqueous solution.例文帳に追加

ＨＰＭ処理工程の後に、キレート水によるリンス工程を設けることにより、キレート水に含まれるキレート剤の金属封鎖機構によって基板表面からの重金属の除去速度を速める。 - 特許庁

To provide a punch press machine which can carry out nibbling work at a hit rate of about 2,000 hpm to a metal sheet having a thickness of 1.2 to 3.0 mm, and further to provide a high speed nibbling method using the same punch press machine.例文帳に追加

板厚１．２mm〜３．０mmの板金材において、約２, ０００ｈｐｍのヒットレートでのニブリング加工が可能なパンチプレス機を提供すると共に、このパンチプレス機を用いた高速ニブリング加工方法の提供。 - 特許庁

When a general user performs input operation of a touch panel of a user operation terminal 100 annexed to a sales processor 200, a commodity selection screen TSG of hypermedia HPM is changed and displayed, and the over the counter sale commodity STP is selected.例文帳に追加

販売処理装置２００に併設されるユーザ操作端末１００のタッチパネルを一般ユーザが入力操作すると、ハイパーメディアＨＰＭの商品選定画面ＴＳＧが切換表示されて店頭販売商品ＳＴＰが選定される。 - 特許庁

A user operation terminal 100 annexed near a sales processor 200 changes and displays a commodity selection screen TSG of hypermedia HPM corresponding to input operation of a general user, and makes the over the counter sale commodity STP selected in a phased manner.例文帳に追加

販売処理装置２００の近傍に併設されるユーザ操作端末１００が、一般ユーザの入力操作に対応してハイパーメディアＨＰＭの商品選定画面ＴＳＧを切換表示して段階的に店頭販売商品ＳＴＰを選定させる。 - 特許庁

After removing organic substances such as a photoresist film or metallic particles by cleaning the surface of a semiconductor wafer using a sulfuric acid solution containing persulfuric acid produced with a persulfuric acid producing device without performing SPM cleaning, APM cleaning or HPM cleaning, the semiconductor wafer is cleaned with pure water and dried.例文帳に追加

ＳＰＭ洗浄、ＡＰＭ洗浄およびＨＰＭ洗浄を行わず、過硫酸生成装置を用いて生成された過硫酸を含む硫酸溶液を用いて半導体ウエハの表面を洗浄し、フォトレジスト膜などの有機物または金属粒子などを除去した後に、半導体ウエハを純水洗浄し、乾燥させる。 - 特許庁

An article selection screen TSG of a hypermedia HPM is changed and displayed on a touch panel 111 according to an input operation by a general purchaser, and a ticketing processing unit 123 makes a ticket printer 112 issues a cigarette purchasing ticket TST in which the article ID data TID of the packet of the cigarettes STP selected therefrom is printed.例文帳に追加

一般購入者の入力操作に対応して、ハイパーメディアＨＰＭの商品選定画面ＴＳＧがタッチパネル１１１に切換表示され、これで選定されたタバコパックＳＴＰの商品ＩＤデータＴＩＤが印刷出力されたタバコ購入チケットＴＳＴを発券処理部１２３がチケットプリンタ１１２に発行させる。 - 特許庁

In order to remove a germanium (Ge) contaminant stuck in a manufacturing process of a semiconductor device, a treatment is performed using a solution containing hafnium (HF) after a treatment using an oxidative solution such as an ammonia-hydrogen peroxide solution (APM), hydrochloric acid-hydrogen peroxide solution (HPM), sulfuric acid-hydrogen peroxide solution (SPM), and aqua regia or oxidation treatment such as oxidative plasma treatment.例文帳に追加

半導体デバイス製造過程において付着したゲルマニウム（Ｇｅ）汚染物を除去するために、酸化力を有する溶液、例えば、アンモニア−過酸化水素水（ＡＰＭ），塩酸−過酸化水素水（ＨＰＭ）、硫酸−過酸化水素水（ＳＰＭ）、王水等による処理、もしくは、酸素プラズマ処理等の酸化処理に連続して、弗酸（ＨＦ）含有水溶液による処理を行なう。 - 特許庁