| 意味 | 例文 (620件) |
HARD MASKとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 ハードマスクとは、半導体プロセスでエッチマスクとしてポリマーやその他のソフトな有機レジスト材料の代わりに用いられる材料のこと。
「HARD MASK」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 620件
A hard mask including a lower hard mask layer 31 and an upper hard mask layer 20 is prepared.例文帳に追加
低K下部ハードマスク層31と上部ハードマスク層20とを含むハードマスクを準備する。 - 特許庁
ANTIREFLECTIVE HARD MASK COMPOSITION例文帳に追加
反射防止ハードマスク組成物 - 特許庁
REFLECTION PREVENTING HARD MASK COMPOSITION例文帳に追加
反射防止ハードマスク組成物 - 特許庁
HARD MASK FOR SHADOW MASK AND MANUFACTURE THEREOF例文帳に追加
シャドウマスク用ハードマスク及びその製造方法 - 特許庁
HARD MASK FOR SHADOW MASK AND ITS PRODUCTION例文帳に追加
シャドウマスク用ハードマスク及びその製造方法 - 特許庁
A hard mask is formed, by shaping the hard mask structure by using the resist mask.例文帳に追加
レジストマスクを用いてハードマスク構造を成形することによってハードマスクが形成される。 - 特許庁
FORMING METHOD OF CARBON-BASED HARD MASK例文帳に追加
炭素系ハードマスクの形成方法 - 特許庁
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「HARD MASK」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 620件
ALUMINIUM HARD MASK FOR DIELECTRIC ETCHING例文帳に追加
誘電体エッチング用アルミニウムハードマスク - 特許庁
This is transferred as a mask on the hard mask layer to form a parallel hard mask line (first etching).例文帳に追加
これをマスクとしてハードマスク層に転写し、平行ハードマスクラインを形成する(第1エッチング)。 - 特許庁
HARD MASK COMPOSITION FOR LITHOGRAPHY PROCESS例文帳に追加
リソグラフィ工程のハードマスク用組成物 - 特許庁
Thereafter, the first hard mask layer 5 is removed by using at least the second hard mask layer 6 as a mask.例文帳に追加
次に、少なくとも第2のハードマスク層6をマスクとして用いて、第1のハードマスク層5を除去する。 - 特許庁
A lower hard mask 109 is etched using the first and second etching mask patterns to form a hard mask pattern.例文帳に追加
第1及び第2のエッチングマスクパターンで下部のハードマスク109をエッチングし、ハードマスクパターンを形成する。 - 特許庁
A hard mask structure is formed on the phase-change layer and a resist mask is formed on the hard mask structure.例文帳に追加
ハードマスク構造が相変化層上に形成され、レジストマスクがハードマスク構造上に形成される。 - 特許庁
Leave the mask behind. thanks for the hard work.例文帳に追加
お面は置いといて。 お疲れさまでした。 - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
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