Haingとは 意味・読み方・使い方

To achieve a semiconductor device having a semiconductor chip flip-chip mounted thereon, and haing sufficient bump bonding strength and excellent high frequency characteristics.例文帳に追加

半導体チップがフリップチップ実装された半導体装置において、十分なバンプ接合強度と良好な高周波特性を実現する。 - 特許庁

To provide a polishing device which can perform polishing at a nearly uniform polishing speed in simultaneously polishing a plurality of workpieces haing different thickness or even polishing a workpiece having deflection in thickness in the face of the workpiece.例文帳に追加

一度に研磨する複数の被研磨物の厚さが異なる場合、又は被研磨物の面内に厚さ偏差が存在する場合であっても、略均一な研磨速度で研磨することができる研磨装置を提供する。 - 特許庁

This metal-air cell system haing a metal-air cell includes (1) a measn for setting temperature, (2) a means for controlling temperature, (3) a means for monitoring temperature control, and (4) a means for switching temperature control modes.例文帳に追加

金属空気電池を有する金属空気電池システムであって、（１）温度設定手段、（２）温度制御手段、（３）温度制御監視手段、（４）温度制御モード切替手段を備えることを特徴とする、金属空気電池システム。 - 特許庁

A cast body haing a chemical composition containing, by weight, 0.5 to 1.5% Cu, 0.3 to 0.7% Mg and 6.5 to 7.5% Si, and the balance Al is subjected to stabilizing treatment to control its tensile strength to ≥320 MPa, and elongation to ≥5%.例文帳に追加

化学組成が、Ｃｕ：０．５〜１．５ｗｔ％、Ｍｇ：０．３〜０．７ｗｔ％、Ｓｉ：６．５〜７．５ｗｔ％、及び残部：Ａｌからなる鋳造体に、安定化処理を施し、引張強度を３２０ＭＰａ以上、伸びを５％以上としたものである。 - 特許庁

The first magnetic powder-deposited catalyst contains an electrically conductive particle and a catalyst particle deposited on the electrically conductive particle and haing magnetism, and has 4.0-79.8 kA/m coercivity and 1-20 Am^2/kg saturation magnetized quantity.例文帳に追加

本発明の第１の磁性粒子担持触媒は、導電性粒子と、前記導電性粒子に担持された磁性を有する触媒粒子とを含み、前記磁性粒子担持触媒の保磁力が４．０〜７９．８ｋＡ／ｍであり、その飽和磁化量が１〜２０Ａ・ｍ^2／ｋｇである。 - 特許庁

This phosphorous copper anode for electroplating has a composition containing 20 to 800 ppm phosphorus and 0.1 to <2 ppm oxygen and balance high-purity copper of ≥99.9999 purity and has a structure haing the average grain size of recrystallation within a range of 10 to 50 μm.例文帳に追加

燐：２０〜８００ｐｐｍ、酸素：０．１〜２ｐｐｍ未満を含有し、残部が純度：９９．９９９９質量％以上の高純度銅からなる組成を有し、かつ再結晶の平均粒径が１０〜５０μｍの範囲内にある組織を有することを特徴とする。 - 特許庁