IFRとは 意味・読み方・使い方

An interface block 16 contains a seventh center robot CR7; a feed buffer section; a conveyance mechanism IFR for interfaces; and an edge exposure section EEW.例文帳に追加

インターフェースブロック１６は、第７のセンターロボットＣＲ７、送りバッファ部、インターフェース用搬送機構ＩＦＲおよびエッジ露光部ＥＥＷを含む。 - 特許庁

The slit part 11 is disposed more inside than a sealant 4 so as to extend along a side (lower side) on the side of the interface region IFR of a display part DP.例文帳に追加

スリット部１１は、表示部ＤＰのインターフェース領域ＩＦＲ側の辺（下辺）に沿って延在するように、シール剤４よりも内側に配設されている。 - 特許庁

A substrate W, subjected to exposure in the aligner 14, is carried by the carrying mechanism IFR for interface to the drying section 95.例文帳に追加

露光装置１４において基板Ｗに露光処理が施された後、基板Ｗはインターフェース用搬送機構ＩＦＲにより乾燥処理部９５に搬送される。 - 特許庁

A substrate W, subjected to exposure in the aligner 15, is carried by the carrying mechanism IFR for interface to the drying section 80.例文帳に追加

露光装置１５において基板Ｗに露光処理が行われた後、基板Ｗはインターフェース用搬送機構ＩＦＲにより乾燥処理部８０に搬送される。 - 特許庁

The post-injection timing IFR is set slower by approx. 10° (CA) than a normal post-injection timing IF, and the post-injection amount QFR is 15% or more of the main injection amount QmR.例文帳に追加

後噴射時期Ｉ_FRは正規の後噴射時期Ｉ_Fより略１０゜（ＣＡ）遅角設定とし、後噴射量Ｑ_FRは主噴射量Ｑｍ_Rの１５％以上とする。 - 特許庁

A substrate W, subjected to exposure in the aligner 14, is carried by the carrying mechanism IFR for interface to the drying section 95.例文帳に追加

露光装置１４において基板Ｗに露光処理が施された後、基板Ｗはインターフェース用搬送機構ＩＦＲにより乾燥処理部９５の乾燥処理ユニットに搬送される。 - 特許庁

When the substrate W exposed by the exposure device 14 is carried from the exposure device 14 to a substrate mounting section PASS 10, a hand H6 on the lower side of the interface carrying mechanism IFR is used.例文帳に追加

また、露光装置１４による露光処理後の基板Ｗを露光装置１４から基板載置部ＰＡＳＳ１０へと搬送する際には、インターフェース用搬送機構ＩＦＲの下側のハンドＨ６が用いられる。 - 特許庁

When a substrate W not yet exposed by an exposure device 14 is carried from a substrate mounting section PASS 9 to the exposure device 14, a hand H5 on the upper side of an interface carrying mechanism IFR is used.例文帳に追加

露光装置１４による露光処理前の基板Ｗを基板載置部ＰＡＳＳ９から露光装置１４へと搬送する際には、インターフェース用搬送機構ＩＦＲの上側のハンドＨ５が用いられる。 - 特許庁