LM-12とは 意味・読み方・使い方

(LM)≤1,120 [A], and 900 [A]≤ΔI (MT)+12×L (MT)≤1,800 [A].例文帳に追加

６５０[Ａ]≦ΔＩ（ＬＭ）＋７．０×Ｌ（ＬＭ）≦１１２０[Ａ] ９００[Ａ]≦ΔＩ（ＭＴ）＋１２×Ｌ（ＭＴ）≦１８００[Ａ] - 特許庁

A Y ink discharging nozzle array 51, an LM ink discharging nozzle array 52, and an M ink discharging nozzle array 53 are formed at the first recording head 30 to be closer to the recording paper sheet 12 in the order of Y, LM and M.例文帳に追加

第１の記録ヘッド３０に、Ｙインク吐出ノズル列５１，ＬＭインク吐出ノズル列５２、Ｍインク吐出ノズル列５３を、記録紙１２に近い方からＹ，ＬＭ，Ｍの順に形成する。 - 特許庁

A driving mechanism 10 comprises a cylinder housing 12, a first piston 14, a second piston 16, an air cylinder 18 and an LM guide 20.例文帳に追加

駆動機構１０は，シリンダハウジング１２と第１ピストン１４と第２ピストン１６とエアシリンダ１８とＬＭガイド２０とを備えている。 - 特許庁

In the liquid medicine injection system 200, an open route is formed in which the liquid medicine LM flows from a container 10 containing the liquid medicine LM to a blood vessel within a living body 22 via a micro-pump 12, a flow sensor 14 and a tube 15.例文帳に追加

薬液注入システム２００では、薬液ＬＭが収容された容器１０から生体２２内の血管まで、マイクロポンプ１２、流量センサ１４、チューブ１５を介して、薬液ＬＭが流れる１つの開放路が構成される。 - 特許庁

The step ΔG of the electrode surface LM with respect to the reference electrode surface LS is appropriately set according to the differential electric potential from the electrode 12 on the high electric potential side.例文帳に追加

基準電極面Ｌ_Ｓに対する電極面Ｌ_Ｍの段差ΔＧの大きさは、高電位側電極（１_２）との電位差に応じて適宜設定される。 - 特許庁

This area A is of a recessed shape 11, and its electrode surface LM is lower than a reference electrode surface LS to reduce the differential electric potential from the electrode (12) On the high electric potential side (preferably 1.0 V or under).例文帳に追加

この領域Ａを凹陥形状(11)としてその電極面Ｌ_Ｍを基準電極面Ｌ_Ｓより低くし、高電位側電極（１_２）との電位差を少なくする（好ましくは１．０Ｖ以下）。 - 特許庁

The laser scanner 12 is retreated based on a distance Lm that is a measured value by a laser displacement gage 20, while moving the laser scanner 12 along the block data 120, to measure the surface shape of the work W while controlling a copying amount L0 to the work W.例文帳に追加

レーザスキャナ１２をブロックデータ１２０に沿って移動させながら、且つ、レーザ変位計２０の計測値である距離Ｌｍに基づいてレーザスキャナ１２を進退させて、ワークＷとの倣い量Ｌ０を制御しながらワークＷの表面形状を測定する。 - 特許庁