| 意味 | 例文 (9件) |
MPC1とは 意味・読み方・使い方
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遺伝子名称シソーラスでの「MPC1」の意味 |
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MPC1
| yeast | 遺伝子名 | MPC1 |
| 同義語（エイリアス） | GPI ethanolamine phosphate transferase 3; YLL031C; GPI13 | |
| SWISS-PROTのID | SWISS-PROT:Q07830 | |
| EntrezGeneのID | EntrezGene:850628 | |
| その他のDBのID | SGD:S000003954 |
本文中に表示されているデータベースの説明
「MPC1」を含む例文一覧
該当件数 : 9件
The substrate processing equipment includes an ashing portion and cleaning treatment portions MPC1, MPC2.例文帳に追加
基板処理装置は、アッシング（灰化処理）部および洗浄処理部ＭＰＣ１，ＭＰＣ２を備える。 - 特許庁
In a cleaning processor MPC1, a substrate W is held by a spin chuck 21.例文帳に追加
洗浄処理装置ＭＰＣ１においては、スピンチャック２１により基板Ｗが保持される。 - 特許庁
An ionizer 5 is externally provided at the side of the transmission window 6 of each of cleaning units MPC1, MPC2.例文帳に追加
イオナイザ５は、洗浄処理部ＭＰＣ１，ＭＰＣ２の透過窓６側の外部に設けられている。 - 特許庁
The substrate W is processed by the plurality of washing processing parts MPC1 to MPC4 as specified.例文帳に追加
そして、複数の洗浄処理部ＭＰＣ１〜ＭＰＣ４により基板Ｗに所定の処理が行われる。 - 特許庁
The substrate storage container 1 is carried between the mount 40 and a plurality of washing processors MPC1 to MPC4 by substrate carrying robots HCR1 to HCR4.例文帳に追加
基板収納容器１が基板搬送ロボットＨＣＲ１〜ＨＣＲ４により載置部４０と複数の洗浄処理部ＭＰＣ１〜ＭＰＣ４との間で搬送される。 - 特許庁
The substrate conveyance robot CR conveys to a cleaning part MPC1 or a cleaning part MPC2 the substrate W that is cooled as specified in the cooling plate CP.例文帳に追加
基板搬送ロボットＣＲは、クーリングプレート部ＣＰで所定の冷却処理を施された基板Ｗを洗浄処理部ＭＰＣ１または洗浄処理部ＭＰＣ２に搬送する。 - 特許庁
Weak X-rays radiated from the ionizer 5 reach the port 7 of the cleaning units MPC1, MPC2, a shutter SH, a spin chuck 21, a guard 24 or the like through the transmission window 6.例文帳に追加
イオナイザ５から照射された微弱Ｘ線は、透過窓６を通って、洗浄処理部ＭＰＣ１，ＭＰＣ２の基板搬入出口７、シャッタＳＨ、スピンチャック２１、ガード２４等に到達する。 - 特許庁
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「MPC1」を含む例文一覧
該当件数 : 9件
The cleaning treatment portions MPC1, MPC2 have a spin chuck 21 for keeping the substrate W after ashing to be horizontal and for rotating the substrate W around a vertical rotating axis passing through the center of the substrate W.例文帳に追加
洗浄処理部ＭＰＣ１，ＭＰＣ２は、アッシング処理後の基板Ｗを水平に保持するとともに基板Ｗの中心を通る鉛直な回転軸の周りで基板Ｗを回転させるためのスピンチャック２１を備える。 - 特許庁
The lid of the substrate storage container 1 is opened and closed by lid opening/closing mechanisms provided by the plurality of washing processors MPC1 to MPC4, so that the substrate W stored in the substrate storage container 1 can be taken out.例文帳に追加
複数の洗浄処理部ＭＰＣ１〜ＭＰＣ４ごとに設けられた蓋開閉機構により基板収納容器１の蓋が開閉され、基板収納容器１に収納された基板Ｗが取り出し可能となる。 - 特許庁
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