on Naとは 意味・読み方・使い方

If the Na ion content exceeds 100 ppm, Na is left on a polished substrate when the silica particle- dispersed fluid is used as an abrasive material, so that Na left on the semiconductor substrate causes an insulating failure or a short circuit to a circuit formed on the semiconductor substrate.例文帳に追加

Ｎａイオン含有量が１００ｐｐｍを越えると、研磨材として用いたとき研磨すべき基板にＮａが残存し、このＮａが半導体基板に形成された回路の絶縁不良を起こしたり回路を短絡させることがある。 - 特許庁

For CD reproduction, on the other hand, a low-NA objective 17 is arranged in the optical path.例文帳に追加

又、ＣＤ再生時には低ＮＡ対物レンズ１７が光路中に配置される。 - 特許庁

Issun saki no okobotoke ni oketsumazukyaru na (don't stumble on the small statue of Buddha right over there), hosomizo ni dojo nyorori (a loach is slithering through the narrow ditch).発音を聞く 例文帳に追加

一寸先の御小仏に御蹴躓きゃるな、細溝にドジョウにょろり。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Further, a method for manufacturing a readily water-soluble CMC-Na in which the amount of water compounded is 10-50 wt.% based on the CMC-Na.例文帳に追加

また、水の配合量が前記ＣＭＣ−Ｎａに対して１０〜５０重量％であることを特徴とする水易溶性ＣＭＣ−Ｎａの製造法。 - 特許庁

To prevent an Mo electrode film from readily peeling off, and to prevent adverse effects to diffusion of Na from a glass substrate, when forming the Mo electrode film on the glass substrate.例文帳に追加

ガラス基板上にMo電極膜を形成する際に、Mo電極膜を剥がれ難くし、かつガラス基板からのNaの拡散に悪影響を及ぼさないようにする。 - 特許庁

The water repellency in water is maintained at a high state by increasing an Na content on the glass surface or suppressing the reduction of Na due to washing and weathering.例文帳に追加

ガラス表面のＮａ含有率を増やす、又は洗浄、風化によるＮａの減少を抑えることにより、水中での撥油性を高い状態で維持できる。 - 特許庁

Originally, the Chinese characters 七草 meant the seven flowers of autumn; the custom on January 15, the Lunar New Year, is written in Chinese characters as 七種, which are also pronounced as 'na na ku sa,' but generally the custom on January 7 is written as 七草 in Chinese characters.発音を聞く 例文帳に追加

本来は七草と書いた場合は秋の七草を指し、小正月1月15日のものも七種と書いて「ななくさ」と読むが、一般には7日正月のものが七草と書かれる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

In this projection aligner capable of setting σ and NA of projection lens, the other setting values to be varied with the setting change of the said σ and NA are found, on the basis of an interpolation expression with the σ and NA as variables.例文帳に追加

σおよび投影レンズのＮＡが設定可能な投影露光装置において、前記σおよびＮＡの設定変更に伴なって変動する他の設定値を、前記σおよびＮＡを変数とする補間式に基づいて求める。 - 特許庁