pattern‐reversalの英語

This pattern forming method includes (i) a step of forming a resist pattern on a support body using resist composition, (ii) a step of forming coating for pattern reversal by applying the material for forming a reverse pattern to the support body on which the resist pattern is formed, and (iii) a step of forming the reverse pattern by removing the resist pattern by etching.例文帳に追加

支持体上に、レジスト組成物を用いてレジストパターンを形成する工程（ｉ）と、前記レジストパターンが形成された前記支持体上に、反転パターン形成用材料を塗布してパターン反転用被膜を形成する工程（ｉｉ）と、前記レジストパターンをエッチングにより除去し、反転パターンを形成する工程（ｉｉｉ）と、を備えるパターン形成方法であって、前記反転パターン形成用材料が、下記式（ｘ０−１）で表される構成単位を有し、シリコン含有量が１５質量％超のシロキサンポリマーを含有することを特徴とする。 - 特許庁