photodegradation reactionとは 意味・読み方・使い方

To provide a method for producing a substrate with a water-repellent/hydrophilic thin film formed by a photodegradation reaction, in a short time.例文帳に追加

光分解反応により撥水親水性の薄膜が形成した基材を短時間で製造する方法の提供。 - 特許庁

An air W passing through the silica gel bead-fastened layer 101A and flowing into the space 104 passes through again the silica gel bead-fastened layer 101A and flows out of the photocatalyst apparatus, whereby a formation of a shade during irradiation with ultraviolet rays is made less easy and the photodegradation reaction of the photocatalyst is promoted.例文帳に追加

シリカゲルビーズ固着層１０１Ａを通過して空間１０４に流入した空気Ｗは再度シリカゲルビーズ固着層１０１Ａを通過して光触媒装置の外に流出する。 - 特許庁

To provide nanoparticles comprising a polymer aggregate expected as a constituent material of an electrophotographic developer, printing ink, architectural coating, etc., by making use of a photodegradation reaction, and to provide a new technique for producing nanoparticles by photodegradation from which application expansion to an optical memory material, an optical sensor, etc., is expected.例文帳に追加

光分解反応を利用して、電子写真の現像材、印刷用インク、建築用塗料等の構成材料としての用途が見込まれる高分子の集合体よりなるナノ粒子を提供すること、及び光記憶材料や光センサーなどへの応用展開が見込まれる光分解による新しいナノ粒子の製造技術の提供。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resist composition less liable to cause the photodegradation and crosslinking reaction of a base resin in a lithographic process using radiation of an ultra-short wavelength of ≤160 nm as a light source and excellent in dry etching resistance.例文帳に追加

波長１６０ｎｍ以下の超短波長放射線を光源に用いるリソグラフィープロセスにおいて、基材樹脂の光分解や架橋反応が起こりにくく、しかも耐ドライエッチング性に優れる放射線感応性レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

A silica gel bead-fastened layer 101A is provided in a manner that makes it surround an LED chip 105D, separated by a space, is excited by ultraviolet rays, adsorbs pollutants in air and degrades the pollutants on the basis of the photodegradation reaction of the photocatalyst.例文帳に追加

シリカゲルビーズ固着層１０１Ａは、空間を隔ててＬＥＤチップ１０５Ｄを包囲するように設けられており、紫外線によって励起されるとともに空気中の汚染物質を吸着し、光触媒の光分解反応に基づいて汚染物質を分解する。 - 特許庁

The method includes emitting extreme-ultraviolet and/or vacuum-ultraviolet photons, having energy sufficiently high to initiate photodegradation of water molecules absorbed in a material, exposing the surface to the noble-gas plasma capable of emitting radicals of oxygen, hydrogen, and/or hydroxyl groups, and removing the radicals from the reaction chamber.例文帳に追加

該方法は、材料に吸収された水分子の光分解を引き起こすのに充分なエネルギーを有する、極端紫外及び／又は真空紫外のフォトンを放射して、酸素、水素及び／又は水酸基のラジカルを放出させることが可能である希ガスプラズマに対して該表面を露出することと、反応チャンバからラジカルを除去することとを含む。 - 特許庁