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roughness elementsとは 意味・読み方・使い方
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「roughness elements」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 35件
The wheels are vibrated vertically, according to roughness and unevenness of elements.例文帳に追加
素材の粗さ、凹凸に応じて車輪は上下に振動する。 - 特許庁
Surface roughness of a surface on which a group of organic EL elements (group of functional elements) of the glass substrate 5 is 0.5 s or less and surface roughness of a backside is 1 s or more.例文帳に追加
ガラス基板5の有機EL素子群(機能性素子群)が形成される表面の表面粗さは0.5s以下、裏面の表面粗さは1s以上とする。 - 特許庁
(b) Aspherical optical elements having a root mean square surface roughness of less than 1 nanometer at a sampling length of 1 millimeter or more発音を聞く 例文帳に追加
ロ 一ミリメートル以上のサンプリング長さにおける表面粗さの二乗平均が一ナノメートル未満のもの - 日本法令外国語訳データベースシステム
Average roughness of a central line of a face having the largest surface roughness among the raceway surfaces 1a, 2a and rolling faces 3a of the rolling elements 3 is 0.04 μm or more and 0.1 μm or less.例文帳に追加
また、軌道面1a,2a及び転動体3の転動面の3aうち表面粗さが最も大きい面の中心線平均粗さは、0.04μm以上0.1μm以下とされている。 - 特許庁
To make the specific resistance and surface roughness of ITO(indium tin oxide) film be lowered and also to prepare EL elements showing longer life span and small electricity consumption.例文帳に追加
ITO膜の比抵抗及び面粗度を小さくすることと、EL素子を長寿命でかつ消費電力の小さいものとする。 - 特許庁
The wafer is formed so as to be flat state having no warpage by making the surface roughness Ra (mathematical average roughness) of the rear surface of the substrate so as to be not less than 0.001 μm and not more than 2 μm through polishing and, thereafter, the wafer is separated into the elements.例文帳に追加
研磨で基板背面の表面粗さRa(算術平均粗さ)を0.001μm以上2μm以下とすることでウェハーは反りのない平坦状態になり、その後、ウェハーを素子に分離する。 - 特許庁
To efficiently generate a mesh for easily controlling the roughness/ denseness of finite elements generated in a three-dimensional shape model and precisely analyzing this shape model.例文帳に追加
容易に3次元形状モデルに生成した有限要素の粗密を制御して、精度良く解析するためのメッシュを効率的に生成することを目的とする。 - 特許庁
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「roughness elements」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 35件
Diamondlike carbon films 5 are formed at least either of the raceways of bearing rings 1 and 2 and the surface of rolling elements 3, wherein the surface roughness of the carbon films 5 is set under 0.005 μm by Ra (center line mean roughness).例文帳に追加
軌道輪1,2の軌道面あるいは転動体3表面の少なくともいずれかに、ダイヤモンドライクカーボン膜5が形成されており、このダイヤモンドライクカーボン膜5の表面粗さが、Ra(中心線平均粗さ)で0.005μm以下に設定されている。 - 特許庁
To provide elements for use in laser systems operating at wavelength of smaller 200 nm wherein high reflectance is achieved in 193 nm, without increasing roughness and nonuniformity of a surface/an interface.例文帳に追加
200nm未満のレーザシステムに用いられる素子において、表面/界面の粗さおよび不均一性を増加させずに、193nmで高反射率を達成する。 - 特許庁
Optical surface 11 being a plurality of optical elements are adjacently formed on the optical element array 10, and recessed parts 12 concave to the surface 11 and having low surface roughness are formed between the optical elements, then the light transmittance of the recessed part 12 is made lower than that of the surface 11.例文帳に追加
光学素子アレイ10は複数の光学素子となる光学面11が隣接して形成され、各光学素子間に光学面11に対して凹状でかつ面粗度が低い凹部12が形成され、この凹部12の光透過率は光学面11に対して低くなっている。 - 特許庁
It is preferable to control the surface roughness Ra of the work damaged layer to ≤0.15 μm and to regulate the total amount of one or more elements among Zr, Nb, Ti, V and Ta as granular-oxide-forming elements contained in the heat-resistant metal to ≤0.5 mass%.例文帳に追加
前記加工変質層の表面粗度Raは0.15μm 以下とすることが好ましく、また前記耐熱金属に含まれる粒状酸化物形成元素のZr、Nb、Ti、V、Taの1種または2種以上の合計量は0.5mass%以下とすることが好ましい。 - 特許庁
The aluminum nitride sintered compact contains 0.5-5 mass% of the oxide of at least one kind of an element selected from among group IIIa elements, and is provided with a surface regulated to 0.2 μm or smaller in surface roughness Ra.例文帳に追加
窒化アルミニウム焼結体は、IIIa族元素から選択される少なくとも1種の元素の酸化物を0.5〜5質量%含有し、表面粗さがRa0.2μm以下に調整された面を備えている。 - 特許庁
The ceramic valve 10 comprises a fixed ceramic valve element 11 and a movable ceramic valve element 12, one sliding surface 12a of the valve elements 11 and 12 is covered with a hard carbon film mainly consisting of an amorphous carbon, and the arithmetic average roughness Ra of both sliding surfaces of the fixed and movable valve elements is set to be ≤0.08 μm.例文帳に追加
セラミックバルブ10、各々セラミック製の固定弁体11と可動弁体12とを備え、それら弁体11,12の一方の摺動面12aを主に非晶質炭素からなる硬質炭素被膜にて覆うとともに、固定弁体と可動弁体との両摺動面の算術平均粗さRaを0.08μm以下とする。 - 特許庁
In the dielectric element 1a, the surface roughness Ra of the side face 2E is 5,000 nm or less, so that when burying the dielectric elements 1a and 1b between the glass epoxy resin substrate 10 and insulating material 30, the occurrence of air bubbles between surfaces of the dielectric elements 1a and 1b and the resin can be prevented.例文帳に追加
誘電体素子1aにおいて、側面2Eの表面粗さRaが5000nm以下であるため、誘電体素子1a,1bをガラスエポキシ樹脂基板10と絶縁性機材30との間に埋め込む際に、誘電体素子1a,1bの表面と樹脂との間に気泡が生じることを防止することができる。 - 特許庁
The copper alloy foil for the laminate has superior handling properties and conductivity, and has 180 degree peel strength of 8.0 N/cm or higher when being directly bonded to the polyimide film without being roughened by plating, by means of including particular elements and making the surface roughness to be 2 μm or less according to ten points average surface roughness (Rz).例文帳に追加
特定の元素を含有した銅合金において、表面粗さが十点平均表面粗さ(Rz)で2μm以下とすることにより、ハンドリング性と導電性に優れ,かつ粗化めっき処理を施さずにポリイミドフィルムと直接に接合したときの180゜ピール強度が8.0N/cm以上である、積層板用の銅合金箔を提供する。 - 特許庁
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