radiation exposuresとは 意味・読み方・使い方

To reduce the exposure dose of a subject when generating energy subtraction radiation images by three times or more continuous exposures of radiation.例文帳に追加

３回以上の放射線の連続曝射によってエネルギーサブトラクション用の放射線画像を生成する際に、被写体の被曝線量を低減する。 - 特許庁

The requested dose pattern is built up over time from an array of localized exposures in which at least neighboring localized exposures are imaged at substantially different times, and in which each localized exposure is produced by one of the sub-beams of radiation.例文帳に追加

要求ドーズ・パターンは、少なくとも隣接する局所露光部が実質的に異なる時間で結像され、また各局所露光部が放射線のサブビームの１つによって生成される一連の局所露光部から時間の経過につれて構築される。 - 特許庁

To provide a lithography processing method for providing a desired pattern to the target section of the layer of radiation photosensitive materials by using a plurality of exposures and a device manufactured by the method.例文帳に追加

複数の露光を使用して放射線感光材料の層の目標部分に望ましいパターンを提供するリソグラフィ処理方法およびそれにより製造したデバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a lithographic processing method which forms desirable patterns to a target portion of a radiation sensitive material layer by using multiple exposures, and a device manufactured thereby.例文帳に追加

本発明は複数の露光を使用して放射線感光材料の層の目標部分に望ましいパターンを提供するリソグラフィ処理方法およびそれにより製造したデバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high radiation sensitivity, being excellent in dimensional accuracy and strength even with low exposures, preventing separation of patterns during a developing process and a rubbing process, and preventing formation of sublimates during a heating process.例文帳に追加

高い放射線感度を有し低露光量であっても寸法精度および強度に優れ、現像工程やラビング工程においてパターンが剥離することがなく、しかも加熱工程において昇華物が発生のない感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

MHLW consulted with and made recommendations to the Labor Policy Council on a ministerial order that sets out provisions on the reduction of radiation exposures, prevention of the spread of contamination, education of workers, and health management, in order to prevent radiation hazards of workers engaged in decontamination tasks. (December 12, 2011).例文帳に追加

除染作業等に従事する労働者の放射線障害を防止するため、被ばく低減のための措置、汚染拡大の防止措置、労働者の教育、健康管理などを規定した省令案を労働政策審議会に諮問、答申（平成23年12月12日）。 - 厚生労働省

The lithography apparatus includes a substrate table constructed, configured, and arranged so as to hold a plurality of substrates at each of a plurality of positions, where exposures can be made on the substrate, and a projection system constructed, configured, and arranged so as to project pattern-formed radiation beams onto the target portions of the plurality of substrates at positions where exposures can be made.例文帳に追加

本発明は、基板テーブル上の複数の個々の露光可能位置で複数の基板を保持するように構築され、配置構成された基板テーブルと、パターン形成した放射線ビームを露光可能な位置で複数の基板の目標部分に投影するように構築され、配置構成された投影システムとを含むリソグラフィ装置に関する。 - 特許庁