re-defectsとは 意味・読み方・使い方

To suppress generation of casting defects caused by re-mixture of a splash of a molten metal scattered in pouring the molten metal in a mold.例文帳に追加

注湯の際に飛散した溶湯飛沫の鋳型中への再混入による鋳造欠陥の発生を抑制することができる銅又は銅合金荒引き線の製造装置及び銅又は銅合金荒引き線の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a transfer roller which is used in an electrophotographic process such as copier and laser printer, in particular, used on the inner side of an intermediate transfer belt of a full-color image forming apparatus, and can reduce image defects such as re-transfer of toner and transfer omission.例文帳に追加

複写機・レーザビームプリンタ等の電子写真プロセスに使用される、特にフルカラー用画像形成装置の中間転写ベルトの内側に用いられる、トナーの再転写や転写抜けなどの画像不良を低減できる転写ローラを提供する。 - 特許庁

To provide a substrate treatment apparatus which prevents foreign matters from re-depositing on a substrate, a roller, a slip sheet or the like in contact with the substrate when performing treatment for a long time, and is high in productivity without causing flaws or defects on the substrate and a treatment surface.例文帳に追加

長時間にわたって処理を行なう場合に、基板および基板に接触する回転ローラーや合紙等に異物が再付着することを防止し、基板および処理面に疵や欠陥を発生させることなく、生産性の高い基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The second wafer inspection step is to re-inspect characteristics of the semiconductor devices while shifting the position of the probe card with respect to the semiconductor wafer from the position in the first wafer inspection step based upon a distribution of semiconductor devices, determined in the first inspection step to have characteristic defects, on the semiconductor wafer.例文帳に追加

第２ウエハ検査工程は、第１ウエハ検査工程によって特性不良と判定された半導体装置の半導体ウエハ上の分布に基づいて、プローブカードの半導体ウエハに対する位置を第１ウエハ検査工程の位置からずらして、半導体装置の特性を再検査する。 - 特許庁

In the case that many recognition defective parts are present in the first recognized result, by supplying the correct format information of a slip as the condition of a recognition processing and making a re-recognition processing be executed, recognition defects generated due to the recognition error of the format information of the slip are cleared.例文帳に追加

最初の認識結果に多くの認識不良個所があるような場合、認識処理の条件として帳票の正しい書式情報を与えて再認識処理を実行させることで、帳票の書式情報の認識誤りに起因して発生した認識不良が一掃される。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus in which a thin film, which does not possess film defects to be generated by sudden boiling or re-evaporation, can be deposited when a phosphor of a radiation image transformation panel is deposited by a vapor deposition method and to provide a method for depositing the phosphor of the radiation image transformation panel by using the vapor deposition apparatus.例文帳に追加

放射線画像変換パネルの蛍光体を蒸着法で成膜するときに、突沸や再蒸発による膜欠陥がない薄膜を作製することを可能とする蒸着装置、及び、該成膜方法を用いた放射線画像変換パネルの蛍光体の成膜方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Since a part applied the friction stir joint is again brought into the friction stir joint using the same type of tool and is jointed again by softening the defective part with the friction stir heat, e.g. defects by a tunnel or depression are squashed by the re-friction stir joint and completely disappeared, and surface smoothness of a repaired joint part is not impaired.例文帳に追加

摩擦撹拌接合された部分を同様の工具で再度摩擦撹拌してその摩擦撹拌熱で不良接合部を軟化させて再接合させるものであるから、例えばトンネルによる不良、くぼみによる不良が再摩擦撹拌により潰されて完全に消滅し、また、補修された接合部の表面平滑さも損なわれることはない。 - 特許庁

The retry determining section 11 executes: determining whether the reproducing position is a defect part or not and detecting the defect part based on a signal of a signal processing section 6, measuring the time in which defects are successively detected when the defect is detected, and determining whether to perform re-reading based on the measured time measuring and a threshold stored in the storage.例文帳に追加

リトライ判断部１１が実行する処理には、信号処理部６からの信号に基づいて、再生位置が欠陥部であるか否かを判断して前記欠陥部の検知を行う欠陥部検知処理と、前記欠陥部が検知された場合に、前記欠陥部が連続して検知される時間を計測する時間計測処理と、前記時間計測結果と、前記記憶部に記憶される閾値と、に基づいて再読み出しを行うか否かを判断するリトライ判断処理と、が含まれる。 - 特許庁