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reaction of second-orderとは 意味・読み方・使い方
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「reaction of second-order」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 14件
The method comprises performing first-order reaction reacting a polysaccharide with a phenol in the presence of an acidic catalyst and then performing second-order reaction performing addition condensation reaction of the obtained with an aldehyde in the presence of a reaction catalyst.例文帳に追加
多糖類とフェノール類とを酸性触媒の存在下で反応させる一次反応を行なった後、これにアルデヒド類を反応触媒の存在下で付加縮合反応させる二次反応を行なう。 - 特許庁
Furthermore, all or some of the etching bath 11, etching liquid exhaust pipe 12, first-order reaction settling tank 14, and second-order reaction settling tank 16 are provided with the spraying means 32 through 35 which spray the impurities removal fluid 31 to the etching liquid 1 or etching drain 2, thereby triggering the settling reaction of the impurities 3.例文帳に追加
そして、エッチング槽11、エッチング液排出管12、一次反応沈澱槽14、および二次反応沈澱槽16の全部または一部に噴射手段32〜35を設け、不純物除去流体31をエッチング液1またはエッチング排液2に噴射して、これらから不純物3が沈殿する反応を誘起する。 - 特許庁
In order to suppress the reaction with a jig, first-stage heat treatment is performed at a temperature of ≥500°C and <900°C, and thereafter, a second-stage heat treatment is performed at a temperature of ≥900°C while the load is applied.例文帳に追加
治具との反応を抑えるためには、500℃以上、900℃未満の温度で1段目の熱処理を行い、次いで、加重を加えながら900℃以上の温度で2段目の熱処理を行う。 - 特許庁
By analogy with the oxidation of formic and oxalic acids, it is reasonable to assume a second-order reaction for glyoxylic acid because it has a structure similar to the other two acids.例文帳に追加
ギ酸とシュウ酸の酸化反応が類似していることから,グリオキシル酸の反応は第2次反応であると仮定するのが道理的である。なぜなら,それは他の2つの酸に構造が類似しているからである。 - 英語論文検索例文集
By analogy with the oxidation of formic and oxalic acids, it is reasonable to assume a second-order reaction for glyoxylic acid because it has a structure similar to the other two acids.例文帳に追加
ギ酸とシュウ酸の酸化反応が類似していることから,グリオキシル酸の反応は第2次反応であると仮定するのが道理的である。なぜなら,それは他の2つの酸に構造が類似しているからである。 - 英語論文検索例文集
By analogy with the oxidation of formic and oxalic acids, it is reasonable to assume a second-order reaction for glyoxylic acid because it has a structure similar to the other two acids.例文帳に追加
ギ酸とシュウ酸の酸化反応が類似していることから,グリオキシル酸の反応は第2次反応であると仮定するのが理にかなっている。なぜなら,それは他の2つの酸に構造が類似しているからである。 - 英語論文検索例文集
By analogy with the oxidation of formic and oxalic acids, it is reasonable to assume a second-order reaction for glyoxylic acid because it has a structure similar to the other two acids.例文帳に追加
ギ酸とシュウ酸の酸化反応が類似していることから,グリオキシル酸の反応は第2次反応であると仮定するのが道理的である。なぜなら,それは他の2つの酸に構造が類似しているからである。 - 英語論文検索例文集
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「reaction of second-order」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 14件
A reaction force of a slider body energizing spring 112 for supporting a slider body 110 to a pantograph head 120 is determined by a strain gage having an FBG sensor, and a relative displacement of the slider body 110 to the pantograph head 120 is determined based on the reaction force, and then second order differentiated, to thereby calculate a relative acceleration.例文帳に追加
本発明は、すり板体110を舟体120に対して支持するすり板体付勢バネ112の反力を、FBGセンサを有するひずみゲージによって求め、反力に基いて舟体120に対するすり板体110の相対変位を求めてこれを二階微分して相対加速度を算出する。 - 特許庁
While sustaining discharge, second etching is supplied into the reaction chamber at a flow rate in the range of ±10% that of the first etching gas and at a gas pressure in the range of ±50% that of the first etching gas and plasma is generated in order to etch the insulating film 3.例文帳に追加
放電を継続した状態で、反応室内に、ガス流量が第1のエッチングガスのガス流量の−10%〜+10%、ガス圧力が第1のエッチングガスのガス圧力の−50%〜+50%である第2のエッチングガスを供給し、プラズマを生成して絶縁膜3をエッチングする。 - 特許庁
The method for hydrocracking wax comprises circulating wax from a first catalytic layer of a catalytic reaction part to a third catalytic layer in the presence of hydrogen in a fixed bed reactor equipped with a catalytic reaction part in which the first catalytic layer containing a first amorphous solid acid, a second catalytic layer containing zeolite and the third catalytic layer containing a second amorphous solid acid are arranged in this order.例文帳に追加
本発明のワックスの水素化分解方法は、第1の非結晶性固体酸を含有する第1の触媒層、ゼオライトを含有する第2の触媒層、及び第2の非結晶性固体酸を含有する第3の触媒層がこの順序で配置された触媒反応部を備える固定床反応装置において、水素の存在下、ワックスを、触媒反応部の第1の触媒層から第3の触媒層に向けて流通させることを特徴とする。 - 特許庁
To solve a matter that the electric energy being fed to plasma increases because a high voltage must be applied between the electrodes in order to generate and sustain uniform plasma between the electrodes at a second plasma processing step when a first plasma processing step and the second plasma processing step of higher discharge start voltage are performed in the same plasma reaction chamber.例文帳に追加
第1のプラズマ処理工程とその工程より放電開始電圧が高い第2のプラズマ処理工程を同一プラズマ反応室内において行う場合に、第2のプラズマ処理工程において均一なプラズマを電極間に発生および維持させるためには、電極間に高電圧を印加する必要があり、プラズマへの投入電力量が大きくなる。 - 特許庁
The specimen is mixed with a first reagent containing alcohols selected from a group consisting of disaccharide, cyclodextrins and amine having two or more alcoholic hydroxyl functions, and then a second reagent containing a biuret reagent is added thereto in order to induce a biuret reaction, whereby the whole protein in the specimen can be quantitatively determined accurately while avoiding any influence of the interfering substances in the specimen.例文帳に追加
検体と、2 以上のアルコール性水酸基を有するアミン、二糖およびシクロデキストリン類からなる群から選ばれるアルコール類を含む第 1 試薬とを混和させ、次いで、ビウレット試薬を含む第 2 試薬を添加してビウレット反応させることにより、検体中の干渉物質の影響を回避して、検体中の総蛋白質を正確に定量することができる。 - 特許庁
This method for constructing a DNA library having an increased content of a first dsDNA comprises, in order to solve the above subject, removing a second dsDNA different from the first dsDNA from a DNA library containing the first dsDNA having a content to be increased by an exchange reaction using an RecA protein.例文帳に追加
前記課題を解決するために、本発明は、RecAタンパク質を用いた交換反応により、含有率を増加せしめるべき第一のdsDNAを含むDNAライブラリーから、前記第一のdsDNAとは異なる第二のdsDNAを除去することによって、前記第一のdsDNAの含有率が増加したDNAライブラリーを構築する方法を提供する。 - 特許庁
Each silicon crystal is heated at a first temperature in order to bring an in-crystal defective reaction into its quasi thermal equilibrium state, and an infrared absorption spectrum of each silicon crystal is measured while keeping an in-crystal defect concentration in the quasi thermal equilibrium state, and a first absorption peak value resulting from NN pairs and a second absorption peak value resulting from NNO complexes are acquired.例文帳に追加
シリコン結晶の各々を、第1の温度まで加熱して、結晶内欠陥反応を準熱平衡状態まで至らしめ、シリコン結晶の各々について、準熱平衡状態における結晶内欠陥濃度を維持した状態で赤外線吸収スペクトルを測定し、NNペアに起因する第1の吸収ピーク強度及びNNO複合体に起因する第2の吸収ピーク強度を求める。 - 特許庁
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