reaction rate distributionとは 意味・読み方・使い方

To enable a distribution of a reaction product on a wafer outer peripheral portion and an incident ion distribution to a wafer outmost peripheral portion to be controlled with a high degree of accuracy, and to perform etching optimally with an etching rate depending on an etching condition.例文帳に追加

ウエハ外周部における反応生成物分布とウエハ最外周部への入射イオン分布を高精度に制御でき、エッチング条件に応じたエッチングレートで最適にエッチングを行う。 - 特許庁

High dependency of the etching rate distribution on the gas flow field is well known but when an etching gas introducing method, an etching gas discharging method or a uniforming ring 5 being driven in a reaction chamber 1 is employed, the etching gas flow field in the reaction chamber 1 can be operated to realize a desired etching rate distribution and a highly uniform etching rate for each of different kinds of multilayer film.例文帳に追加

エッチングレート分布はガス流れ場依存性が大きな事で知られているが、エッチングガス導入方法、もしくはエッチングガス排気方法、もしくは反応室１内で駆動する均一化リング５を用いると、反応室１内のエッチングガス流れ場の操作が可能となり、所望のエッチングレート分布と異種積層膜の膜種毎高エッチングレート均一性保持を実現できる。 - 特許庁

To provide a vapor phase growth system which can effectively cancel the influence of the widthwise flow rate distribution in a reaction chamber, using a comparatively simple mechanism, thereby ensuring a proper film thickness distribution accuracy.例文帳に追加

比較的単純な機構によりながら、反応容器内の幅方向の流量分布の影響を効果的に減殺することができ、ひいては良好な膜厚分布精度を確保できる気相成長装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a vapor growth device which can drastically raise flow rate distribution of a raw gas inside a reaction container by a relatively simple mechanism and furthermore ensure good distribution accuracy of film thickness even to a base such as a large diameter wafer.例文帳に追加

比較的単純な機構によりながら、反応容器内の原料ガスの流速分布を飛躍的に高めることができ、ひいては大口径ウェーハ等の基材に対しても、良好な膜厚分布精度を確保できる気相成長装置を提供する。 - 特許庁

Refractive index distribution is changed by burying the lens part in the through hole by CVD film deposition work, for example, and then varying the kind or flow rate of reaction gas in CVD.例文帳に追加

例えばＣＶＤ法による成膜作業によって貫通孔内に埋め込み形成し、ＣＶＤの反応ガスの種類を変化させたり、反応ガスの流量を変化させることによって屈折率分布を変化させる。 - 特許庁

To provide a homogeneous polymerization method with a high polymerization rate, an excellent catalytic activity and easy reaction control, while utilizing a characteristic of an atom transfer type radical polymerization method with easy structure control, i.e., easy control of a molecular weight of the produced polymer, a molecular weight distribution, monomer species and a functional group distribution.例文帳に追加

生成する重合体の分子量、分子量分布、モノマー種、官能基分布の制御などのいわゆる構造制御が容易な原子移動型ラジカル重合法の特徴を生かしつつ、重合速度が大きく、触媒活性に優れ、かつ反応制御の容易な均一系重合方法を提供すること。 - 特許庁

To reduce the amount required of a catalyst and to stably produce a polyether having a narrow distribution of molecular weight in a high conversion rate over a long period by using a catalyst with suppressed deterioration of catalyst performances with time in a process for producing the polyether comprising subjecting a raw material compound to a polymerization reaction or a condensation reaction in the presence of a solid acid catalyst.例文帳に追加

原料化合物を、固体酸触媒の存在下に重合反応又は縮合反応させてポリエーテルを製造する方法において、触媒性能の経時悪化を抑制した触媒を用いることにより、必要な触媒量を削減し、かつ、分子量分布が狭いポリエーテルを高い転化率で長期に亘り安定に製造する。 - 特許庁

To provide a method for producing a polymer through an atom transfer radical polymerization process, so improved that its polymerization solution is easily handled, by suitably diluting the solution with a solvent, and the polymer having a single peak in molecular weight distribution is obtainable in a short reaction time with a high reaction rate.例文帳に追加

原子移動型ラジカル重合法による重合体の製造方法であって、適度に溶媒で希釈して重合溶液の取り扱いを容易にし、しかも、短い反応時間において高反応率で且つ分子量分布において単一ピークを有する重合体が得られる様に様に改良された重合体の製造方法を提供する。 - 特許庁