refraction analysisとは 意味・読み方・使い方

To provide a system and a method for acquiring iris or eye image during refraction diagnosis and analysis.例文帳に追加

屈折診断分析中に虹彩または目の像を得るシステムと方法の提供。 - 特許庁

The image is used for adjusting a refractive surgical tool such as a laser to adjust data from the analyses to data from a refraction analysis treatment.例文帳に追加

像は、その分析からのデータを他の屈折分析装置からのデータに合わせるため、および処置のために、レーザーのような屈折外科器具を目に合わせるために使用される。 - 特許庁

To provide a polishing end point detecting method for quickly detecting a polishing end point by using ellipsometry without executing complicated analysis of a film thickness and a refraction index, and to provide a polishing device.例文帳に追加

膜厚および屈折率の複雑な解析をすることなく、エリプソメトリーを利用して速やかに研磨終点を検出することができる研磨終点検出方法および研磨装置を提供する。 - 特許庁

To overcome difficulty in acquiring image data due to reasons such as processing error or manufacturing error in a device or in a part and influence of refraction index unique to fluid and acquire an effective image for analysis of fluid velocity in a micro scale minute flow field and the like by a single imaging apparatus.例文帳に追加

装置又は部品の加工誤差又は製作誤差や、流体固有の屈折率の影響等に起因する画像データ取得の困難性を解消し、マイクロスケールの微小流動場の流体速度等を解析するために有効な画像を単一の撮像装置によって取得する。 - 特許庁

By finding a complex coefficient for updating the electromagnetic field from the frequency of light made incident to the analysis area, the complex index of refraction corresponding to the incident light frequency of the metal and the conductivity of the metal to the DC potential, the electromagnetic field is analyzed in a system containing the metal with high accuracy and high reliability.例文帳に追加

電磁場の更新をするための複素数係数を、解析領域への入射光周波数と、金属の入射光周波数に対応する複素屈折率と、金属の直流電位に対する導電率とから求めることで、金属を含む系での電磁場解析が高精度高信頼性をもって行われるようになる。 - 特許庁

A method for analysis of the components is at least one selected from gas-chromatography measurement, liquid-chromatography measurement, infrared absorption spectrum measurement, refraction index measurement, density measurement, electric conductivity measurement, NMR absorption method and deodorant method.例文帳に追加

また、成分分析方法が、ガスクロマトグラフィー測定、液体クロマトグラフィー測定、赤外吸収スペクトル測定、屈折率測定、密度比重測定、導電率測定、核磁気共鳴吸収法、臭気試験を用いた方法の群から選択される少なくとも１種類以上の方法である事を特徴とする上記溶剤再利用方法。 - 特許庁

To determine a thin-film multi-layer structure by setting a combined model of film thickness and complex index of refraction, calculating the simulation spectrum thereof, and fitting the simulation spectrum to measured spectrum by using Extended Best Local Minimum Calculation (EBLMC) in the analysis method of a thin-film n-layer structure by using a spectral ellipsometer.例文帳に追加

本発明による分光エリプソメータを用いた薄膜ｎ層構造の解析方法では、膜厚や複素屈折率などの組み合わせモデルを設定し、そのシミュレーションスペクトルを算出して、そのシミュレーションスペクトルと測定スペクトルとのフィッティングを広範囲極小値計算法（ＥＢＬＭＣ）を使用して行うことにより、薄膜多層構造を決定する。 - 特許庁