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surface spinとは 意味・読み方・使い方
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「surface spin」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 403件
In the sheet one-surface etching stage, a spin etching device 30 is used to spin-etch the diffused wafer.例文帳に追加
枚葉片面エッチング工程では、スピンエッチング装置30を用いて、拡散ウェーハがスピンエッチングされる。 - 特許庁
To provide an electron spin analyzer for analysis of a spin state distribution of a sample surface with high accuracy.例文帳に追加
試料表面のスピン状態分布を高精度に分析するための電子スピン分析器を提供する。 - 特許庁
Then, the surface of the spin chuck 003 is uniformly covered with a fixing solution 019 by dropping the fixing solution 019 onto the surface of the spin chuck 003.例文帳に追加
次に定着液019をスピンチャック003表面に滴下させてスピンチャック003の表面を定着液019で一様に覆う。 - 特許庁
To provide a spin detector having an improved performance index, and to provide a surface analyzer using the spin detector.例文帳に追加
性能指標が向上したスピン検出器、及び当該スピン検出器を用いた表面分析装置を提供する。 - 特許庁
On the top surface of the spin base 11, an annular support part 13 is formed.例文帳に追加
スピンベース11の上面には環状支持部13が形成されている。 - 特許庁
To improve the cleaning quality of the lower surface (rear surface) of a disk, particularly a wafer, without increasing the weight of a spin table of a spin cleaner so much.例文帳に追加
スピン洗浄装置のスピンテーブルの重量をさほど増加させることなく、円板体特にウェーハの下面(裏面)洗浄品質を向上させる。 - 特許庁
In a spin coater 102, the surface of a substrate is spin coated with the liquid which is supplied from a coating liquid storage section 105 and contains thin-film components.例文帳に追加
スピンコータ102では、塗布液保管部105から供給される、薄膜成分を含む液体を基板上にスピンコートする。 - 特許庁
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「surface spin」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 403件
To effectively attach dimples to a whole spherical surface of a golf ball and provide a uniform spin.例文帳に追加
ゴルフボールの全球面にディンプルを効果的に取り付け、均一なスピンを得る。 - 特許庁
To provide a spin etching method capable of preventing a cleaning processing solution to an object to be subjected to spin etching processing from going round the back surface of the object.例文帳に追加
スピンエッチング処理される被処理体への洗浄処理液の裏面回り込みを防止するスピンエッチング方法を提供する。 - 特許庁
When the spin base 7 is rotated, the atmosphere between the upper surface of the spin base 7 and the lower surface of the wafer W is discharged to the outside the spin base 7 by centrifugal force and is depressurized, and the space below the wafer W becomes a negative pressure space.例文帳に追加
スピンベース7が回転されると、スピンベース7の上面とウエハWの下面との間の雰囲気が、遠心力によって、スピンベース7の外方へと吐き出されて減圧され、ウエハWの下方の空間が負圧空間となる。 - 特許庁
To provide a spin coat apparatus capable of sufficiently reducing nonuniformity of a film thickness caused by a foreign matter on a surface to be coated, and a spin coat method.例文帳に追加
被塗布面上の異物に起因する膜厚ムラを十分に低減させることができるスピンコート装置およびスピンコート方法を提供する。 - 特許庁
To provide a spin cup of a wafer cleaning/drying device, which can facilitate the temperature adjustment of the inner peripheral surface of the spin cup.例文帳に追加
スピンカップ内周面の温度調節を容易に行うことができるウエハ洗浄乾燥装置のスピンカップを提供することを目的とする。 - 特許庁
The application apparatus has at least a slit coater part, a spin coater part and a mechanism for turning the resist application surface downward and moving the substrate to the spin coater part.例文帳に追加
該塗布装置は、少なくとも、スリットコーター部とスピンコーター部、レジスト塗布面を下向きにして基板をスピンコーター部へ移動する機構を備える。 - 特許庁
Corpuscles 4 are sprayed on the surface of the carbon nano-tube 2 or deposited on it by a spin coating.例文帳に追加
カーボンナノチューブ2の表面に、微粒子4を吹きつけ又はスピンコートにより堆積する。 - 特許庁
A spin coating apparatus includes a wafer chuck 2, a rotation device 3, a nozzle 8, and a rear surface protection disc 21.例文帳に追加
ウェハチャック2と回転装置3とノズル8と裏面保護円盤21とを備えている。 - 特許庁
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