seccoとは 意味・読み方・使い方

a wall painting called {secco}発音を聞く 例文帳に追加

セッコという壁画 - EDR日英対訳辞書

METHOD FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR ON INSULATOR SUBSTRATE WITH REDUCED SECCO DEFECT DENSITY例文帳に追加

低減されたＳＥＣＣＯ欠陥密度を有するセミコンダクタ・オン・インシュレータ基板を製造する方法。 - 特許庁

Then, the oxide film 208 is removed and a secco etching or light etching is conducted, thus forming nanocrystals 212.例文帳に追加

その後、酸化膜208を除去してセコ蝕刻またはライト蝕刻を行うことによって、ナノ結晶212を形成する。 - 特許庁

To further reduce the aggregate of point defects undetectable by a secco etching method, in a method of manufacturing a silicon wafer, and the silicon wafer.例文帳に追加

シリコンウェーハの製造方法及びシリコンウェーハにおいて、セコエッチング法では検出できない点欠陥の凝集体をさらに低減すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a silicon wafer and the same in which the condensed bodies of point faults that cannot detected by the Secco etching is reduced.例文帳に追加

シリコンウェーハの製造方法及びシリコンウェーハにおいて、セコエッチング法では検出できない点欠陥の凝集体をさらに低減すること。 - 特許庁

When a sample in which defects are formed as precipitation of oxygen by heat treatment is etched by anisotropic etching at a high selectivity ratio against SiO2, conical projections having the defects as precipitation of oxygen on their tops are formed as etching residues.例文帳に追加

酸素析出欠陥等の結晶欠陥に対して選択比の大きい条件で異方性エッチングを行い、Secco液等によるエッチングでは検出できない微小な欠陥を精度良くかつ簡単に検出する。 - 特許庁

To obtain semiconductor on insulator substrates with a reduced SECCO defect density less than 100 defects/cm^2, the implanting is carried out with a dose less than 2.3×10^16 atoms/cm^2 and the thinning step includes a step of oxidation at a temperature below 925°C.例文帳に追加

１００defects／ｃｍ^2未満の低減されたＳＥＣＣＯ欠陥密度を有するセミコンダクタ・オン・インシュレータ基板を獲得するために、注入することは、２．３×１０^16atoms／ｃｍ^2未満の分量で実行され、薄層化するステップは、９２５℃未満の温度で酸化するステップを含む。 - 特許庁