self sputteringとは 意味・読み方・使い方

To provide a sputtering device capable of generating the suitable magnetic field for allowing self-sputtering to stably occur and to provide a film forming method.例文帳に追加

セルフスパッタリングを安定に生じさせるために適切な磁場を発生可能なスパッタリング装置および成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a Cu sputtering target which can stabilize a plasma and keep a self-maintaining discharge for a long time in a self-ion-sputtering method of Cu.例文帳に追加

Ｃｕのセルフイオンスパッタ法を適用する場合において、プラズマ状態を安定させて長時間にわたって自己維持放電を持続させることを可能にしたＣｕスパッタリングターゲットが求められている。 - 特許庁

A magnetron particularly advantageous for low pressure plasma sputtering or continuous self-sputtering in which a target coverage is sufficient though the area is small is provided.例文帳に追加

面積は小さいがターゲットカバレージが十分である低圧プラズマスパッタリング又は持続自己スパッタリングに特に有利なマグネトロンを提供する。 - 特許庁

To provide a Cu sputtering target which can maintain self-maintenance discharge for a long time in such a manner that the state of plasma is made stable in the case a self ion sputtering process of Cu is applied.例文帳に追加

Ｃｕのセルフイオンスパッタ法を適用する場合において、プラズマ状態を安定させて長時間にわたって自己維持放電を持続させることを可能にしたＣｕスパッタリングターゲットが求められている。 - 特許庁

This magnetron 32 perfectly covers a target 14 though its area is made small but particularly advantageous for low pressure plasma sputtering or persistent self-sputtering.例文帳に追加

低圧プラズマ・スパッタリングまたは持続型セルフスパッタリングに対して特に有利な、面積が小さくされているがターゲット１４を完全にカバーするマグネトロン３２。 - 特許庁

To provide a high-quality magnetoresistive thin film by using a method for controlling self bias of a high-frequency sputtering device.例文帳に追加

高周波スパッタリング装置の自己バイアスを制御する手法により高品質の磁気抵抗薄膜を提供する。 - 特許庁

To develop a compact high magnetic field magnetron for causing the perfect coverage of a deep hole and performing persistent self-sputtering of copper.例文帳に追加

深いホールの完全なカバレッジをもたらし、銅の持続型セルフスパッタリングをおこなうため、小型高磁場のマグネトロンを開発すること - 特許庁

A plasma sputtering reactor 10 is composed for the continuous self-sputtering or low pressure sputtering of copper in particular, a pedestal 16 supporting a wafer 18 to be sputter-deposited includes back face cooling or heating via heat transfer gas, and the heat transfer gas is composed of helium.例文帳に追加

特に銅の持続セルフスパッタリングあるいは低圧スパッタリング用に構成されたプラズマスパッタリングリアクタ１０であり、スパッタ堆積されるウェーハ１８を支持するぺデスタル１６は伝熱ガスを介してのウェーハ１８の裏面冷却あるいは加熱を含み、伝熱ガスはヘリウムである。 - 特許庁