size computationとは 意味・読み方・使い方

A meter generation section 206 generates a meter image showing the direction and the size of an acceleration on the basis of an acceleration computed by the acceleration computation section 205.例文帳に追加

メータ生成部２０６は、加速度算定部２０５が算定した加速度に基づいて、加速度の向きと大きさを表すメータ画像を生成する。 - 特許庁

To provide a one-dimensional MFA (modified Faddeeva algorithm) systolic array which reduces the memory for storing input/output data by making a matrix size of computation variable to equalize the load.例文帳に追加

演算する行列サイズが可変とし負荷を均一化し、入出力データを蓄積するメモリを減らすＭＦＡ１次元シストリックアレイの提供。 - 特許庁

To provide a control system of an electric power steering device capable of certainly sensing a failure in computation in the case a computational failure has occurred in a CPU 4 irrespective of the size of a corrective control amount.例文帳に追加

補正制御量の大きさに係わり無く、ＣＰＵ４で演算異常が生じた場合には、その演算異常を確実に検出できること。 - 特許庁

To provide an adaptive filter capable of realizing high-speed convergence, simple computation, high tracking capability, and sufficiently low delay together with step size control for each frequency domain.例文帳に追加

高速な収束、簡略な計算、高いトラッキング能力、十分に低い遅延を周波数領域ごとのステップサイズ制御と共に実現できる適応フィルタを提供する。 - 特許庁

To provide a method for video image coding which reduces an overhead of computation when a movement vector is computed to estimate the variable block size movement by means of four-split trees.例文帳に追加

４分割ツリーによる可変ブロックサイズ動き推定のための動きベクトルを計算する際の計算処理のオーバーヘッドを減少させるビデオ画像符号化方法を提供する。 - 特許庁

In the automatic production process of the shot layout, a plurality of shot layouts which can be a candidate for an optimal shot layout are made from the effective exposure region on a wafer, the shot size, and the chip size, and in the throughput computation process, the throughput is computed from the number of shots of the made shot layout, the shot size, and the exposure quantity.例文帳に追加

ショットレイアウト自動作成工程では、ウエハ上の有効露光領域、ショットサイズ及びチップサイズから、最適ショットレイアウトの候補となる複数のショットレイアウトを作成し、スループット算出工程では、作成されたショットレイアウトのショット数、ショットサイズ及び露光量から、スループットを算出する。 - 特許庁

The intensity computation is performed on a forward scatter term and a backward scatter term of an exposure intensity distribution function, the proximity effect is corrected by varying the size of a mask pattern so that the width of an exposure intensity distribution of specific energy intensity becomes equal to design size, and an area density method is used for the backward scatter intensity computation.例文帳に追加

露光強度分布関数における前方散乱項及び後方散乱項の強度計算を行い、所定のエネルギー強度における露光強度分布の幅が設計寸法と一致するようにマスクパターンの寸法を変更して近接効果補正を行うこと、また、後方散乱強度計算に面積密度法を用いることを特徴とする。 - 特許庁

The apparatus is characterized in an interpolation and interleaving filter derived by using many orthogonal conversions whose conversion size is variable and installed by using effective computation architecture.例文帳に追加

本装置は、変換サイズが可変である多数の直交変換を用いて導かれ、効果的な計算アーキテクチャを用いて実装された補間および間引きフィルタにより特徴付けられる。 - 特許庁