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wiring trenchとは 意味・読み方・使い方
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「wiring trench」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 233件
METHOD FOR MANUFACTURING WIRING BOARD WITH SPLIT TRENCH例文帳に追加
分割溝付き配線基板の製造方法 - 特許庁
A trench 22 for gate wiring which is larger in width than a wiring contact trench 26 connecting the gate wiring 24 and metal wiring 27 is formed right below the wiring contact trench 26.例文帳に追加
ゲート配線24と金属配線27とを接続する配線コンタクトトレンチ26の直下に、この配線コンタクトトレンチ26よりも幅の広いゲート配線用トレンチ22を形成する。 - 特許庁
Wiring trench is formed in a silicon oxide film 20.例文帳に追加
酸化シリコン膜20に配線溝を形成する。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING MULTILAYER WIRING, WIRING TRENCH AND FORMING EQUIPMENT OF VIA HOLE例文帳に追加
多層配線の形成方法と配線溝及びビアホールの形成装置 - 特許庁
WIRING BOARD WITH SPLIT TRENCH AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
分割溝付き配線基板およびその製造方法 - 特許庁
After a tantalum/tantalum nitride film 22 is formed in the wiring trench, a copper film 24 is formed so that the wiring trench may be embedded.例文帳に追加
そして、この配線溝にタンタル/窒化タンタル膜22を形成した後、配線溝を埋め込むように銅膜24を形成する。 - 特許庁
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「wiring trench」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 233件
Then, a DD wiring 8 is buried in the via hole 6 and the wiring trench 7.例文帳に追加
その後、ヴィアホール6および配線溝7内にDD配線8を埋め込み形成する。 - 特許庁
The wiring material ink 3 is dropped to the trench 4 of a wide section 81.例文帳に追加
配線材料インク3は幅広部81の溝4に滴下する。 - 特許庁
The resist 1 is developed and exposed to form a wiring trench 10.例文帳に追加
このレジスト1を現像・露光し、配線トレンチ10を形成する。 - 特許庁
Thereafter, a via 36 is formed in the via hole 26 and a trench wiring 35 in the wiring groove 25.例文帳に追加
その後、ビアホール26内にビア36を、配線溝25内にトレンチ配線35を形成する。 - 特許庁
The surface of a second insulating film 14 becomes the bottom surface of a wiring trench 17.例文帳に追加
第2の絶縁膜13表面は、配線溝17の底面になる。 - 特許庁
The wiring layer 35 in a portion above the trench 31 has a flat shape or a concave shape which dents toward the trench.例文帳に追加
配線層35は、溝部31上において、平坦形状、または溝部側に窪んだ凹形状となっている。 - 特許庁
A connection hole 18b is formed as piercing from the bottom of the wiring trench 18a to a first wiring layer 16.例文帳に追加
配線溝18aの底部から第1配線層16に貫通する接続孔18bを形成する。 - 特許庁
A wiring trench TRCH is formed so that its bottom surface forms the second low dielectric constant film LOWK2c by using the wiring trench pattern of the mask layer.例文帳に追加
マスク層の配線溝パターンを用いて、底面が第2の低誘電率膜LOWK2cとなるように、配線溝TRCHが形成される。 - 特許庁
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