contact napとは 意味・読み方・使い方

To nap a liner so that an inner plane of a cassette shell to which a liner of a disk cartridge is stuck or an inner plane of a shutter mounted in this cassette shell is uniformly and highly accurately in contact with a recording medium.例文帳に追加

ディスクカートリッジのライナーを貼付したカセットシェルの内面またはこのカセットシェルに内装されるシャッタの内面と記録媒体とが均一に高精度で接触することができるようにライナーを起毛する。 - 特許庁

In the developing device, a block 60 of an adhesive force reducing substance, which decreases adhesive force between the developing sleeve surface and a toner is disposed in a region downstream the doctor blade of the first-stage developing sleeve and upstream a first-stage developing region, at a position where a magnetic nap of the developer on the first-stage developing sleeve can be in contact with.例文帳に追加

この現像装置で、１段目現像スリーブのドクターブレードよりも下流、且つ、１段目現像領域よりも上流の領域で、１段目現像スリーブ上の現像剤の磁気穂が接触し得る位置に、現像スリーブ表面とトナーとの間の付着力を低下させる低付着力化物質ブロック６０を配設する。 - 特許庁

The element manufacturing method includes a process of forming a nanotube-coating film on the surface of a conductive substrate and a process in which the nanotubes are made to nap, by making a roller relatively move and the conductive substrate, in a state where the nanotube-coating film is placed, in contact with or in proximity to the surface of the roller having unevenness on the surface.例文帳に追加

本発明では、導電性基板の表面にナノチューブ塗布膜を形成する工程と、表面に凹凸を有するローラの前記表面に、前記ナノチューブ塗布膜を当接または近接させた状態で前記ローラと前記導電性基板とを相対移動させることで前記ナノチューブを起毛させる工程と、を有する素子製造方法を提供する。 - 特許庁

A dummy electrode 15 having conductivity is formed on the two sides of a second glass substrate 11, which the rubbing cloth 13 first comes into contact with, when the second substrate 11 having a transparent conductive film 12 formed thereon is subjected to rubbing treatment and the triboelectric charge is released through the dummy electrode 15 to prevent the uneven distribution of the rubbing nap due to the triboelectric charge in the rubbing cloth.例文帳に追加

透明導電膜１２が形成された第２ガラス基板１１をラビング処理する際に、最初にラビング布１３が接する第２ガラス基板１１における２辺に導電性を有するダミー電極１５を形成させ、このダミー電極１５を通して摩擦帯電を逃がし、摩擦帯電によるラビング布１３における毛先の偏在の発生を防ぐ。 - 特許庁