continuation processとは 意味・読み方・使い方

FLOOR TILE TO WHICH STEREO EFFECT MANUFACTURED BY CONTINUATION METHOD OF CONSTRUCTION IS GIVEN AND ITS MANUFACTURING PROCESS例文帳に追加

連続工法で製造可能な立体効果が与えられた床タイル及びその製造方法 - 特許庁

In the 'arbitrary process continuation mode', treatment for a substrate is made from an arbitrary process in treatment procedures for the substrate.例文帳に追加

「任意工程続行モード」は、基板についての処理手順における任意の工程から基板に対する処理を続行できるモードである。 - 特許庁

After substrate treatment in a device has been suspended, the resumption of treatment by either of 'washing drying unloading mode', 'arbitrary process continuation mode', and 'treatment bath continuation mode' is specified and inputted.例文帳に追加

装置における基板処理が中断した後、「水洗乾燥払出モード」、「任意工程続行モード」、「処理槽続行モード」のいずれかによる処理再開を指定・入力する。 - 特許庁

To realize the continuation of the whole of a process by subjecting a quantitatively supplied raw soln. to filtering treatment while holding a filtering speed to a certain constant speed or more in a membrane filtering process.例文帳に追加

膜濾過工程において、濾過速度をある一定以上に保持し定量的に供給される原液を濾過処理し、工程全体の連続化を実現する。 - 特許庁

If the Court approves the request for limitation, the patent limited in this manner shall make the basis for continuation of the process.発音を聞く 例文帳に追加

裁判所が制限の請求を承認したときは，このようにして制限された特許は，その手続継続の基礎となる。 - 特許庁

Also, when the customer selects the reception processing continuation as the result of the determination in the next store visit determination process, the normal calling processing is performed.例文帳に追加

また、次回来店判定過程での判定の結果、顧客が受付処理続行を選択した場合には、通常呼出処理を行う。 - 特許庁

To improve selectivity in the metal-system barrier film covering process with the electroless plating in order to eliminate operation failure by continuation among wirings.例文帳に追加

無電解メッキによるメタル系バリア膜被覆プロセスにおける選択性を向上し、配線間の導通による動作不良を解消する。 - 特許庁

To provide a polishing method of an SiC single crystal substrate by which the presence of an affected layer can be grasped in a CMP (chemical mechanical polishing) process and the continuation and finish of the CMP process can be easily determined.例文帳に追加

ＣＭＰ工程中に加工変質層の有無を把握でき、ＣＭＰ工程の継続か終了を容易に判断できるＳｉＣ単結晶基板の研磨方法を提供する - 特許庁