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condition maskとは 意味・読み方・使い方
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「condition mask」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 155件
A mask fixing plate 5 for fixing the mask which is an object to be washed under a condition where the mask is stood, and a mask fixing cylinder 4 are provided in the apparatus for flushing the mask.例文帳に追加
洗浄の対象となるマスクを立設した状態で固定するマスク固定プレート５、及びマスク固定シリンダ４を備える。 - 特許庁
The mask is arranged in the fixing fixture 56 under the processing condition, and the aerofoil 10 is inserted in the mask.例文帳に追加
加工状態で、マスクを固定具内に配置し、エアロフォイル１０をマスク内に挿入する。 - 特許庁
A pulse mask generating unit 2 outputs a pulse mask indicative of a signal of waveform satisfying a predetermined condition.例文帳に追加
パルスマスク発生部２は、所定の条件を満たす波形の信号を示すパルスマスクを出力する。 - 特許庁
To provide a stencil mask, along with stencil mask blanks, capable of easily determining an etching condition.例文帳に追加
エッチング条件を容易に決めることができるステンシルマスク及びステンシルマスクブランクスを提供する。 - 特許庁
PROGRAM AND METHOD FOR DETERMINING EXPOSURE CONDITION AND MASK PATTERN例文帳に追加
露光条件及びマスクパターンを決定するプログラム及び方法 - 特許庁
The alarm processing circuit 100 includes a primary mask processing part 101 for executing primary mask processing to an alarm signal on the basis of a first condition; and a secondary mask processing part 102 for executing secondary mask processing on the alarm signal, on the basis of a second condition that differs from the first condition and a mask processing result by the primary mask processing part 101.例文帳に追加
アラーム処理回路１００に、第１の条件に基づいて、アラーム信号に一次マスク処理を施す一次マスク処理部１０１と、第１の条件とは異なる第２の条件と、一次マスク処理部１０１によるマスク処理結果とに基づいて、アラーム信号に二次マスク処理を施す二次マスク処理部１０２と、を備えた。 - 特許庁
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「condition mask」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 155件
A mask body 36 of a shadow mask 30 is mounted on a mask flame 38 in a condition where tension has been added along its long axis.例文帳に追加
シャドウマスク３０のマスク本体３６は、長軸方向に沿って張力が付加された状態でマスクフレーム３８に取付けられている。 - 特許庁
ROTARY COATING METHOD, METHOD OF DETERMINING ROTARY COATING CONDITION, AND MASK BLANK例文帳に追加
回転塗布方法、及び回転塗布条件決定方法、並びにマスクブランク - 特許庁
Thus, the condition mask field in each microinstruction will have 1 bit.発音を聞く 例文帳に追加
このように、それぞれのマイクロ命令の条件マスクフィールドは１ビットを要する。 - コンピューター用語辞典
METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, PROGRAM FOR CORRECTING MASK PATTERN, DEVICE FOR CORRECTING MASK PATTERN, METHOD FOR SETTING EXPOSURE CONDITION, PROGRAM FOR SETTING EXPOSURE CONDITION, DEVICE FOR SETTING EXPOSURE CONDITION, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, PROGRAM FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND DEVICE FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マスクパターン補正方法、マスクパターン補正プログラム、マスクパターン補正装置、露光条件設定方法、露光条件設定プログラム、露光条件設定装置、半導体装置製造方法、半導体装置製造プログラムおよび半導体装置製造装置 - 特許庁
METHOD FOR INSPECTING MASK PATTERN, METHOD FOR VERIFYING EXPOSURE CONDITION, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マスクパターン検査方法、露光条件検証方法、および半導体装置の製造方法 - 特許庁
MASK VERIFICATION METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND CONTROL PROGRAM FOR EXPOSURE CONDITION例文帳に追加
マスク検証方法、半導体装置の製造方法及び露光条件の調整プログラム - 特許庁
When a mask processing is performed, the mask processing is done under the compressed condition by filling the memory with these encoded data blocks.例文帳に追加
マスク処理を行う場合は、これら符号化後のデータブロックをメモリ埋めすることにより、圧縮した状態のままマスク処理を行う。 - 特許庁
In addition, the opening part of the pocket part may open on the mask body side, and under the mounting condition, may be closed on the back face of the mask body.例文帳に追加
なお、ポケット部の開口部は、マスク本体側で開口し、装着状態において、マスク本体の背面で閉じられていてもよい。 - 特許庁
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