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channel PMOSFETとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 チャネルPMOSFET
「channel PMOSFET」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 10件
To realize a channel concentration profile of a pMOSFET having a metal gate electrode structure and a buried channel structure as desired.例文帳に追加
金属ゲート電極構造および埋め込みチャネル構造を有するpMOSFETのチャネル濃度プロファイルを所望通り実現する。 - 特許庁
The positive fixed charge present in the gate insulating film 105 of the PMOSFET decreases the channel impurity concentration of the PMOSFET, resulting in an increased operation current.例文帳に追加
PMOSFETのゲート絶縁膜105中に存在する正の固定電荷によってPMOSFETのチャネル不純物濃度を減らすことができ、動作電流を増大することができる。 - 特許庁
To suppress a junction leakage and a contact leakage due to a misalignment while restraining the short channel effect, by reducing the dopant concentration of a substrate in a surface channel type PMOSFET.例文帳に追加
表面チャネル型のPMOSFETにおいて、基板不純物濃度を低減して、短チャネル効果を抑制しながら、接合リークや合わせずれに対するコンタクトリークを抑制すること。 - 特許庁
To provide a semiconductor device which can suppress short-channel effect in a PMOSFET and can assure an operation in a shorter gate length, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加
PMOSFETにおいて、ショートチャネル効果を抑制でき、より短いゲート長での動作を確保できる半導体装置及びその製造方法を提供することである。 - 特許庁
A surface channel-type transistor (e.g. CMOSFET or PMOSFET) which is previously determined in size so as to be smaller than, for instance, 0.25 μm is formed on a substrate 11.例文帳に追加
基板上に形成され予め定められたサイズ(例えば、0.25μm)以下表面チャネル型トランジスタ(例えば、CMOSFET又はPMOSFET)が形成されている。 - 特許庁
A PMOSFET 100 is formed on an active region segmented by an element isolation insulating film 16, and a stress providing film 17 for applying a compression stress in a gate length direction on the channel region of the PMOSFET 100 is formed on the upper part of the element isolation film 16.例文帳に追加
素子分離絶縁膜16によって区画された活性領域にPMOSFET100が形成されており、素子分離絶縁膜16の上部には、PMOSFET100のチャネル領域にゲート長方向に圧縮応力を印加する応力付与膜17が形成されている。 - 特許庁
A PMOSFET is equipped with a compressive strain Si-Ge channel layer 19 which is sandwiched in between P+ drain/source diffusion layers 18 is formed on the surface of the Si substrate 10.例文帳に追加
PMOSFETはSi基板10の表面にトランジスタのソース又はドレインであるp^+ 拡散層18に挟まれて圧縮歪みSi−Geチャネル層19が形成されている。 - 特許庁
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「channel PMOSFET」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 10件
In an SOI device, the geSiGe-SDE generates a horizontal (parallel to the plane of the gate's dielectric) pressure stress and a vertical (perpendicular to the plane of the gate's dielectric) tensile stress in a PMOSFET channel, thereby forming a structure that will make the PMOSFET performance improved.例文帳に追加
SOIデバイスにおいては、geSiGe−SDEは、水平方向の(ゲート誘電面に対して平行な)圧縮応力と、垂直方向の(該ゲート誘電面に対して直角の)引張り応力とをPMOSFETのチャネルに生成し、これによって、PMOSFET性能を向上させる構造を形成する。 - 特許庁
A film 16 including a first metal is formed in an NMOSFET formation area 80 and a PMOSFET formation area 82, and the film 16 is removed from the P-channel MOSFET formation area 82.例文帳に追加
NMOSFET形成領域80とPMOSFET形成領域82に第1金属を含む膜16を形成し、PチャネルMOSFET形成領域82から膜16を除去する。 - 特許庁
The semiconductor has a structure in which a bias voltage is applied to a channel area in synchronization with switching of an input signal Vin to a gate G between a pMOSFET 10 and nMOSFET 20 of a CMOS invertor 1.例文帳に追加
CMOSインバータ1のpMOSFET10およびnMOSFET20をそれぞれ、ゲートGへの入力信号Vinの切替えに同期してチャネル領域にバイアス電圧が印加される構造とする。 - 特許庁
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チャネルPMOSFET
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