dissolution processesとは 意味・読み方・使い方

To make it possible to simplify processes, speed up the rate of dissolution and enable a significant reduction in the volume of high-level radioactive waste generated because it is unnecessary to declad a fuel in advance of fuel dissolution.例文帳に追加

燃料溶解に先立って予め脱被覆を行う必要が無く、工程を簡素化でき、溶解速度が速く、高レベル廃棄物発生量を大幅に削減できるようにする。 - 特許庁

The duplicate of a topographical structure on a master is formed and transferred when needed on a receiving substrate by using one of a variety of printing processes or imprinting processes followed by dissolution thereof.例文帳に追加

本発明では、マスター上のトポグラフィ構造の複製物が形成され、必要とされるときに、種々の印刷技術又はインプリント技術の１つを用いて、受け基板上に転写され、次いで溶解される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a metal-coated substrate capable of reducing manufacturing costs without undergoing troublesome processes, such as the film formation of a carrier layer and dissolution removal.例文帳に追加

キャリア層の成膜および溶解除去などの面倒な工程を経ずに、製造コストの低減を図ることのできる、金属被覆基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

PROCESS FOR DISSOLUTION OF CHITOSAN OR DAC IN WATER, AQUEOUS SOLUTION THEREOF, AND PROCESSES FOR FORMATION OF FILM, PROCESS FOR COVERING SOLID SURFACE AND PROCESS FOR FORMATION OF THREAD USING CHITOSAN OR DAC AQUEOUS SOLUTION例文帳に追加

キトサンまたはＤＡＣの水溶解方法とその水溶液、キトサンまたはＤＡＣ水溶液による膜の形成方法と固体表面の被覆方法並びに糸の形成方法 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter by which, upon forming a transparent ink layer in each pixel, a variation of a film thickness of each color is decreased, and dissolution between a color ink and the transparent ink is prevented, and the number of manufacturing processes is decreased.例文帳に追加

カラーフィルタ製造方法において、画素毎に透明インク層を形成する際、色毎の膜厚ばらつきを低減し、着色インクと透明インクとの溶解を防ぐとともに、製造工程削減を図る。 - 特許庁

The analyzing method is characterized by that a sample pretreatment method is used having processes of dissolution of a fluorite sample, removal of a great deal of coexisting substances (such as Ca, F and solvent used for dissolution), and concentration of residual contained impurity elements, and that an ICP-MS(an inductively coupled plasma mass spectrometer) is used as an analyzer.例文帳に追加

本発明の一側面としての分析方法は、蛍石試料の溶液化、多量共存物（Ｃａ、Ｆ及び溶解に用いた溶媒など）の除去、及び残る含有不純物元素の濃縮過程を持つ試料前処理法と、分析装置としてＩＣＰ−ＭＳ（誘導結合プラズマ質量分析装置）を用いることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is used for fabrication processes of semiconductors such as ICs, for manufacturing circuit boards of liquid crystals, thermal heads or the like and other photofabrication processes, the composition being excellent in the dependency on a pattern density, line edge roughness and a pattern profile and improved in the sensitivity in exposure to EUV light and a dissolution contrast; and to provide a pattern forming method using the photosensitive composition.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、疎密依存性、ラインエッジラフネス、パターンプロファイルに優れ、且つＥＵＶ光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物、当該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁