etching stepとは 意味・読み方・使い方

In the step (G), the etching resist is removed.例文帳に追加

（Ｇ）エッチングレジストを除去する工程。 - 特許庁

The selective etching step is performed by a two-step plasma etching method of first anisotropic etching and second isotropic etching having different etching conditions.例文帳に追加

選択食刻工程は食刻条件が異なる第１の異方性食刻と第２の等方性食刻からなる二段階のプラズマ食刻方法で行なう。 - 特許庁

At etching a material using a two step etching method, a first etching step is terminated before a ground layer is exposed and a system moves to a second etching step, with the condition that etching speed be slower than the first etching step.例文帳に追加

二段階エッチング法を用いて被エッチング材のエッチングを行う際に、第１エッチング段階を下地層が露出する前に終了し、エッチング速度が前記第１エッチング段階より遅い条件で第２エッチング段階に移行する。 - 特許庁

A third etching step employs an etching method in which an etching rate to the first to third films is higher than that in the second etching step.例文帳に追加

第３のエッチング工程には、第１乃至第３の膜に対するエッチングレートが第２のエッチング工程よりも高いエッチング方法を採用する。 - 特許庁

DETECTION METHOD OF ETCHING END POINT IN DRY SEMICONDUCTOR ETCHING STEP例文帳に追加

半導体乾式エッチング工程でのエッチング終了点の検出方法 - 特許庁

A microfabrication method for a substrate comprises a thin film formation step, a V-shaped trench formation step, a thin film etching step, a substrate etching step, and a thin film elimination step.例文帳に追加

基板の微細加工方法は、薄膜形成過程と、Ｖ字溝形成過程と、薄膜エッチング過程と、基板エッチング過程と、薄膜除去過程と、からなる。 - 特許庁

The method for manufacturing the laminated silicon substrate comprises a step of alkali-etching silicon wafers 11, 12.例文帳に追加

シリコンウェーハ１１，１２をアルカリエッチする。 - 特許庁

Wet etching can be employed in the step for etching the surface.例文帳に追加

また、表面をエッチングする工程をウエットエッチングにより行なうことができる。 - 特許庁