evaporation potentialとは 意味・読み方・使い方

By applying a direct-current bias voltage of a positive potential between the part with insufficient heating and the electrode 22, the evaporation rate of the sublimable vapor source material 17 in the width direction can be made uniform.例文帳に追加

加熱が不十分な部分と電極２２との間に正電位の直流のバイアス電圧を印加することで、昇華性蒸発原料１７の幅方向の蒸発速度が均一化する。 - 特許庁

In this vacuum arc evaporation system 10c, a cylindrical or annular magnetic member 46 is attached to the outside peripheral part of a cylindrical or annular anode 36 surrounding the front of a cathode 30 of the vacuum arc evaporation source 20, and the electric potential of the anode 36 is made identical with that of the magnetic member 46.例文帳に追加

この真空アーク蒸発装置１０ｃでは、真空アーク蒸発源２０の陰極３０の前方を取り囲む円筒状または円環状の陽極３６の外周部に、円筒状または円環状の磁性部材４６を取り付け、両者３６、４６を同電位にしている。 - 特許庁

Evaporated titanium particles formed in an evaporation source 3 are deposited on substrates W, to which a negative bias potential is applied, in a plasma of argon or an argon-nitrogen mixture.例文帳に追加

本発明においては、アルゴン又はアルゴン及び窒素の混合ガスのプラズマ中で、負のバイアス電位が印加された基板Ｗ上に、蒸発源３にて蒸発させたチタンの蒸発粒子を蒸着させる。 - 特許庁

The evaporated titanium particles formed in the evaporation source 3 are ionized by a plasma of argon or an argon-nitrogen mixture, and then are deposited on surfaces of the substrates to which a negative bias potential is applied.例文帳に追加

蒸発源３において形成されたチタンの蒸発粒子は、アルゴン又はアルゴン及び窒素の混合ガスのプラズマによってイオン化され、負のバイアス電位が印加された基板の表面に蒸着される。 - 特許庁

Because of provision of this wall 5 on the convergence electrode 9 so that the tungsten emitted from the filament 2 owing to evaporation or ion bombardment does not make evaporative attachment to the inner wall of a glass bulb 3 in the neighbourhood of the convergence electrode 9, no tungsten evaporation film having unstable potential will be formed on the inner wall of the glass bulb 3.例文帳に追加

フィラメント２から蒸発またはイオン衝撃によって放出されるタングステンが、集束電極９の近傍のガラスバルブ３の内壁に蒸着しないように、集束電極９にＷ飛散防止壁５が設けられているので、ガラスバルブ３の内壁に、電位不安定なタングステン蒸着膜が形成されない。 - 特許庁